-
1
-
-
33645028338
-
-
Fei, Y. T.; Chai, B. H. T.; Ebbers, C. A.; Liao, Z. M.; Schaffers, K. I.; Thelin, P. J. Cryst. Growth 2006, 290, 301-306
-
(2006)
J. Cryst. Growth
, vol.290
, pp. 301-306
-
-
Fei, Y.T.1
Chai, B.H.T.2
Ebbers, C.A.3
Liao, Z.M.4
Schaffers, K.I.5
Thelin, P.6
-
2
-
-
0007157264
-
-
Zhang, S. J.; Zhang, J. G.; Cheng, Z. X.; Zhou, G. Y.; Han, J. R.; Chen, H. C. J. Cryst. Growth 1999, 203, 168-172
-
(1999)
J. Cryst. Growth
, vol.203
, pp. 168-172
-
-
Zhang, S.J.1
Zhang, J.G.2
Cheng, Z.X.3
Zhou, G.Y.4
Han, J.R.5
Chen, H.C.6
-
3
-
-
0031236581
-
-
Aka, G.; Salin, F.; Pelenc, D. J. Opt. Soc. Am. B 1997, 14, 2238-2247
-
(1997)
Opt. Soc. Am. B
, vol.14
, pp. 2238-2247
-
-
Aka, G.1
Salin, F.2
Pelenc, D.J.3
-
4
-
-
33846480551
-
-
Ge, W. W.; Zhang, H. J.; Wang, J. Y.; Jiang, M. H.; Sun, S. Q.; Ran, D. G.; Xia, H. R.; Boughton, R. I. J. Appl. Crystallogr. 2007, 40, 125-132
-
(2007)
Appl. Crystallogr.
, vol.40
, pp. 125-132
-
-
Ge, W.W.1
Zhang, H.J.2
Wang, J.Y.3
Jiang, M.H.4
Sun, S.Q.5
Ran, D.G.6
Xia, H.R.7
Boughton, R.I.J.8
-
5
-
-
0032598128
-
-
Zhang, S. J.; Cheng, Z. X.; Lu, J. H.; Li, G. M.; Lu, J. R.; Shao, Z. S.; Chen, H. C. J. Cryst. Growth 1999, 205, 453-456
-
(1999)
J. Cryst. Growth
, vol.205
, pp. 453-456
-
-
Zhang, S.J.1
Cheng, Z.X.2
Lu, J.H.3
Li, G.M.4
Lu, J.R.5
Shao, Z.S.6
Chen, H.C.7
-
6
-
-
0000944421
-
-
Zhang, S. J.; Cheng, Z. X.; Zhang, S. J; Han, J. R.; Sun, L. K.; Chen, H. C. J. Cryst. Growth 2000, 213, 415-418
-
(2000)
J. Cryst. Growth
, vol.213
, pp. 415-418
-
-
Zhang, S.J.1
Cheng, Z.X.2
Zhang, S.J.3
Han, J.R.4
Sun, L.K.5
Chen, H.C.6
-
8
-
-
1642289580
-
-
Zhang, H. J.; Jiang, H. D.; Wang, J. Y.; Hu, X. B.; Yu, G. W.; Yu, W. T.; Gao, L; Liu, J. A.; Zhang, S. J.; Jiang, M. H. Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 2004, 78, 889-893
-
(2004)
Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process.
, vol.78
, pp. 889-893
-
-
Zhang, H.J.1
Jiang, H.D.2
Wang, J.Y.3
Hu, X.B.4
Yu, G.W.5
Yu, W.T.6
Gao, L.7
Liu, J.A.8
Zhang, S.J.9
Jiang, M.H.10
-
9
-
-
0035295279
-
-
Wang, J.; Hu, X.; Yin, X.; Song, R.; Wei, J.; Shao, Z.; Liu, Y.; Jiang, M.; Tian, Y.; Jiang, J.; Huang, W. J. Mater. Res. 2001, 16, 790-796
-
(2001)
J. Mater. Res.
, vol.16
, pp. 790-796
-
-
Wang, J.1
Hu, X.2
Yin, X.3
Song, R.4
Wei, J.5
Shao, Z.6
Liu, Y.7
Jiang, M.8
Tian, Y.9
Jiang, J.10
Huang, W.11
-
10
-
-
0346948558
-
-
Takeda, H.; Sako, H.; Shimizu, H.; Kodama, K.; Nishida, M.; Nakao, H.; Nishida, T.; Okamura, S.; Shikida, T.; Jpn., J. Appl. Phys. Part 1 2003, 42, 6081-6085
-
(2003)
Jpn., J Appl. Phys. Part 1
, vol.42
, pp. 6081-6085
-
-
Takeda, H.1
Sako, H.2
Shimizu, H.3
Kodama, K.4
Nishida, M.5
Nakao, H.6
Nishida, T.7
Okamura, S.8
Shikida, T.9
-
11
-
-
31944436851
-
-
Shimizu, H.; Nishida, T.; Nishida, M.; Takeda, H.; Shiosaki, T.; Jpn., J Appl. Phys. Part 1 2005, 44, 7059-7063
-
(2005)
Jpn. J Appl. Phys. Part 1
, vol.44
, pp. 7059-7063
-
-
Shimizu, H.1
Nishida, T.2
Nishida, M.3
Takeda, H.4
Shiosaki, T.5
-
12
-
-
67649469492
-
-
Zhang, S. J.; Fei, Y. T.; Frantz, E.; Synder, D. W.; Chai, B. H. T.; Shrout, T. R. IEEE Trans. Ultrason. Ferroelect. Frequency Control 2008, 55, 2703-2709
-
(2008)
IEEE Trans. Ultrason. Ferroelect. Frequency Control
, vol.55
, pp. 2703-2709
-
-
Zhang, S.J.1
Fei, Y.T.2
Frantz, E.3
Synder, D.W.4
Chai, B.H.T.5
Shrout, T.R.6
-
13
-
-
33745773908
-
-
Pawlaczyk, C.; Markiewicz, E.; Klos, A.; Hofman, W.; Pajaczkowska, A. Phys. Status Solidi A 2006, 203, 2103-2118
-
(2006)
Phys. Status Solidi A
, vol.203
, pp. 2103-2118
-
-
Pawlaczyk, C.1
Markiewicz, E.2
Klos, A.3
Hofman, W.4
Pajaczkowska, A.5
-
14
-
-
44349165647
-
-
Zhang, S. J.; Fei, Y. T.; Chai, B. H.T.; Frantz, E.; Snyder, D. W.; Jiang, X. N.; Shrout, T. R. Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 202905
-
(2008)
Appl. Phys. Lett.
