Studying the reactions of CdTe nanostructures and thin CdTe films with Ag+ and AuCl4-

Journal of Physical Chemistry C

Volumn 112, Issue 24, 2008, Pages 8881-8889

  Danieli, Tamar ^a   Gaponik, Nikolai ^b   Eychmüller, Alexander ^b   Mandler, Daniel ^b  

^a HEBREW UNIVERSITY OF JERUSALEM   (Israel)

^b DRESDEN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (Germany)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CADMIUM ALLOYS; CADMIUM COMPOUNDS;

SILVER;

EID: 48949120824     PISSN: 19327447     EISSN: 19327455     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp800877a     Document Type: Article

References (60)

1. Wu, F. X.; Lewis, J. W.; Kliger, D. S.; Zhang, J. Z. J. Chem. Phys. 2003, 118, 12-16.
2. Rogach, A. L.; Franzl, T.; Klar, T. A.; Feldmann, J.; Gaponik, N.; Lesnyak, V.; Shavel, A.; Eychmuller, A.; Rakovich, Y. P.; Donegan, J. F. J. Phys. Chem. C 2007, 111, 14628-14637.
3. Gaponik, N.; Talapin, D. V.; Rogach, A. L.; Hoppe, K.; Shevchenko, E. V.; Kornowski, A.; Eychmuller, A.; Weller, H. J. Phys. Chem. B 2002, 106, 7177-7185.
4. Wang, J. H.; Wang, H. Q.; Zhang, H. L.; Li, X. Q.; Hua, X. F.; Cao, Y. C.; Huang, Z. L.; Zhao, Y. D. Anal. Bioanal. Chem. 2007, 388, 969-974.
5. Wang, D. Y.; Rogach, A. L.; Caruso, F. Nano Lett. 2002, 2, 857-861.
6. Kozyrev, S. P.; Vodopyanov, L. K. Semicond. Sci. Technol. 1999, 14, 660-665.
7. Mandal, K. C.; Kang, S. H.; Choi, M.; Wei, J.; Zheng, L.; Zhang, H.; Jellison, G. E.; Groza, M.; Burger, A. J. Electron. Mater. 2007, 36, 1013-1020.
8. Schulz-Drost, C.; Sgobba, V.; Guldi, D. M. J. Phys. Chem. C 2007, 111, 9694-9703.
9. Chu, T. L.; Chu, S. S.; Ferekides, C.; Britt, J.; Wu, C. Q. J. Appl. Phys. 1992, 71, 3870-3876.
10. Gheorghita, L.; Cocivera, M.; Nelson, A. J.; Swartzlander, A. B. J. Electrochem. Soc. 1994, 141, 529-535.
11. Rams, J.; Sochinskii, N. V.; Munoz, V.; Cabrera, J. M. Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 2000, 71, 277-279.
12. Mancini, A. M.; Quirini, A.; Vasanelli, L.; Perillo, E.; Rosato, E.; Spadaccini, G.; Barbarino, E. J. Appl. Phys. 1982, 53, 5785-5788.
13. Cordes, H.; Schmidfetzer, R. Semicond. Sci. Technol. 1995, 10, 77-86.
14. Bendor, L.; Yellin, N.; Shaham, H. Mater. Res. Bull. 1983, 18, 1229-1233.
15. Son, D. H.; Hughes, S. M.; Yin, Y. D.; Alivisatos, A. P. Science 2004, 306, 1009-1012.
16. Dong, C. Q.; Qian, H. F.; Fang, N. H.; Ren, J. C. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 11069-11075.
17. Musa, A.; Ponpon, J. P.; Grob, J. J.; Hageali, M.; Stuck, R.; Siffert, P. J. Appl. Phys. 1983, 54, 3260-3268.
18. Akutagawa, W.; Turnbull, D.; Chu, W. K.; Mayer, J. W. J. Phys. Chem. Solids 1975, 36, 521-528.
19. Wolf, H.; Wagner, F.; Wiehert, T.; Isolde Collaboration, Phys. B 2003, 340, 275-279.
20. Leung, L. K.; Komplin, N. J.; Ellis, A. B.; Tabatabaie, N. J. Phys. Chem. 1991, 95, 5918-5924.
21. Mancini, A. M.; Quirini, A.; Vasanelli, L.; Perillo, E.; Rosato, E.; Spadaccini, G. Thin Solid Films 1982, 89, 407-412.
22. Ammann, E.; Mandler, D. J. Electrochem. Soc. 2001, 148, C533-C539.
23. Meltzer, S.; Mandler, D. J. Electrochem. Soc. 1995, 142, L82-L84.
24. Turyan, I.; Matsue, T.; Mandler, D. Anal. Chem. 2000, 72, 3431-3435.
25. Unwin P. R.; Macpherson, J. V.; Martin, R. D.; McConville, C. F. Localized In-Situ Methods for Investigating Electrochemical Surfaces; The Electrochemical Society: Pennington, New Jersey, 2000.
26. Malel, E.; Mandler, D. J. Electrochem. Soc. 2008, in press.
27. Burt, D. P.; Cervera, J.; Mandler, D.; Macpherson, J. V.; Manzanares, J. A.; Unwin, P. R. Phys. Chem. Chem. Phys. 2005, 7, 2955-2964.
