Formation and microstructures of unique nanoporous AAO films fabricated by high voltage anodization

Journal of Materials Chemistry

Volumn 21, Issue 26, 2011, Pages 9661-9666

  Yi, Li ^a   Zhiyuan, Ling ^a   Xing, Hu ^a   Yisen, Liu ^a   Yi, Chang ^a  

^a SOUTH CHINA UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ALUMINIUM HYDROXIDE; ANODIC ALUMINIUM OXIDE; ANODIZATION VOLTAGES; ANODIZATIONS; BARRIER LAYERS; COMPETITIVE GROWTH; HIGH VOLTAGE; INTERPORE DISTANCES; LINEAR RELATIONSHIPS; NANO CHANNELS; NANO-POROUS; NON-LINEAR RELATIONSHIPS; OXALIC ACID;

ALUMINUM; FILM GROWTH; MICROSTRUCTURE; ORGANIC ACIDS; OXIDE FILMS;

ANODIC OXIDATION;

EID: 79959487343     PISSN: 09599428     EISSN: 13645501     Source Type: Journal    
DOI: 10.1039/c1jm10781j     Document Type: Article

References (37)

1. F. Keller M. S. Hunter D. L. Robinson J. Electrochem. Soc. 1953 100 411
2. J. W. Diggle T. C. Downie C. W. Goulding Chem. Rev. 1969 69 365
3. J. P. O'Sullivan G. C. Wood Proc. R. Soc. London, Ser. A 1970 317 511
4. G. E. Thompson R. C. Furneaux G. C. Wood J. A. Richardson J. S. Goode Nature 1978 272 433
5. G. E. Thompson G. C. Wood Nature 1981 290 230
6. H. Masuda K. Fukuda Science 1995 268 1466
7. Z. X. Su G. Hähner W. Z. Zhou J. Mater. Chem. 2008 18 5787
8. Y. Li G. W. Meng L. D. Zhang Appl. Phys. Lett. 2000 76 2011
9. L. Zhao M. Yosef M. Steinhart P. Göring H. Hofmeister U. Gösele S. Schlecht Angew. Chem., Int. Ed. 2006 45 311
10. G. Q. Ding W. Z. Shen M. J. Zheng D. H. Fan Appl. Phys. Lett. 2006 88 103
11. Z. Y. Ling S. S. Chen J. C. Wang Y. Li Chin. Sci. Bull. 2008 53 183
12. A. P. Li F. Müller A. Birner K. Nielsch U. Gösele J. Appl. Phys. 1998 84 6023
13. K. Nielsch J. Choi K. Schwirn R. B. Wehrspohn U. Gösele Nano Lett. 2002 2 677
14. Z. X. Su W. Z. Zhou J. Mater. Chem. 2011 21 357
15. W. Lee R. Ji U. Gösele K. Nielsch Nat. Mater. 2006 5 741
16. S. Z. Chu K. Wada S. Inoue M. Isogai A. Yasumori Adv. Mater. 2005 17 2115
17. Y. B. Li M. J. Zheng L. Ma Appl. Phys. Lett. 2007 91 073109
18. Y. Li Z. Y. Ling J. C. Wang S. S. Chen X. Hu X. H. He Chin. Sci. Bull. 2008 53 1608
19. Y. Li Z. Y. Ling S. S. Chen X. Hu X. H. He Chem. Commun. 2010 46 309
20. Y. Li Z. Y. Ling S. S. Chen J. C. Wang Nanotechnology 2008 19 225604
21. Y. B. Li M. J. Zheng L. Ma W. Z. Shen Nanotechnology 2006 17 5101
22. S. Ono M. Saito H. Asoh Electrochem. Solid-State Lett. 2004 7 B21
23. S. Ono M. Saito M. Ishiguro H. Asoh J. Electrochem. Soc. 2004 151 B473
24. X. F. Zhu Y. Song L. Liu C. Y. Wang J. Zheng H. B. Jia X. L. Wang Nanotechnology 2009 20 475303
25. Z. X. Su M. Bühl W. Z. Zhou J. Am. Chem. Soc. 2009 131 8697
26. Y. Li Z. Y. Ling X. Hu Y. S. Liu Y. Chang Chem. Commun. 2011 47 2173
27. Z. X. Su W. Z. Zhou Adv. Mater. 2008 20 3663
28. F. Le Coz L. Arurault S. Fontorbes V. Vilar L. Datas P. Winterton Surf. Interface Anal. 2010 42 227
29. O. Jessensky F. Müller U. Gösele Appl. Phys. Lett. 1998 72 1173
30. Y. Shin S. Lee Nano Lett. 2008 8 3171
31. J. M. Macak H. Tsuchiya L. Taveira S. Aldabergerova P. Schmuki Angew. Chem., Int. Ed. 2005 44 7463
32. J. J. Schneider J. Engstler K. P. Budna C. Teichert S. Franzka Eur. J. Inorg. Chem. 2005 2352
33. J. Choi Y. Luo R. B. Wehrspohn R. Hillebrand J. Schilling U. Gösele J. Appl. Phys. 2003 94 4757
34. W. Lee R. Scholz U. Gösele Nano Lett. 2008 8 2155
35. S. S. Chen Z. Y. Ling X. Hu H. Yang Y. Li J. Mater. Chem. 2010 20 1794
36. S. S. Chen Z. Y. Ling X. Hu Y. Li J. Mater. Chem. 2009 19 5717
37. H. Takahashi M. Nagayama H. Akahori A. Kitahara J. Electron Microsc. 1973 22 149