Sensitization of Er luminescence by Si nanoclusters

Physical Review B - Condensed Matter and Materials Physics

Volumn 69, Issue 23, 2004, Pages

  Wojdak, M ^a   Klik, M ^a   Forcales, M ^a   Gusev, O B ^a,d   Gregorkiewicz, T ^a   Pacifici, D ^b   Franzo G ^b   Priolo, F ^b   Iacona, F ^c  

^a UNIVERSITY OF AMSTERDAM   (Netherlands)

^b UNIVERSITY OF CATANIA   (Italy)

^c CNR IMM   (Italy)

^d IOFFE INSTITUTE   (Russian Federation)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ERBIUM; OXYGEN; SILICON;

ARTICLE; CALCULATION; CONCENTRATION RESPONSE; ELECTRON; ELECTRONICS; ENERGY TRANSFER; MEASUREMENT; NANOPARTICLE; OPTICS; PHOTOLUMINESCENCE; STEADY STATE;

EID: 42749107441     PISSN: 01631829     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1103/PhysRevB.69.233315     Document Type: Article

References (23)

1. S. Schmitt-Rink, C. M. Varma, and A. F. J. Levi, Phys. Rev. Lett. 66, 2782 (1991); S. S. Iyer and Y.-H. Xie, Science 260, 40 (1993).
2. S. Schmitt-Rink, C. M. Varma, and A. F. J. Levi, Phys. Rev. Lett. 66, 2782 (1991); S. S. Iyer and Y.-H. Xie, Science 260, 40 (1993).
3. F. Priolo, G. Franzò, S. Coffa, and A. Camera, Phys. Rev. B 57, 4443 (1998); P. G. Kik et al., Appl. Phys. Lett. 70, 1721 (1997).
4. F. Priolo, G. Franzò, S. Coffa, and A. Camera, Phys. Rev. B 57, 4443 (1998); P. G. Kik et al., Appl. Phys. Lett. 70, 1721 (1997).
5. M. Fujii et al., Appl. Phys. Lett. 71, 1198 (1997); M. Fujii et al., J. Appl. Phys. 84, 4525 (1998); G. Franzò et al., Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 69, 3 (1999); F. Priolo et al., Mater. Sci. Eng., B 81, 9 (2001); C. E. Chryssou et al., Appl. Phys. Lett. 75, 2011 (1999).
6. M. Fujii et al., Appl. Phys. Lett. 71, 1198 (1997); M. Fujii et al., J. Appl. Phys. 84, 4525 (1998); G. Franzò et al., Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 69, 3 (1999); F. Priolo et al., Mater. Sci. Eng., B 81, 9 (2001); C. E. Chryssou et al., Appl. Phys. Lett. 75, 2011 (1999).
7. M. Fujii et al., Appl. Phys. Lett. 71, 1198 (1997); M. Fujii et al., J. Appl. Phys. 84, 4525 (1998); G. Franzò et al., Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 69, 3 (1999); F. Priolo et al., Mater. Sci. Eng., B 81, 9 (2001); C. E. Chryssou et al., Appl. Phys. Lett. 75, 2011 (1999).
8. M. Fujii et al., Appl. Phys. Lett. 71, 1198 (1997); M. Fujii et al., J. Appl. Phys. 84, 4525 (1998); G. Franzò et al., Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 69, 3 (1999); F. Priolo et al., Mater. Sci. Eng., B 81, 9 (2001); C. E. Chryssou et al., Appl. Phys. Lett. 75, 2011 (1999).
9. M. Fujii et al., Appl. Phys. Lett. 71, 1198 (1997); M. Fujii et al., J. Appl. Phys. 84, 4525 (1998); G. Franzò et al., Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 69, 3 (1999); F. Priolo et al., Mater. Sci. Eng., B 81, 9 (2001); C. E. Chryssou et al., Appl. Phys. Lett. 75, 2011 (1999).
10. L. Pavesi et al., Nature (London) 408, 440 (2000); V. I. Klimov et al., Science 290, 314 (2000).
11. L. Pavesi et al., Nature (London) 408, 440 (2000); V. I. Klimov et al., Science 290, 314 (2000).
12. F. Priolo et al., J. Appl. Phys. 89, 264 (2001).
13. A. J. Kenyon et al., J. Appl. Phys. 91, 367 (2002).
14. W. J. Miniscalco, J. Lightwave Technol. 9, 234 (1991).
15. D. Kovalev, H. Hockler, M. Ben-Chorin, G. Polisski, M. Schwartzkopff, and F. Koch, Phys. Rev. Lett. 81, 2803 (1998).
16. X. L. Wu, V. F. Mei, G. G. Siu, K. L. Wong, K. Molding, M. J. Stokes, C. L. Fu, and X. M. Bao, Phys. Rev. Lett. 86, 3000 (2001).
17. G. Franzò et al., Appl. Phys. Lett. 76, 2167 (2000).
18. F. Iacona et al., Appl. Phys. Lett. 81, 3242 (2002).
19. E. Snoeks, A. Lagendijk, and A. Polman, Phys. Rev. Lett. 74, 2459 (1995).
20. O. B. Gusev, M. S. Bresler, P. E. Pak, I. N. Yassievich, M. Forcales, N. Q. Vinh, and T. Gregorkiewicz, Phys. Rev. B 64, 075302 (2001).
21. G. Franzò et al., Appl. Phys. Lett. 82, 3871 (2003).
22. D. Pacifici, G. Franzo, F. Priolo, F. Iacona, and L. Dal Negro, Phys. Rev. B 67, 245301 (2003).
23. K. Watanabe et al., J. Appl. Phys. 90, 4761 (2001).