Monolayer control of discotic liquid crystal by electromigration of dewetted layers in thin film devices

Journal of the American Chemical Society

Volumn 130, Issue 36, 2008, Pages 11953-11958

  Calò, Annalisa ^a   Stoliar, Pablo ^a   Cavallini, Massimiliano ^a   Sergeyev, Sergey ^b   Geerts, Yves H ^b   Biscarini, Fabio ^a  

^a CNR   (Italy)

^b UNIVERSITÉ LIBRE DE BRUXELLES   (Belgium)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ELECTRIC FIELDS; ELECTROMIGRATION; ELECTRON ENERGY LEVELS; LIQUID CRYSTALS; MONOLAYERS; POWDERS; THICK FILMS; THIN FILM DEVICES; THIN FILMS;

DISCOTIC LIQUID CRYSTALS; ISOTROPIC PHASE;

ULTRATHIN FILMS;

GOLD; PHTHALOCYANINE DERIVATIVE;

ARTICLE; DEVICE; ELECTRODE; FILM; LIQUID CRYSTAL; PHASE TRANSITION; SEMICONDUCTOR; TEMPERATURE SENSITIVITY; THICKNESS;

EID: 51749103322     PISSN: 00027863     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/ja801337v     Document Type: Article

References (37)

1. Sergeyev, S.; Pisula, W.; Geerts, Y. H. Chem. Soc. Rev. 2007, 36, 1902-1929.
2. Van de Craats, A. M.; Stutzmann, N.; Bunk, O.; Nielsen, M. M.; Watson, M.; Müllen, K.; Chanzy, H. D.; Sirringhaus, H.; Friend, R. H. Adv. Mater. 2003, 15, 495-499.
3. Pisula, W.; Menon, A.; Stepputat, M.; Lieberwirth, I.; Kolb, U.; Tracz, A.; Sirringhaus, H.; Pakula, T.; Müllen, K. Adv. Mater. 2005, 17, 684-689.
4. Breiby, D. W.; Bunk, O.; Pisula, W.; Solling, T. I.; Tracz, A.; Pakula, T.; Müllen, K.; Nielsen, M. M. J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 11288-11293.
5. Donley, C. L.; Zangmeister, A. P.; Wei, X.; Minch, B.; Drager, A.; Cherian, S. K.; LaRussa, L.; Kippelen, B.; Domercq, B.; Mathine, D. L.; O'Brien, D. F.; Armstrong, N. R. J. Mater. Res. 2004, 19, 2087-2099.
6. Charlet, E.; Grelet, E.; Brettes, P.; Bock, H.; Saadaoui, H.; Cisse, L.; Destruel, P.; Gherardi, N.; Seguy, I. Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 024107.
7. Tant, J.; Geerts, Y. H.; Lehmann, M.; De Cupere, V.; Zucchi, G.; Laursen, B. W.; Bjornholm, T.; Lemaur, V.; Marcq, V.; Burquel, A.; Hennebicq, E.; Gardebien, F.; Viville, P.; Beljonne, D.; Lazzaroni, R.; Cornil, J. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 3449-3449.
8. De Cupere, V.; Tant, J.; Viville, P.; Lazzaroni, R.; Osikowicz, W.; Salaneck, W. R.; Geerts, Y. H. Langmuir 2006, 22, 7798-7806.
9. Gearba, R. I.; Bondar, A. I.; Goderis, B.; Bras, W.; Ivanov, D. A. Chem. Mater. 2005, 17, 2825-2832.
10. Mouthuy, P. O.; Melinte, S.; Geerts, Y. H.; Jonas, M. Nano Lett. 2007, 7, 2627-2632.
11. Mugele, F.; Baret, J.-C. J. Phys.: Condens. Matter 2005, 17, R705-R774.
12. Voicu, N. E.; Harkema, S.; Steiner, U. Adv. Funct. Mater. 2006, 16, 926-934.
13. Lin, Z.; Kerle, T.; Russell, T. P.; Schäffer, E.; Steiner, U. Macromolecules 2002, 35, 6255-6262.
14. Imura, H.; Okano, K. Jpn. J. Appl. Phys 1972, 11, 1440-1445.
15. Mundy, C. J.; Levin, Y.; Dawson, K. A. J. Chem. Phys. 1992, 97, 7695-7698.
16. Reiter, G. Phys. Rev. Lett. 1992, 68, 75-78.
17. Reiter, G.; Khanna, R. Langmuir 2000, 16, 6351-6357.
18. Brochard-Wyart, F.; de Gennes, P. G.; Hervert, H.; Redon, C. Langmuir 1994, 10, 1566-1572.
19. Wyart, F. B.; Martin, P.; Redon, C. Langmuir 1993, 9, 3682-3690.
20. Seemann, R.; Herminghaus, S.; Jacobs, K. J. Phys.: Condens. Matter 2001, 13, 4925-4938.
21. Seemann, R.; Herminghaus, S.; Jacobs, K. Phys. Rev. Lett. 2001, 86, 5534-5537.
22. Barbero, G.; Durand, G. J. Appl. Phys. 1991, 69, 6968-6973.
23. van Effenterre, D.; Ober, R.; Valignat, M. P.; Cazabat, A. M. Phys. Rev. Lett. 2001, 87, 125701(1-4).
24. van Effenterre, D.; Valignat, M. P.; Roux, D. Europhys. Lett. 2003, 62, 526-532.
25. Moldovan, R.; Tintaru, M.; Beica, T.; Frunza, S. Cryst. Res. Technol. 1999, 34, 1315-1321.
26. Evangelista, R. L.; Barbero, G. Phys. Rev. E 1993, 48, 1163-1171.
27. Barbero, G.; Evangelista, L. R.; Giocondo, M.; Ponti, S. J. Phys. 11 1994, 4, 1519-1540.
28. Brown, A. R.; Jarrett, C. P.; de Leeuw, D. M.; Matters, M. Synth. Met. 1997, 88, 37-55.
29. Ray, A. K.; Nabok, A.; Hassan, A. K.; Cook, M. J. IEEE Proc. - Circuits Devices Syst. 1999, 146, 44-48.
30. Wright, J. D. Prog. Surf. Sci. 1989, 31, 1-60.
31. Schouten, P. G.; Warman, J. M.; De Haas, M. P.; van Nostrum, C. F.; Gelinck, G. H.; Nolte, R. J. M.; Copyn, M. J.; Zwikker, J. W.; Engel, M. K.; Hanack, M.; Chang, Y. H.; Ford, W. T. J. Am. Chem. Soc. 1994, 116, 6880-6894.
32. Debije, M. G.; Jorge Piris, J.; de Haas, M. P.; Warman, J. M.; Tomovic, Z.; Simpson, C. D.; Watson, M. D.; Mullen, K. J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 4641-4645.
33. Dinelli, F.; Murgia, M.; Levy, P.; Cavallini, M.; Biscarini, F.; de Leeuw, D. M. Phys. Rev. Lett. 2004, 92, 116802.
34. Sheng, P. Phys. Rev. Lett. 1976, 37, 1059-1062.
35. Moldovan, R.; Mezincescu, N. Rom. J. Phys. 2006, 51, 401-409.
36. Meyerhofer, D. J. Appl. Phys. 1978, 49, 3993-3997.
37. Bohrer, F. I.; Sharoni, A.; Colesniuc, C.; Park, J.; Schuller, I. K.; Kummel, A. C.; Trogler, W. C. J. Am. Chem. Soc. 2007, 129, 5640-5646.