Thermally stimulated H emission and diffusion in hydrogenated amorphous silicon

EPL

Volumn 79, Issue 3, 2007, Pages

  Abtew, T A ^a   Inam, F ^a   Drabold, D A ^a  

^a OHIO UNIVERSITY   (United States)

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EID: 79051470262     PISSN: 02955075     EISSN: 12864854     Source Type: Journal    
DOI: 10.1209/0295-5075/79/36001     Document Type: Article

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