Electrohydrodynamic deposition of polymeric droplets under low-frequency pulsation

Langmuir

Volumn 27, Issue 10, 2011, Pages 6541-6548

  Xu, Lei ^a,b   Wang, Xiang ^a   Lei, Tingping ^a   Sun, Daoheng ^a   Lin, Liwei ^a,c  

^a XIAMEN UNIVERSITY   (China)

^b JINGDEZHEN CERAMIC INSTITUTE   (China)

^c UNIVERSITY OF CALIFORNIA   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

DESIGN GUIDELINES; DRIVING VOLTAGES; DROPLET DEPOSITION; DROPLET EJECTION; INNER DIAMETERS; LOCATION CONTROL; LOW FREQUENCY; LOW-FREQUENCY PULSATIONS; NEAR-FIELD; POLYMER DROPLETS; POLYMERIC DROPLETS; POTENTIAL APPLICATIONS; PULSATING VOLTAGE; SUPPLY RATE;

ELECTROHYDRODYNAMICS; NEEDLES;

DROPS;

EID: 79958084389     PISSN: 07437463     EISSN: 15205827     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/la201107j     Document Type: Article

References (32)

1. Yogi, O.; Kawakami, T.; Mizuno., A. J. Electrostatics 2006, 64, 634-638.
2. Lee, D. Y.; Shin, Y. S.; Park, S. E.; Yu, T. U.; Hwang., J. Appl. Phys. Lett. 2007, 90, 081905.
3. Choi, J.; Kim, Y. J.; Lee, S.; Son, S. U.; Ko, H. S.; Nguyen, V. D.; Byun., D. Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 193508.
4. Ahmad, Z.; Huang, J.; Thian, E. S.; Edirisinghe, M. J.; Jayasinghe, S. N.; Best, S. M.; Bonfield, W.; Brooks, R. A.; Rushton., N. J. Biomed. Nanotechnol. 2008, 4, 185-195.
5. Wang, D. Z.; Jayasinghe, S. N.; Edirisinghe., M. J. Rev. Sci. Instrum. 2005, 76, 075105.
6. Rayleigh., L. Philos. Mag. 1882, 14, 184-186.
7. Zeleny., J. Phys. Rev. 1914, 3, 69-91.
8. Poon, H. F. Princeton University, 2002.
9. Sun, D.; Chang, C.; Li, S.; Lin., L. Nano Lett. 2006, 6, 839-842.
10. Garg, P.; Klee, D.; Keul, H.; Moller., M. Macromol. Mater. Eng. 2009, 294, 679-690.
11. Wu, D.; Wang, L.; D. Sun IEEE-NANOHong Kong 2007, pp 271-274.
12. Jayasinghe, S. N.; Edirisinghe, M. J.; De Wilde., T Mater. Res. Innovat. 2002, 6, 92-95.
13. Lee, D. Y.; Hwang, E. S.; Yu, T. U.; Kim, Y. J.; Hwang., J. Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 2006, 82, 671-674.
14. Ahmad, Z.; Nangrejo, M.; Edirisinghe, M.; Stride, E.; Colombo, P.; Zhang., H. B. Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 2009, 97, 31-37.
15. Youn, D. H.; Kim, S. H.; Yang, Y. S.; Lim, S. C.; Kim, S. J.; Ahn, S. H.; Sim, H. S.; Ryu, S. M.; Shin, D. W.; Yoo., J. B. Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 2009, 96, 933-938.
16. Lee, S.; Byun, D.; Jung, D.; Choi, J.; Kim, Y.; Yang, J. H.; Son, S. U.; Tran, S. B. Q.; Ko., H. S. Sens. Actuator, A 2008, 141, 506-514.
17. Zheng, G.; Li, W.; Wang, X.; Wu, D.; Sun, D.; Lin., L. J. Phys. D: Appl. Phys. 2010, 43, 415501.
18. Chang, C.; Tran, V. H.; Wang, J.; Fuh, Y.-K.; Lin., L. Nano Lett. 2010, 10, 726-731.
19. Korkut, S.; Saville, D. A.; Aksay., I. A. Langmuir 2008, 24 12196-12201.
20. Wang, D. Z.; Jayasinghe, S. N.; Edirisinghe., M. J. J. Nanopart. Res. 2005, 7, 301-306.
21. Park, J. U.; Hardy, M.; Kang, S. J.; Barton, K.; Adair, K.; Mukhopadhyay, D. K.; Lee, C. Y.; Strano, M. S.; Alleyne, A. G.; Georgiadis, J. G.; Ferreira, P. M.; Rogers., J. A. Nat. Mater. 2007, 6, 782-789.
22. Chang, C.; Limkrailassiri, K.; Lin., L. Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 123111.
23. Chen, C. H.; Saville, D. A.; Aksay., I. A. Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 124103.
24. Pickard., W. F. J. Appl. Phys. 1961, 32, 1888-1893.
25. Palmer., F. Am. J. Phys. 1961, 30, 133-137.
26. Huneiti, Z., Machowski, W., and Balachandran, W. IEEE 31th IAS Annual Meeting, San Diego, 1996, Vol 3, pp 1768-1774.
27. Huneiti, Z., Balachandran, W., Machowski, W., and Arnold, P. IEEE 30th IAS Annual Meeting, Orlando, 1995, Vol 2, pp 1493-1499.
28. Li., J. L. J. Electrostat. 2006, 64, 44-52.
29. Juraschek, R.; Rollgen., F. W. Int. J. Mass. Spectrom. 1998, 177, 1-15.
30. Kim, J.; Oh, H.; Kim., S. S. J. Aerosol Sci. 2008, 39, 819-825.
31. Coelho, R.; Debeau., J.; Phys., J.; Appl., D Phys. 1971, 4, 1266-1280.
32. Escure, C.; Vardelle, M.; Fauchais., P. Plasma Chem. Plasma Phys. 2003, 23, 185-221.