Removal of the residual surfactants in transparent and conductive single-walled carbon nanotube films

Journal of Physical Chemistry C

Volumn 113, Issue 41, 2009, Pages 17685-17690

  Wang, Jiaping ^a   Sun, Jing ^a   Gao, Lian ^a   Wang, Yan ^a   Zhang, Jing ^a   Kajiura, Hisashi ^b   Li, Yongming ^b   Noda, Kazuhiro ^b  

^a SHANGHAI INSTITUTE OF CERAMICS   (China)

^b SONY CORPORATION   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

FENTON REACTIONS; INTRINSIC STRUCTURES; SINGLE-WALLED CARBON; XPS SPECTRA;

CARBON FILMS; CARBON NANOTUBES; CONDUCTIVE FILMS; ELECTRIC RESISTANCE; PHOTOCATALYSIS; SURFACE ACTIVE AGENTS;

SINGLE-WALLED CARBON NANOTUBES (SWCN);

EID: 70449644639     PISSN: 19327447     EISSN: 19327455     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp905353c     Document Type: Article

References (29)

1. Wu, Z.; Chen, Z.; Du, X.; Logan, J. M.; Sippel, J.; Nikolou, M.; Kamaras, K.; Reynolds, J. R.; Tanner, D. B.; Hebard, A. F.; Rinzler, A. G. Science 2004, 305, 1273.
2. Zhou, Y.; Hu, L.; Gruner, G. Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 123109.
3. Moon, J. S.; Park, J. H.; Lee, T. Y.; Kim, Y. W.; Yoo, J. B.; Park, C. Y.; Kim, J. M.; Jin, K. W. Diamond Relat. Mater. 2005, 14, 1882.
4. Spotnitz, M. E.; Ryan, D.; Stone, H. A. J. Mater. Chem. 2004, 14, 1299.
5. Sreekumar, T. V.; Liu, T.; Kumar, S.; Ericson, L. M.; Hauge, R. H.; Smalley, R. E. Chem. Mater. 2003, 15, 175.
6. Meitl, M. A.; Zhou, Y.; Gaur, A.; Jeon, S.; Usrey, M. L.; Strano, M. S.; Rogers, J. A. Nano Lett. 2004, 4, 1643.
7. Geng, H.-Z.; Kim, K. K.; So, K. P.; Lee, Y. S.; Chang, Y.; Lee, Y. H. J. Am. Chem. Soc. 2007, 129, 7758.
8. Kim, Y.; Minami, N.; Zhu, W. H.; Kazaoui, S.; Azumi, R.; Matsumoto, M. Jap. J. Appl. Phys., Part 1 2003, 42, 7629.
9. Hu, L.; Hecht, D. S.; Gruner, G. Nano Lett. 2004, 4, 2513.
10. Zhang, D.; Ryu, K.; Liu, X.; Polikarpov, E.; Ly, J.; Tompson, M. E.; Zhou, C. Nano Lett. 2006, 6, 1880.
11. Ferrer-Anglada, N.; Kaempgen, M.; Skakalova, V.; Dettlaf-Weglikowska, U.; Roth, S. Diamond Relat. Mater. 2004, 13, 256.
12. Wang, J. P.; Sun, J.; Gao, L.; Liu, Y. Q.; Wang, Y.; Zhang, J.; Kajiura, H.; Li, Y. M.; Noda, K. J. Alloys. Compd. DOI: 10.1016/j.jallcom.2009.05.139. Published Online: June 9, 2009.
13. Teichner, S. J. J. Porous Mater. 2008, 15, 311.
14. Hashimoto, K.; Irie, H.; Fujishima, A. Jap. J. Appl. Phys., Part 1 2005, 44, 8269.
15. Hoffmann, M. R.; Martin, S. T.; Choi, W. Y.; Bahnemann, D. W. Chem. Rev. 1995, 95, 69.
16. Li, D.; Haneda, H. Chemosphere 2003, 51, 129.
17. Datta, A.; Priyam, A.; Bhattacharyya, S. N.; Mukherjea, K. K.; Saha, A. J. Colloid Interface Sci. 2008, 322, 128.
18. Lin, S. H.; Lin, C. M.; Leu, H. C. Water Res. 1999, 33, 1735.
19. Neyens, E.; Baeyens, J. J. Hazard. Mater. 2003, 98, 33.
20. Huang, C. P.; Dong, C.; Tang, Z. Waste Manage. 1993, 13, 361.
21. Walling, C.; Kato, S. J. Am. Chem. Soc. 1971, 93, 4275.
22. Bandala, E. R.; Pelaez, M. A.; Salgado, M. J.; Torres, L. J. Hazard. Mater. 2008, 151, 578.
23. Sinani, V. A.; Gheith, M. K.; Yaroslavov, A. A.; Rakhnyanskaya, A. A.; Sun, K.; Mamedov, A. A.; Wicksted, J. P.; Kotov, N. A. J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 3463.
24. Liu, Y. Q.; Gao, L.; Sun, J. J. Phys. Chem. C 2007, 111, 1223.
25. Dresselhaus, M. S.; Dresselhaus, G.; Jorio, A.; Souza, A. G.; Saito, R. Carbon 2002, 40, 2043.
26. Itkis, M. E.; Perea, D. E.; Jung, R.; Niyogi, S.; Haddon, R. C. J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 3439.
27. Okpalugo, T. I. T.; Papakonstantinou, P.; Murphy, H.; McLaughlin, J.; Brown, N. M. D. Carbon 2005, 43, 153.
28. Lee, Y. S.; Cho, T. H.; Lee, B. K.; Rho, J. S.; An, K. H.; Lee, Y. H. J. Fluorine Chem. 2003, 120, 99.
29. Geng, H. Z.; Kim, K. K.; Song, C.; Xuyen, N. T.; Kim, S. M.; Park, K. A.; Lee, D. S.; An, K. H.; Lee, Y. S.; Chang, Y.; Lee, Y. J.; Choi, J. Y.; Benayad, A.; Lee, Y. H. J. Mater. Chem. 2008, 18, 1261.