Annealing effects of ZnO thin films deposited on Si(100) by using pulsed laser deposition

Journal of the Korean Physical Society

Volumn 54, Issue 2 PART 1, 2009, Pages 916-920

  Shan, F K ^a   Liu, G X ^a   Shin, B C ^b   Lee, W J ^b  

^a QINGDAO UNIVERSITY   (China)

^b Dong Eui University   (South Korea)

Author keywords

AFM; PL; PLD; Thin film; XRD; ZnO

Indexed keywords

EID: 62149113621     PISSN: 03744884     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.3938/jkps.54.916     Document Type: Conference Paper

References (10)

1. F. K. Shan, B. C. Shin, S. W. Jang and Y. S. Yu, J. Eur. Ceram. Soc. 24, 1015 (2004).
2. Y. R. Ryu, S. Zhu, J. D. Budai, H. R. Chandrasekhar, P. F. Miceli and H. W. White, J. Appl. Phys. 88, 201 (2000).
3. H. J. Ko, Y. F. Chen, Z. Zhu, T. Yao, I. Kobayashi and H. Uchiki, Appl. Phys. Lett. 76, 1905 (2000).
4. F. K. Shan, G. X. Liu, W. J. Lee, G. H. Lee, I. S. Kim and B. C. Shin, Appl. Phys. Lett. 86, 221910 (2005).
5. S. H. Lee, Y. M. Yu, T. H. Kim and S. Y. Jeong, J. Korean Phys. Soc. 51, S79 (2007).
6. S. Bethke, H. Pan and B. W. Wessels, Appl. Phys. Lett. 52, 138 (1988).
7. B. Guo, Z. R. Qiu and K. S. Wong, Appl. Phys. Lett. 82, 2290 (2003).
8. C. M. Lee, S. Y. Park and J. M. Lim, J. Korean Phys. Soc. 50, 590 (2007).
9. D. K. Lee, S. Kim, M. C. Kim, S. H. Eom, H. T. Oh and S. H. Choi, J. Korean Phys. Soc. 51, 1378 (2007).
10. P. M. R. Kumar, C. S. Kartha and K. P. Vijayakumar, J. Appl. Phys. 98, 1 (2005).