-
4
-
-
0037721730
-
-
van Santen, H.; Neijzen, J. H. M. Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 2003, 42, 1110
-
(2003)
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
, vol.42
, pp. 1110
-
-
Van Santen, H.1
Neijzen, J.H.M.2
-
5
-
-
0033685956
-
-
Fukuda, Y.; Watanabe, T.; Wakimoto, T.; Miyaguchi, S.; Tsuchida, M. Synth. Met. 2000, 111-112, 1
-
(2000)
Synth. Met.
, vol.111-112
, pp. 1
-
-
Fukuda, Y.1
Watanabe, T.2
Wakimoto, T.3
Miyaguchi, S.4
Tsuchida, M.5
-
6
-
-
70350335152
-
-
Haldi, A.; Kim, J. B.; Domercq, B.; Kulkarni, A. P.; Barlow, S.; Gifford, A. P.; Jenekhe, S. A.; Marder, S. R.; Kippelen, B. J. Disp. Technol. 2009, 5, 120
-
(2009)
J. Disp. Technol.
, vol.5
, pp. 120
-
-
Haldi, A.1
Kim, J.B.2
Domercq, B.3
Kulkarni, A.P.4
Barlow, S.5
Gifford, A.P.6
Jenekhe, S.A.7
Marder, S.R.8
Kippelen, B.9
-
8
-
-
70350741253
-
-
Wee, K.-R.; Ahn, H.-C.; Son, H.-J.; Han, W.-S.; Kim, J.-E.; Cho, D. W.; Kang, S. O. J. Org. Chem. 2009, 74, 8472
-
(2009)
J. Org. Chem.
, vol.74
, pp. 8472
-
-
Wee, K.-R.1
Ahn, H.-C.2
Son, H.-J.3
Han, W.-S.4
Kim, J.-E.5
Cho, D.W.6
Kang, S.O.7
-
9
-
-
17844386030
-
-
Chao, T.-C.; Lin, Y.-T.; Yang, C.-Y.; Hung, T. S.; Chou, H.-C.; Wu, C.-C.; Wong, K.-T. Adv. Mater. 2005, 17, 992
-
(2005)
Adv. Mater.
, vol.17
, pp. 992
-
-
Chao, T.-C.1
Lin, Y.-T.2
Yang, C.-Y.3
Hung, T.S.4
Chou, H.-C.5
Wu, C.-C.6
Wong, K.-T.7
-
10
-
-
33748070840
-
-
Chen, C.-T.; Wei, Y.; Lin, J.-S.; Moturu, M. V. R. K.; Chao, W.-S.; Tao, Y.-T.; Chien, C.-H. J. Am. Chem. Soc. 2006, 128, 10992
-
(2006)
J. Am. Chem. Soc.
, vol.128
, pp. 10992
-
-
Chen, C.-T.1
Wei, Y.2
Lin, J.-S.3
Moturu, M.V.R.K.4
Chao, W.-S.5
Tao, Y.-T.6
Chien, C.-H.7
-
11
-
-
65549136183
-
-
Hwu, J. R.; Hsu, Y. C.; Josephrajan, T.; Tsay, S.-C. J. Mater. Chem. 2009, 19, 3084
-
(2009)
J. Mater. Chem.
, vol.19
, pp. 3084
-
-
Hwu, J.R.1
Hsu, Y.C.2
Josephrajan, T.3
Tsay, S.-C.4
-
12
-
-
0000312767
-
-
Hoshino, S.; Ebata, K.; Furukawa, K. J. Appl. Phys. 2000, 87, 1968
-
(2000)
J. Appl. Phys.
, vol.87
, pp. 1968
-
-
Hoshino, S.1
Ebata, K.2
Furukawa, K.3
-
13
-
-
0029736518
-
-
Yang, Y.; Pei, Q.; Heeger, A. J. J. Appl. Phys. 1996, 79, 934
-
(1996)
J. Appl. Phys.
, vol.79
, pp. 934
-
-
Yang, Y.1
Pei, Q.2
Heeger, A.J.3
-
14
-
-
0031094279
-
-
Huang, J.; Zhang, H.; Tian, W.; Hou, J.; Ma, Y.; Shen, J.; Liu, S. Synth. Met. 1997, 87, 105
-
(1997)
Synth. Met.
