-
1
-
-
34249332414
-
-
M. R. Krames, O. B. Shchekin, R. M. Mach, G. O. Mueller, L. Zhou, G. Harbers and M. G. Craford, IEEE/OSA J. Disp. Technol. 3, 160 (2007).
-
(2007)
IEEE/OSA J. Disp. Technol
, vol.3
, pp. 160
-
-
Krames, M.R.1
Shchekin, O.B.2
Mach, R.M.3
Mueller, G.O.4
Zhou, L.5
Harbers, G.6
Craford, M.G.7
-
2
-
-
43249094571
-
-
P. Niu, Y. Li, X. Li, H. Liu, H. Tian, T. Gao and G. Yang, Proc. SPIE 6828, 682811 (2007).
-
(2007)
Proc. SPIE
, vol.6828
, pp. 682811
-
-
Niu, P.1
Li, Y.2
Li, X.3
Liu, H.4
Tian, H.5
Gao, T.6
Yang, G.7
-
3
-
-
0033322075
-
-
M. Boroditsky, R. Vrijen, T. F. Krauss, R. Coccioli, R. Bhat and E. Yablonovitch, IEEE/OSA J. Lightwave Tech. 17, 2096 (1999).
-
(1999)
IEEE/OSA J. Lightwave Tech
, vol.17
, pp. 2096
-
-
Boroditsky, M.1
Vrijen, R.2
Krauss, T.F.3
Coccioli, R.4
Bhat, R.5
Yablonovitch, E.6
-
6
-
-
0042919613
-
-
M. Rattier, H. Benisty, E. Schowoob, C. Weisbuch, T. F. Krauss, C. J. M. Smith, R. Houdre and U. Oesterle, App. Phys. Lett. 83, 1283 (2003).
-
(2003)
App. Phys. Lett
, vol.83
, pp. 1283
-
-
Rattier, M.1
Benisty, H.2
Schowoob, E.3
Weisbuch, C.4
Krauss, T.F.5
Smith, C.J.M.6
Houdre, R.7
Oesterle, U.8
-
7
-
-
32944477370
-
-
A. David, T. Fujii, E. Matioli, R. Sharma, S. Nakamura, S. P. DenBaars, C. Weisbuch and H. Benisty, App. Phys. Lett. 88, 073510 (2006).
-
(2006)
App. Phys. Lett
, vol.88
, pp. 073510
-
-
David, A.1
Fujii, T.2
Matioli, E.3
Sharma, R.4
Nakamura, S.5
Denbaars, S.P.6
Weisbuch, C.7
Benisty, H.8
-
8
-
-
0042926609
-
-
T. N. Oder, J. Shakys, J. Y. Lin and H. X. Jiang, Appl. Phys. Lett. 83, 1231 (2003).
-
(2003)
Appl. Phys. Lett
, vol.83
, pp. 1231
-
-
Oder, T.N.1
Shakys, J.2
Lin, J.Y.3
Jiang, H.X.4
-
10
-
-
33748262432
-
-
W. Lee, R. Ji, U. Gosele and K. Nielsch, Nat. Mater. 5, 741 (2006).
-
(2006)
Nat. Mater
, vol.5
, pp. 741
-
-
Lee, W.1
Ji, R.2
Gosele, U.3
Nielsch, K.4
-
11
-
-
0037084049
-
-
J. Liang, H. Chik, A. Yin and J. Xu, J. Appl. Phys. 91, 2544 (2002).
-
(2002)
J. Appl. Phys
, vol.91
, pp. 2544
-
-
Liang, J.1
Chik, H.2
Yin, A.3
Xu, J.4
-
13
-
-
4344594315
-
-
Y. D. Wang, S. J. Chua, M. S. Sander, P. Chen, S. Tripa-thy and C. G. Fonstad, Appl. Phys. Lett. 85, 816 (2004).
-
(2004)
Appl. Phys. Lett
, vol.85
, pp. 816
-
-
Wang, Y.D.1
Chua, S.J.2
Sander, M.S.3
Chen, P.4
Tripa-Thy, S.5
Fonstad, C.G.6
-
14
-
-
40649105045
-
-
M. Jung, S. Lee, Y. T. Byun, Y. M. Jhon, S. H. Kim, D. H. Woo and S. I. Mho, Microelectron. J. 39, 526 (2008).
-
(2008)
Microelectron. J
, vol.39
, pp. 526
-
-
Jung, M.1
Lee, S.2
Byun, Y.T.3
Jhon, Y.M.4
Kim, S.H.5
Woo, D.H.6
Mho, S.I.7
-
15
-
-
35348875974
-
-
K. Kim, J. Choi, T. S. Bea, M. Jung and D. H. Woo, Jpn. J. Appl. Phys. 46, 6682 (2007).
-
(2007)
Jpn. J. Appl. Phys
, vol.46
, pp. 6682
-
-
Kim, K.1
Choi, J.2
Bea, T.S.3
Jung, M.4
Woo, D.H.5
-
16
-
-
0012039258
-
-
S. Ohki, M. Oda, H. Akiya and T. Shibata, J. Vac. Sci. Technol. B 5, 1611 (1987).
-
(1987)
J. Vac. Sci. Technol. B
, vol.5
, pp. 1611
-
-
Ohki, S.1
Oda, M.2
Akiya, H.3
Shibata, T.4
-
18
-
-
33746623964
-
-
H. W. Huang, H. C. Kuo, J. T. Chu, C. F. Lai, C. C. Kao, T. C. Lu, S. C. Wang, R. J. Tsai, C. C. Yu and C. F. Lin, Nanotechnology 17, 2998 (2006).
-
(2006)
Nanotechnology
, vol.17
, pp. 2998
-
-
Huang, H.W.1
Kuo, H.C.2
Chu, J.T.3
Lai, C.F.4
Kao, C.C.5
Lu, T.C.6
Wang, S.C.7
Tsai, R.J.8
Yu, C.C.9
Lin, C.F.10
|