Multiferroic BiFeO3 thin films prepared by using a conventional RF magnetron sputtering method

Journal of the Korean Physical Society

Volumn 54, Issue 2 PART 1, 2009, Pages 844-848

  Cha, Jeong Ok ^a   Ahn, Jeung Sun ^a   Lee, Kwang Bae ^b  

^a Kyung Hee University   (South Korea)

^b Sangji University   (South Korea)

Author keywords

Leakage current; M H hysteresis; Multiferroic BFO thin films; P E hysteresis; XPS

Indexed keywords

EID: 62149149885     PISSN: 03744884     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.3938/jkps.54.844     Document Type: Conference Paper

References (18)

1. T. Kimura, T. Goto, H. Shinatani, K. Ishizaka, T. Arima and Y. Tokura, Nature 426, 55 (2003).
2. J. Wang, J. B. Neaton, H. Zhang, V. Nagarajan, S. B. Ogale, B. Liu, D. Viehland, D. G. Schlom, U. V. Waghmare, N. A. Spaldin, K. M. Rabe, M. Wuttig and R. Ramesh, Science 299, 1719 (2003).
3. J. Wang, A. Scholl, H. Zheng, S. B. Ogale, D. Viehland, D. G. Schlom, N. A. Spaldin, K. M. Rabe, M. Wuttig, L. Mohaddes, J. Meaton, U. Waghmare, T. Zhao and R. Ramesh, Science 307, 1203b (2005).
4. J. K. Kim, S. S. Kim, E. J. Choi, W. J. Kim, A. S. Bhalla and T. K. Song, J. Korean Phys. Soc. 49, 566 (2006).
5. E. J. Choi, S. S. Kim, J. W. Kim, M. H. Park, H. K. Cho, W.-J. Kim, S. Yi, D. Yoo and J.-K. Chung, J. Korean Phys. Soc. 51, 138 (2007).
6. W. Eerenstein, F. D. Morrison, J. Dho, M. G. Blamire, J. F. Scott and N. D. Mathur, Science 307, 1203a (2005).
7. C. T.-Munoz, J.-P. Rivera, A. Bezinges, A. Monnier and H. Schmid, Jpn. J. Appl. Phys. Suppl. 24, 1051 (1985).
8. P. Fischer, M. Polomska, I. Sosnowska and M. Szymanksi, J. Phys. C 13, 1931 (1980).
9. S. Nakashima, K.-Y. Yun, Y. Nakamura and M. Okuyama, J. Korean Phys. Soc. 51, 882 (2007).
10. S. Iakovlev, C.-H. Solterbeck, M. Kuhnke and M. Es-Souni, J. Appl. Phys. 97, 094901 (2005).
11. Y. H. Lee, J. M. Wu, Y. L. Chueh and L. J. Chou, Appl. Phys. Lett. 87, 172901 (2005).
12. K. Tominaga, S. Iwamura, Y. Shintani and O. Tada, Jpn. J. Appl. Phys. Part 1 21, 688 (1982).
13. H. Béa, M. Bibes, A. Barthélémy, K. Bouzehouane, E. Jacquet, A. Khodan, J.-P. Contour, S. Fusil, F. Wyczisk, A. Forget, D. Lebeugle, D. Colson and M. Viret, Appl. Phys. Lett. 87, 072508 (2005).
14. S. Bose and S. B. Krupanidhi, Appl. Phys. Lett. 90, 212902 (2007).
15. Th. Schedel-Niedrig, W. Weiss and R. Schlögl, Phys. Rev. B 52, 17449 (1995).
16. Y. Wang, Q. H. Jiang, H. C. He and C. W. Nan, Appl. Phys. Lett. 88, 142503 (2006).
17. Y. Schuhl, H. Baussart, R. Delobel, M. L. Bras, J. Leroy, L. G. Gengembre and J. Rimblot, J. Chem. Soc. Faraday Trans. I 79, 2055 (1983).
18. J. F. McGilp, P. Weightman and E. J. McGuire, J. Phys. C 10, 3445 (1977).