, vol.92
, pp. 202905
-
-
Zhang, S.J.1
Fei, Y.T.2
Chai, B.H.T.3
Frantz, E.4
Snyder, D.W.5
Jiang, X.N.6
Shrout, T.R.7
-
15
-
-
55249086982
-
-
Zhang, S.; Frantz, E.; Xia, R.; Everson, W.; Randi, J.; Snyder, D. W.; Shrout, T. R. J. Appl. Phys. 2008, 104, 084103
-
(2008)
J. Appl. Phys.
, vol.104
, pp. 084103
-
-
Zhang, S.1
Frantz, E.2
Xia, R.3
Everson, W.4
Randi, J.5
Snyder, D.W.6
Shrout, T.R.7
-
16
-
-
31144434250
-
-
Nakao, H.; Nishida, M.; Shikida, T.; Shimizu, H.; Takeda, H.; Shiosaki, T. J. Alloys Compd. 2006, 408, 582-585
-
(2006)
Alloys Compd.
, vol.408
, pp. 582-585
-
-
Nakao, H.1
Nishida, M.2
Shikida, T.3
Shimizu, H.4
Takeda, H.5
Shiosaki, T.J.6
-
17
-
-
0033514611
-
-
Furuya, H.; Yoshimura, M.; Kobayashi, T.; Murase, K.; Mori, Y.; Sasaki, T. J. Cryst. Growth 1999, 198/199, 560-563
-
(1999)
J. Cryst. Growth
, vol.198-199
, pp. 560-563
-
-
Furuya, H.1
Yoshimura, M.2
Kobayashi, T.3
Murase, K.4
Mori, Y.5
Sasaki, T.6
-
18
-
-
0036530404
-
-
Vivien, D.; Aka, G.; Kahn-harari, A.; Aron, A.; Mougel, F.; Bénitez, J. J. Cryst. Growth 2002, 237, 621-628
-
(2002)
J. Cryst. Growth
, vol.237
, pp. 621-628
-
-
Vivien, D.1
Aka, G.2
Kahn-Harari, A.3
Aron, A.4
Mougel, F.5
Bénitez, J.6
-
19
-
-
0000226209
-
-
Mougel, F.; Kahn-Harari, A.; Aka, G.; Pelenc, D. J. Mater. Chem. 1998, 8, 1619-1623
-
(1998)
J. Mater. Chem.
, vol.8
, pp. 1619-1623
-
-
Mougel, F.1
Kahn-Harari, A.2
Aka, G.3
Pelenc, D.4
-
23
-
-
10444279980
-
-
Shimizu, H.; Kodama, K.; Takeda, H.; Nishida, T.; Shikida, T.; Okamura, O.; Shiosaki, T. Jpn J. Appl. Phys. 2004, 43, 6716-6720
-
(2004)
Jpn J. Appl. Phys.
, vol.43
, pp. 6716-6720
-
-
Shimizu, H.1
Kodama, K.2
Takeda, H.3
Nishida, T.4
Shikida, T.5
Okamura, O.6
Shiosaki, T.7
-
25
-
-
67651102714
-
-
Karaki, T.; Adachi, M.; Kuniyoshi, Y. J. Electroceram. 2008, 21, 823-826
-
(2008)
J. Electroceram.
, vol.21
, pp. 823-826
-
-
Karaki, T.1
Adachi, M.2
Kuniyoshi, Y.3
-
26
-
-
59749103413
-
-
Shimizu, H.; Nishida, T.; Takeda, H.; Shiosaki, T. J. Cryst. Growth 2009, 311, 916-920
-
(2009)
J. Cryst. Growth
, vol.311
, pp. 916-920
-
-
Shimizu, H.1
Nishida, T.2
Takeda, H.3
Shiosaki, T.4
-
27
-
-
84944648082
-
-
Shannon, R. D. Acta Crystallogr. Sect. A: Cryst. Phys., Theor., Gen. Crystallogr. 1976, 32, 751-767
-
(1976)
Acta Crystallogr. Sect. A: Cryst. Phys., Theor., Gen. Crystallogr.
, vol.32
, pp. 751-767
-
-
Shannon, R.D.1
|