28. Bard A. J.; Mirkin M. V. Scanning Electrochemical Microscopy, 1st ed.; Marcel Dekker, Inc.: New York, 2001.
29. Kwak, J.; Bard, A. J. Anal. Chem. 1989, 61, 1221-1227.
30. Bard, A. J.; Fan, F. R. F.; Pierce, D. T.; Unwin, P. R.; Wipf, D. O.; Zhou, F. M. Science 1991, 254, 68-74.
31. Mandler, D.; Bard, A. J. J. Electrochem. Soc. 1990, 137, 2468-2472.
32. Mandler, D.; Bard, A. J. Langmuir 1990, 6, 1489-1494.
33. Meltzer, S.; Mandler, D. J. Chem. Soc., Faraday Trans. 1995, 91, 1019-1024.
34. Horrocks, B. R.; Mirkin, M. V.; Bard, A. J. J. Phys. Chem. 1994, 98, 9106-9114.
35. De Abril, O.; Mandler, D.; Unwin, P. R. Electrochem. Solid-State Lett. 2004, 7, C71-C74.
36. Shavel, A.; Gaponik, N.; Eychmuller, A. Eur. J. Inorg. Chem. 2005, 3613-3623.
37. Franzl, T.; Koktysh, D. S.; Klar, T. A.; Rogach, A. L.; Feldmann, J.; Gaponik, N. Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 2904-2906.
38. Slevin, C. J.; Ryley, S.; Walton, D. J.; Unwin, P. R. Langmuir 1998, 14, 5331-5334.
39. Couderc J. J.; Garigue G.; Lafourcade L.; Nguyen Q. T.; Z. Metallkd. 1959; p. 708.
40. Mergui, S.; Hageali, M.; Koebel, J. M.; Siffert, P. Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. Sect. A 1992, 322, 375-380.
41. Carbone, L.; Kudera, S.; Giannini, C.; Ciccarella, G.; Cingolani, R.; Cozzoli, P. D.; Manna, L. J. Mater. Chem. 2006, 16, 3952-3956.
42. Powder Diffraction File PDF-2, The International Centre for Diffraction, Newton Square, Philadelphia, release 2002, CAD: 01-089-3697, 01-075-2086, 03-065-0440, 01-080-0088, 01-089-3722, 03-065-1148, 03065-1114, 00-043-1472, 03-065-2443.
43. Li, M. J.; Zhang, H.; Zhang, J. H.; Wang, C. L.; Han, K.; Yang, B. J. Colloid Interface Sci. 2006, 300, 564-568.
44. Gao, M. Y.; Lesser, C.; Kirstein, S.; Mohwald, H.; Rogach, A. L.; Weller, H. J. Appl. Phys. 2000, 87, 2297-2302.
45. Li, J.; Liu, B.; Li, J. H. Langmuir 2006, 22, 528-531.
46. Kuang, M.; Wang, D. Y.; Bao, H. B.; Gao, M. Y.; Mohwald, H.; Jiang, M. Adv. Mater. 2005, 17, 267-270.
47. Li, J.; Hong, X.; Liu, Y.; Li, D.; Wang, Y. W.; Li, J. H.; Bai, Y. B.; Li, T. J. Adv. Mater. 2005, 17, 163-166.
48. Zebli, B.; Susha, A. S.; Sukhorukov, G. B.; Rogach, A. L.; Parak, W. J. Langmuir 2005, 21, 4262-4265.
49. Gaponik, N. P.; Talapin, D. V.; Rogach, A. L.; Eychmuller, A. J. Mater. Chem. 2000, 10, 2163-2166.
50. Rogach, A.; Susha, A.; Caruso, F.; Sukhorukov, G.; Kornowski, A.; Kershaw, S.; Mohwald, H.; Eychmuller, A.; Weller, H. Adv. Mater. 2000, 12, 333-337.
51. Bertoni, C.; Gallardo, D.; Dunn, S.; Gaponik, N.; Eychmuller, A. Appl. Phys. Lett. 2007, 90.
52. Gallardo, D. E.; Bertoni, C.; Dunn, S.; Gaponik, N.; Eychmuller, A. Adv. Mater. 2007, 19, 3364-3367.
53. Sukhorukov, G. B.; Rogach, A. L.; Zebli, B.; Liedl, T.; Skirtach, A. G.; Kohler, K.; Antipov, A. A.; Gaponik, N.; Susha, A. S.; Winterhalter, M.; Parak, W. J. Small 2005, 1, 194-200.
54. Feng, Z. C.; Chou, H. C.; Rohatgi, A.; Lim, G. K.; Wee, A. T. S.; Tan, K. L. J. Appl. Phys. 1996, 79, 2151-2153.
55. Garbassi, F.; Bart, J. C. J.; Petrini, G. J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 1981, 22, 95-107.
56. Wee, A. T. S.; Feng, Z. C.; Hng, H. H.; Tan, K. L.; Farrow, R. F. C.; Choyke, W. J. Phys.-Condes. Matter. 1995, 7, 4359-4369.
57. Chen, R. Z.; Xu, D. S.; Guo, G. L.; Gui, L. L. Electrochim. Acta 2004, 49, 2243-2248.
58. Unwin, P. R.; Bard, A. J. J. Phys. Chem. 1991, 95, 7814-7824.
59. Shoup, D.; Szabo, A. J. Electroanal. Chem. 1982, 140, 237-245.
60. Martin, H.; Carro, P.; Creus, A. H.; Gonzalez, S.; Salvarezza, R. C.; Arvia, A. J. Langmuir 1997, 13, 100-110.