Self-aligned organic thin-film transistors employing UV-curable conductive paste as a source/drain electrode

Journal of the Korean Physical Society

Volumn 54, Issue 1 PART 2, 2009, Pages 489-492

  Kim, Kang Dae ^a   Lee, Taik Min ^a   Jo, Jeong Dai ^a   Choi, Byung Oh ^a   Kim, Dong Soo ^a  

^a Korea Institute of Machine and Materials   (South Korea)

Author keywords

OTFT (organic thin film transistor); Roll to roll; Screen printing; UV (ultraviolet lay)

Indexed keywords

EID: 60149098894     PISSN: 03744884     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.3938/jkps.54.489     Document Type: Conference Paper

References (22)

1. S. H. Jee, S. H. Kim, K. H. Lee, J. H. Ko and Y. S. Yoon, J. Korean Phys. Soc. 50, 915 (2007).
2. G. H. Gelinck, H. E. A. Huitema, E. V. Veenendaal, E. Cantatore, L. Schrijnemakers, J. B. P. H. V. D. Putten, T. C. T. Geuns, M. Beenhakkers, J. B. Giesbers, B. Huisman, E. J. Meijer, E. M. Benito, F. J. Touwslager, A. W. Marsman, B. J. E. Van rens and D. M. De leeuw, Nature Mater. 3, 106 (2004).
3. H. E. A. Huitema, G. H. Gelinck, J. B. P. H. Van der putten, K. E. Kuijk, C. M. Hart, E. Cantatore, P. T. Herwig, A. J. J. M. Van Breemen and D. M. de Leeuw, Nature 414, 599 (2001).
4. C. D. Sheraw, L. Zhou, J. R. Huang, D. J. Gundlach, T. N. Jackson, M. G. Kane, I. G. Hill, M. S. Hammond, J. Campi, B. K. Greening, J. Francl and J. West, Appl. Phys. Lett. 80, 1088 (2002).
5. B. Crone, A. Dodabalapur, Y. Y. Lin, R. W. Filas, Z. Bao, A. LaDuca, R. Sarpeshkar, H. E. Katz and W. Li, Nature 403, 521 (2000).
6. L. Zhou, S. K. Park, B. Bai, J. Sun, S. C. Wu, T. N. Jackson, S. Nelson, D. Freeman and Y. T. Hong, IEEE Electron Device Lett. 26, 640 (2005).
7. H. Klauk, M. Halik, U. Zschieschang, F. Eder, D. Rohde, G. Schmid and C. Dehm, IEEE Trans. Electron Devices 52, 618 (2005).
8. F. Eder, H. Klauk, M. Halik, U. Zschieschang, G. Schmid and C. Dehm, Appl. Phys. Lett. 84, 2673 (2004).
9. T. Zyung, S. H. Kim, S. C. Lim, J. H. Lee, H. Y. Chu, J.-I. Lee, J. Y. Oh, S. C. Lim and J. H. Lee, J. Korean Phys. Soc. 48, Sill (2006).
10. H.-Y. Cheng, C.-C. Lee, T.-S. Hu and J.-C. Ho, J. Korean Phys. Soc. 48, S115 (2006).
11. H. Klauk, M. Halik, U. Zschieschang, G. Schmid, W. Radlik and W. Weber, J. Appl. Phys. 92, 5259 (2002).
12. K. Diallo, M. Erouel and J. Tardy, Appl. Phys. Lett. 89, 233512 (2006).
13. H. Sirringhaus, N. Tessler and R. H. Friend, Science 280, 1741 (1998).
14. S. K. Park, T. N. Jackson, J. E. Anthony and D. A. Mourey, Appl. Phys. Lett. 91, 063514 (2007).
15. D. H. Song, M. H. Choi, J. Y. Kim, J. Jang and S. Kirchmeyer, Appl. Phys. Lett. 90, 053504 (2007).
16. Y. S. Jang, Y. D. Park, J. A. Lim, H. S. Lee, W. H. Lee and K. W. Cho, Appl. Phys. Lett. 89, 183501 (2006).
17. H. Sirringhaus, T. Kawase, R. H. Friend, T. Shimoda, M. Inbasekaran, W. We and E. P. Woo, Science 290, 2123 (2000).
18. A. Knobloch, A. Manuelli, A. Bernds and W. Clemens, J. Appl. Phys. 96, 2286 (2004).
19. J. F. Chang, B. Sun, D. W. Breiby, M. M. Nielsen, T. I. Solling, M. Giles, I. McCulloch and H. Sirringhaus, Chem. Mater. 16, 4772 (2004).
20. A. J. Cascio, J. E. Lyon, M. M. Beerbom, R. Schlaf, Y. Zhu and S. A. Jenekhe, Appl. Phys. Lett. 88, 062104 (2006).
21. A. Kumar and G. M. Whitesides, Appl. Phys. Lett. 63, 2002 (1993).
22. S. Y. Chou, P. R. Krauss and P. J. Renstrom, Appl. Phys. Lett. 67, 3114 (1995).