Fabrication and characterization of gated field emitter arrays with self-aligned carbon nanotubes grown by chemical vapor deposition

Applied Physics Letters

Volumn 81, Issue 11, 2002, Pages 2070-2072

  Han, In Taek ^a   Kim, Ha Jin ^a   Park, Young Jun ^a   Lee, Naesung ^a   Jang, Jae Eun ^a   Kim, Jung Woo ^a   Jung, Jae Eun ^a   Kim, Jong Min ^a  

^a Samsung Advanced Institute of Technology (SAIT)   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ALLOY CATALYST; ANODE VOLTAGES; CNT EMITTERS; FIELD EMISSION CURRENTS; FIELD EMITTER ARRAYS; GATE ELECTRODES; GLASS SUBSTRATES; SELF-ALIGNED; SELF-ALIGNED METHOD; THERMAL CHEMICAL VAPOR DEPOSITION;

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; REFRACTORY METAL COMPOUNDS; SUBSTRATES;

MULTIWALLED CARBON NANOTUBES (MWCN);

EID: 79955996919     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1506408     Document Type: Article

References (14)

1. I. Brodie and P. R. Schwoebel, Proc. IEEE 82, 1006 (1994). iee IEEPAD 0018-9219
2. H. F. Gray, C. T. Sung, and G. W. Jones, J. SID, 1409 (1993).
3. N. Kumar, C. Xle, N. Potter, A. Krishnan, C. Hibert, and D. Elchman, J. SID, 464 (1993).
4. W. A. de Heer, A. Chatelain, and D. Uqarte, Science 270, 1179 (1995). sci SCIEAS 0036-8075
5. W. B. Choi, D. S. Chung, J. H. Kang, H. Y. Kim, Y. W. Jin, I. T. Han, Y. H. Lee, J. E. Jung, N. S. Lee, G. S. Park, and J. M. Kim, Appl. Phys. Lett. 75, 3129 (1999). apl APPLAB 0003-6951
6. Y. Chen, D. T. Shaw, and L. Guo, Appl. Phys. Lett. 76, 2469 (2000). apl APPLAB 0003-6951
7. Q. H. Wang, M. Yan, and R. P. H. Chang, Appl. Phys. Lett. 78, 1294 (2001). apl APPLAB 0003-6951
8. D. S. Chung, S. H. Park, H. W. Lee, J. H. Choi, S. N. Cha, J. W. Kim, J. E. Jang, K. W. Min, S. H. Cho, M. J. Yoon, J. S. Lee, C. K. Lee, J. H. Yoo, Jong-Min Kim, J. E. Jung, Y. W. Jin, Y. J. Park, and J. B. You, Appl. Phys. Lett. 80, 4045 (2002). apl APPLAB 0003-6951
9. X. Xu and G. R. Brandes, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 59, 107 (1998). mrs MRSPDH 0272-9172
10. Y. H. Lee, Y. T. Jang, D. H. Kim, J. H. Ahn, and B. K. Ju, Adv. Mater. 13, 489 (2001). amt ADVMEW 0935-9648
11. M. A. Guillorn, M. L. Simpson, G. J. Bordonaro, V. I. Merkulov, L. R. Baylor, and D. H. Lowndes, J. Vac. Sci. Technol. B 19, 573 (2001). jvb JVTBD9 0734-211X
12. M. A. Guillorn, A. V. Melechko, V. I. Merkulov, E. D. Ellis, C. L. Britton, M. L. Simpson, D. H. Lowndes, and L. R. Bayor, Appl. Phys. Lett. 79, 3506 (2001). apl APPLAB 0003-6951
13. Y.-J. Park, I. T. Han, H. J. Kim, Y. S. Woo, N. S. Lee, Y. W. Jin, J. E. Jung, J. H. Choi, D. S. Jung, C. Y. Park, and J. M. Kim, Jpn. J. Appl. Phys. (in press).
14. K. B. K. Teo, M. Chhowalla, S. B. Lee, D. G. Hasko, H. Ahmed, G. A. J. Amaratunga, W. I. Milne, G. Pirio, P. Legagneux, and D. Pribat, Proceedings of the 2001 Materials Research Society fall meeting, Boston, 2001 (in press).