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Volumn 86, Issue 2, 2008, Pages 87-91

Mass transfer considerations during pulse plating

Author keywords

Dual diffusion layer; Mass transfer; Pulse current; Pulse deposition; Pulse limiting current; Pulse parameters; Pulse plating

Indexed keywords

ELECTRIC CURRENTS; PARAMETER ESTIMATION; PLATING;

EID: 44349162859     PISSN: 00202967     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1179/174591908X272942     Document Type: Article
Times cited : (19)

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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.