-
1
-
-
0035848187
-
-
Y. F. Chen, N. T. Tuan, Y. Segawa, H. J. Ko, S. K. Hong, T. Yao, Appl. Phys. Lett. 78, 1469 (2001).
-
(2001)
Appl. Phys. Lett.
, vol.78
, pp. 1469
-
-
Chen, Y.F.1
Tuan, N.T.2
Segawa, Y.3
Ko, H.J.4
Hong, S.K.5
Yao, T.6
-
2
-
-
0348098751
-
-
A. Ohtomo, M. Kawasaki, Y. Sakurai, Y. Yoshida, H. Koinuma, P. Yu, Z. K. Tang, G. K. L. Wong, Y. Segawa, Materials Science and Engineering B, 54, 24 (1998).
-
(1998)
Materials Science and Engineering B
, vol.54
, pp. 24
-
-
Ohtomo, A.1
Kawasaki, M.2
Sakurai, Y.3
Yoshida, Y.4
Koinuma, H.5
Yu, P.6
Tang, Z.K.7
Wong, G.K.L.8
Segawa, Y.9
-
3
-
-
22944444544
-
-
S. T. Tan, B. J. Chen, X. W. Sun, W. J. Fan, H. S. Kwok, X. H. Zhang, S. J. Chua, J. Appl. Phys. 98, 13505 (2005).
-
(2005)
J. Appl. Phys.
, vol.98
, pp. 13505
-
-
Tan, S.T.1
Chen, B.J.2
Sun, X.W.3
Fan, W.J.4
Kwok, H.S.5
Zhang, X.H.6
Chua, S.J.7
-
4
-
-
23944449032
-
-
A. Tsukazaki, M. Kubota, A. Ohtomo, T. Onuma, K. Ohtani, H. Ohno, S. F. Chichibu, M. Kawasak, J. J. Appl. Phys. 44, L643 (2005).
-
(2005)
J. J. Appl. Phys.
, vol.44
-
-
Tsukazaki, A.1
Kubota, M.2
Ohtomo, A.3
Onuma, T.4
Ohtani, K.5
Ohno, H.6
Chichibu, S.F.7
Kawasak, M.8
-
5
-
-
0035896775
-
-
X. L. Wu, G. G. Siu, C. L. Fu, H. C. Ong, Appl. Phys. Lett. 78, 2285 (2001).
-
(2001)
Appl. Phys. Lett.
, vol.78
, pp. 2285
-
-
Wu, X.L.1
Siu, G.G.2
Fu, C.L.3
Ong, H.C.4
-
6
-
-
0029774658
-
-
K. Vanheusden, C. H. Seager, W. L. Warren, D. R. Tallant, J. A. Voight, Appl. Phys. Lett. 68, 403 (1996).
-
(1996)
Appl. Phys. Lett.
, vol.68
, pp. 403
-
-
Vanheusden, K.1
Seager, C.H.2
Warren, W.L.3
Tallant, D.R.4
Voight, J.A.5
-
7
-
-
29344446077
-
-
L.-S. Hsu, C. S. Yeh, C. C. Kuo, B. R. Huang, S. Dhar, J. Optoelectron. Adv. Mater. 7, 3039 (2005).
-
(2005)
J. Optoelectron. Adv. Mater.
, vol.7
, pp. 3039
-
-
Hsu, L.-S.1
Yeh, C.S.2
Kuo, C.C.3
Huang, B.R.4
Dhar, S.5
-
8
-
-
0032652792
-
-
E. M. Bachari, G. Baud, S. B. Amor, M. Jacquet, Thin solid films 348, 165 (1999).
-
(1999)
Thin solid films
, vol.348
, pp. 165
-
-
Bachari, E.M.1
Baud, G.2
Amor, S.B.3
Jacquet, M.4
-
9
-
-
9644259092
-
-
R. A. Asmar, G. Ferblantier, F. Mailly, P. G. Borrut, A. Foucaran, Thin Solid Films 473, 49 (2005).
-
(2005)
Thin Solid Films
, vol.473
, pp. 49
-
-
Asmar, R.A.1
Ferblantier, G.2
Mailly, F.3
Borrut, P.G.4
Foucaran, A.5
-
10
-
-
69249135459
-
-
Q. A. Xu, J. W. Zhang, K. R. Ju, X. D. Yang, X. Hou, Journal of Crystal Growth 289, 4 (2006).
-
(2006)
Journal of Crystal Growth
, vol.289
, pp. 4
-
-
Xu, Q.A.1
Zhang, J.W.2
Ju, K.R.3
Yang, X.D.4
Hou, X.5
-
11
-
-
69249147357
-
-
(Currently in revision)
-
J. J. Chieh, S. Y. Yang, H. E. Horng, C. Y. Hong, H .C. Yang, IEEE Trans. Instrum. Meas. (Currently in revision).
-
IEEE Trans. Instrum. Meas.
-
-
Chieh, J.J.1
Yang, S.Y.2
Horng, H.E.3
Hong, C.Y.4
Yang, H.C.5
-
12
-
-
0942299445
-
-
H. S. Bae, M. H. Yoon, J. H. Kim, S. Ima, Appl. Phys. Lett. 83, 5313 (2003).
-
(2003)
Appl. Phys. Lett.
, vol.83
, pp. 5313
-
-
Bae, H.S.1
Yoon, M.H.2
Kim, J.H.3
Ima, S.4
-
14
-
-
33845412620
-
-
S. Y. Yang, P. H. Yang, C. D. Liao, J. J. Chieh, Y. P. Chen, H. E. Horng, Chin-Yih Hong, H. C. Yang, Appl. Phys. Lett. 89, 231108 (2006)
-
(2006)
Appl. Phys. Lett.
, vol.89
, pp. 231108
-
-
Yang, S.Y.1
Yang, P.H.2
Liao, C.D.3
Chieh, J.J.4
Chen, Y.P.5
Horng, H.E.6
Hong, C.-Y.7
Yang, H.C.8
|