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Volumn 82, Issue 20, 2010, Pages

Physical origin of thickness-controlled sequential phase formation during reactive diffusion: Atomistic modeling

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EID: 78649755581     PISSN: 10980121     EISSN: 1550235X     Source Type: Journal    
DOI: 10.1103/PhysRevB.82.205431     Document Type: Article
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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.