, vol.87
, pp. 105
-
-
Huang, J.1
Zhang, H.2
Tian, W.3
Hou, J.4
Ma, Y.5
Shen, J.6
Liu, S.7
-
15
-
-
36449004201
-
-
Kido, J.; Hongawa, K.; Okuyama, K.; Nagai, K. Appl. Phys. Lett. 1993, 63, 2627
-
(1993)
Appl. Phys. Lett.
, vol.63
, pp. 2627
-
-
Kido, J.1
Hongawa, K.2
Okuyama, K.3
Nagai, K.4
-
16
-
-
34248572498
-
-
Tonzola, C. J.; Kulkarni, A. P.; Gifford, A. P.; Kaminsky, W.; Jenekhe, S. A. Adv. Funct. Mater. 2007, 17, 863
-
(2007)
Adv. Funct. Mater.
, vol.17
, pp. 863
-
-
Tonzola, C.J.1
Kulkarni, A.P.2
Gifford, A.P.3
Kaminsky, W.4
Jenekhe, S.A.5
-
17
-
-
55749114218
-
-
Lin, S.-L.; Chan, L.-H.; Lee, R.-H.; Yen, M.-Y.; Kuo, W.-J.; Chen, C.-T.; Jeng, R.-J. Adv. Mater. 2008, 20, 3947
-
(2008)
Adv. Mater.
, vol.20
, pp. 3947
-
-
Lin, S.-L.1
Chan, L.-H.2
Lee, R.-H.3
Yen, M.-Y.4
Kuo, W.-J.5
Chen, C.-T.6
Jeng, R.-J.7
-
18
-
-
65249177844
-
-
Matsumoto, N.; Miyazaki, T.; Nishiyama, M.; Adachi, C. J. Phys. Chem. C 2009, 113, 6261
-
(2009)
J. Phys. Chem. C
, vol.113
, pp. 6261
-
-
Matsumoto, N.1
Miyazaki, T.2
Nishiyama, M.3
Adachi, C.4
-
19
-
-
77949301378
-
-
Zhang, T.; Wang, J.; Li, T.; Liu, M.; Xie, W.; Liu, S.; Liu, D.; Wu, C.-L.; Chen, C.-T. J. Phys. Chem. C 2010, 114, 4186
-
(2010)
J. Phys. Chem. C
, vol.114
, pp. 4186
-
-
Zhang, T.1
Wang, J.2
Li, T.3
Liu, M.4
Xie, W.5
Liu, S.6
Liu, D.7
Wu, C.-L.8
Chen, C.-T.9
-
20
-
-
34248140190
-
-
Butler, R. S.; Myers, A. K.; Bellarmine, P.; Abboud, K. A.; Castellano, R. K. J. Mater. Chem. 2007, 17, 1863
-
(2007)
J. Mater. Chem.
, vol.17
, pp. 1863
-
-
Butler, R.S.1
Myers, A.K.2
Bellarmine, P.3
Abboud, K.A.4
Castellano, R.K.5
-
21
-
-
67849126398
-
-
Butler, R. S.; Cohn, P.; Tenzel, P.; Abboud, K. A.; Castellano, R. K. J. Am. Chem. Soc. 2009, 131, 623
-
(2009)
J. Am. Chem. Soc.
, vol.131
, pp. 623
-
-
Butler, R.S.1
Cohn, P.2
Tenzel, P.3
Abboud, K.A.4
Castellano, R.K.5
-
22
-
-
67650507002
-
-
Vura-Weis, J.; Wasielewski, M. R.; Thazhathveetil, A. K.; Lewis, F. D. J. Am. Chem. Soc. 2009, 131, 9722
-
(2009)
J. Am. Chem. Soc.
, vol.131
, pp. 9722
-
-
Vura-Weis, J.1
Wasielewski, M.R.2
Thazhathveetil, A.K.3
Lewis, F.D.4
-
24
-
-
34250328666
-
-
Lena, S.; Brancolini, G.; Gottarelli, G.; Mariani, P.; Masiero, S.; Venturini, A.; Palermo, V.; Pandoli, O.; Pieraccini, S.; Samori, P.; Spada, G. P. Chem. - Eur. J. 2007, 13, 3757
-
(2007)
Chem. - Eur. J.
