20 nm pitch directed block copolymer assembly using solvent annealing for bit patterned media

Journal of Photopolymer Science and Technology

Volumn 23, Issue 2, 2010, Pages 145-148

  Bosworth, Joan K ^a   Dobisz, Elizabeth ^a   Ruiz, Ricardo ^a  

^a HITACHI AMERICA LTD   (United States)

Author keywords

Block copolymer; Chemical epitaxy; Directed self assembly; Self assembly; Solvent annealing

Indexed keywords

EID: 77957070771     PISSN: 09149244     EISSN: 13496336     Source Type: Journal    
DOI: 10.2494/photopolymer.23.145     Document Type: Article

References (20)

1. Terris, B. D.; Thomson, T., J. Phys. D: Appl. Phys., 38 (2005) R199.
2. Ruiz, R.; Kang, H.; Detcheverry, F. A.; Dobisz, E.; Kercher, D. S.; Albrecht, T. R.; de Pablo, J. J.; Nealey, P. F., Science, 321 (2008) 936.
3. Cheng, J. Y.; Rettner, C. T.; Sanders, D. P.; Kim, H.-C.; Hinsberg, W. D., Adv. Mater., 20 (2008) 3155.
4. Hellwig, O.; Bosworth, J. K.; Dobisz, E.; Kercher, D.; Hauet, T.; Zeltzer, G.; Risner-Jamtgaard, J. D.; Yaney, D.; Ruiz, R., Appl. Phys. Lett., 96 (2010) 052511.
5. Park, S.; Lee, D. H.; Kim, B.; Hong, S. W.; Jeong, U.; Xu, T.; Russell, T. P., Science, 323 (2009) 1030.
6. Park, S.; Kim, B.; Yavuzcetin, O.; Tuominen, M. T.; Russell, T. P., ACS Nano, 2 (2008) 1363.
7. Tokarev, I.; Krenek, R.; Burkov, Y.; Schmeisser, D.; Sidorenko, A.; Minko, S.; Stamm, M., Macromol., 38 (2005) 507-516.
8. Bosworth, J. K.; Paik, M. Y.; Ruiz, R.; Schwartz, E. L.; Huang, J. Q.; Ko, A. W.; Smilgies, D.-M.; Black, C. T.; Ober, C. K., ACS Nano, 2 (2008) 1396.
9. Bosworth, J. K.; Black, C. T.; Ober, C. K., ACS Nano, 3 (2009) 1761.
10. Park, S.; Kim, B.; Xu, J.; Hofmann, T.; Ocko, B. M.; Russell, T. P., Macromol., 42 (2009) 1278.
11. Wang, Y.; Hong, X.; Liu, B.; Ma, C.; Zhang, C., Macromol., 41 (2008) 5799.
12. Hexemer, A.; Stein, G. A.; Kramer, E. J.; Magonov, S. Macromol., 38 (2005) 7083.
13. Li, M.; Douki, K.; Goto, K.; Li, X.; Coenjarts, C.; Smilgies, D.-M.; Ober, C. K., Chem. Mater., 16 (2004) 3800.
14. Whitmore, M. D.; Noolandi, J., J. Chem. Phys., 93 (1990) 2946.
15. Banaszak, M.; Whitmore, M. D., Macromol., 25 (1992) 3406.
16. Lodge, T. P.; Hanley, K. J.; Pudil, B.; Alahapperuma, V., Macromol., 36 (2003) 816.
17. Lai, C.; Russel, W. B.; Register, R. A., Macromol., 35 (2002) 841.
18. Park, S.-M.; Craig, G. S. W.; Liu, C.-C.; La, Y.-H.; Ferrier, N. J.; Nealey, P. F., Macromol., 41 (2008) 9118.
19. Park, S. M.; Craig, G. S. W.; La, Y.-H.; Solak, H. H.; Nealey, P. F., Macromol., 40 (2007) 5084.
20. Yang, J. K. W.; Jung, Y. S.; Chang, J.-B.; Mickiewicz, R. A.; Alexander-Katz, A.; Ross, C. A.; Berggren, K. K., Nature Nanotech., 5 (2010) 256.