, vol.13
, pp. 3757
-
-
Lena, S.1
Brancolini, G.2
Gottarelli, G.3
Mariani, P.4
Masiero, S.5
Venturini, A.6
Palermo, V.7
Pandoli, O.8
Pieraccini, S.9
Samori, P.10
Spada, G.P.11
-
25
-
-
0036608387
-
-
Rinaldi, R.; Maruccio, G.; Biasco, A.; Arima, V.; Cingolani, R.; Giorgi, T.; Masiero, S.; Spada, G. P.; Gottarelli, G. Nanotechnology 2002, 13, 398
-
(2002)
Nanotechnology
, vol.13
, pp. 398
-
-
Rinaldi, R.1
Maruccio, G.2
Biasco, A.3
Arima, V.4
Cingolani, R.5
Giorgi, T.6
Masiero, S.7
Spada, G.P.8
Gottarelli, G.9
-
26
-
-
0141637140
-
-
DAmico, S.; Maruccio, G.; Visconti, P.; DAmone, E.; Cingolani, R.; Rinaldi, R.; Masiero, S.; Spada, G. P.; Gottarelli, G. Microelectron. J. 2003, 34, 961
-
(2003)
Microelectron. J.
, vol.34
, pp. 961
-
-
Damico, S.1
Maruccio, G.2
Visconti, P.3
Damone, E.4
Cingolani, R.5
Rinaldi, R.6
Masiero, S.7
Spada, G.P.8
Gottarelli, G.9
-
29
-
-
44849092759
-
-
Zheng, Y.; Eom, S.-H.; Chopra, N.; Lee, J.; So, F.; Xue, J. Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 223301
-
(2008)
Appl. Phys. Lett.
, vol.92
, pp. 223301
-
-
Zheng, Y.1
Eom, S.-H.2
Chopra, N.3
Lee, J.4
So, F.5
Xue, J.6
-
30
-
-
33846900475
-
-
Ichikawa, M.; Kobayashi, K.; Koyama, T.; Taniguchi, Y. Thin Solid Films 2007, 515, 3932
-
(2007)
Thin Solid Films
, vol.515
, pp. 3932
-
-
Ichikawa, M.1
Kobayashi, K.2
Koyama, T.3
Taniguchi, Y.4
-
31
-
-
3543099288
-
-
Tang, C. W.; VanSlyke, S. A.; Chen, C. H. J. Appl. Phys. 1989, 65, 3610
-
(1989)
J. Appl. Phys.
, vol.65
, pp. 3610
-
-
Tang, C.W.1
Vanslyke, S.A.2
Chen, C.H.3
-
32
-
-
67349162951
-
-
Eom, S.-H.; Zheng, Y.; Wrzesniewski, E.; Lee, J.; Chopra, N.; So, F.; Xue, J. Org. Electron. 2009, 10, 686
-
(2009)
Org. Electron.
, vol.10
, pp. 686
-
-
Eom, S.-H.1
Zheng, Y.2
Wrzesniewski, E.3
Lee, J.4
Chopra, N.5
So, F.6
Xue, J.7
-
33
-
-
34547869217
-
-
Tanaka, D.; Agata, Y.; Takeda, T.; Watanabe, S.; Kido, J. Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 2007, 46, L117
-
(2007)
Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
, vol.46
, pp. 117
-
-
Tanaka, D.1
Agata, Y.2
Takeda, T.3
Watanabe, S.4
Kido, J.5
-
34
-
-
84862833675
-
-
Chopra, N.; Lee, J.; Zheng, Y.; Eom, S.-H.; Xue, J.; So, F. ACS Appl. Mater. Interfaces 2009, 1, 1169
-
(2009)
ACS Appl. Mater. Interfaces
, vol.1
, pp. 1169
-
-
Chopra, N.1
Lee, J.2
Zheng, Y.3
Eom, S.-H.4
Xue, J.5
So, F.6
-
35
-
-
33750239700
-
-
Martin, A. M.; Butler, R. S.; Ghiviriga, I.; Giessert, R. E.; Abboud, K. A.; Castellano, R. K. Chem. Commun. 2006, 4413
-
(2006)
Chem. Commun.
, pp. 4413
-
-
Martin, A.M.1
Butler, R.S.2
Ghiviriga, I.3
Giessert, R.E.4
Abboud, K.A.5
Castellano, R.K.6
|