The optical and electrical properties of Zn-doped CuAlO2 thin films deposited by RF magnetron sputtering

Journal of the Electrochemical Society

Volumn 155, Issue 5, 2008, Pages

  Dong, Peiming ^a   Zhang, Ming ^a   Dong, Guobo ^a   Zhao, Xueping ^a   Yan, Hui ^a  

^a BEIJING UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

COPPER COMPOUNDS; ELECTRIC PROPERTIES; MAGNETRON SPUTTERING; OPTICAL PROPERTIES; ZINC COMPOUNDS;

OXYGEN DEFICIENCY; ROOM TEMPERATURE;

THIN FILMS;

EID: 41849095183     PISSN: 00134651     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1149/1.2884858     Document Type: Article

References (32)

1. D. Ginley, B. Roy, A. Ode, C. Warmsingh, Y. Yoshida, P. Parilla, C. Teplin, T. Kaydanova, A. Miedaner, C. Curtis, Thin Solid Films, 445, 193 (2003).
2. N. D. Popovich, S. S. Wong, S. Ufer, V. Sakhrani, and D. Paine, J. Electrochem. Soc., 150, H255 (2003).
3. K. Nomura, N. Shibata, and M. Maeda, J. Electrochem. Soc., 149, F76 (2002).
4. D. H. Park, Y. H. Cho, Y. R. Do, and B. T. Ahn, J. Electrochem. Soc., 153, H63 (2006).
5. H. Hiramatsu, K. Ueda, H. Ohta, M. Hirano, T. Kamiya, and H. Hosono, Thin Solid Films, 445, 304 (2003).
6. H. Kawazoe, M. Yasukawa, H. Hyodo, M. Kurita, H. Yanagi, and H. Hosono, Nature (London), 389, 939 (1997).
7. K. Ueda, S. Inoue, H. Hirose, H. Kawazoe, and H. Hosono, Appl. Phys. Lett., 77, 2701 (2000).
8. H. Kamioka, H. Hidenori, H. Ohta, M. Hirano, K. Ueda, T. Kamiya, and H. Hosono, Appl. Phys. Lett., 84, 879 (2004).
9. K. Ueda, T. Hase, H. Yanagi, H. Kawazoe, and H. Hosono, J. Appl. Phys., 89, 1790 (2001).
10. H. Yanagi, T. Hase, S. Ibuki, K. Ueda, and H. Hosono, Appl. Phys. Lett., 78, 1583 (2001).
11. N. Duan, A. W. Sleight, M. K. Jayaraj, and J. Tate, Appl. Phys. Lett., 77, 1325 (2000).
12. B. J. Ingram, B. J. Harder, N. W. Hrabe, T. O. Mason, and K. Poeppelmeier, Chem. Mater., 16, 5623 (2004).
13. A. Kudo, H. Yanagi, H. Hosono, and H. Kawazoe, Appl. Phys. Lett., 73, 220 (1998).
14. T. Dittrich, L. Dloczik, T. Guminskaya, and M. C. Lux-Steiner, Appl. Phys. Lett., 85, 742 (2004).
15. B. Mahrov, G. Boschloo, A. Hagfeldt, L. Dloczik, and T. Dittrich, Appl. Phys. Lett., 84, 5455 (2004).
16. K. Tonooka, H. Bando, and Y. Aiura, Thin Solid Films, 445, 327 (2003).
17. X. G. Zheng, K. Taniguchi, A. Takahashi, Y. Liu, and C. N. Xu, Appl. Phys. Lett., 85, 1728 (2004).
18. A. N. Banerjee, R. Maity, P. K. Ghosh, and K. K. Chattopadhyay, Thin Solid Films, 474, 261 (2005).
19. R. Nagarajan, A. D. Draeseke, A. W. Sleight, and J. Tate, J. Appl. Phys., 89, 8022 (2001).
20. S. Y. Zheng, G. S. Jiang, J. R. Su, and C. F. Zhu, Mater. Lett., 60, 3871 (2006).
21. K. Park, K. Y. Ko, and W.-S. Seo, Mater. Sci. Eng., B, 129, 1 (2006).
22. D. J. Aston, D. J. Payne, A. J. H. Green, R. G. Egdell, D. S. L. Law, J. Guo, P. A. Glans, T. Learmonth, and K. E. Smith, Phys. Rev. B, 72, 195115 (2005).
23. W. Lan, M. Zhang, G. B. Dong, P. M. Dong, Y. Y. Wang, and H. Yan, Mater. Sci. Eng., B, 139, 155 (2007).
24. A. N. Banerjee and K. K. Chattopadhyay, J. Appl. Phys., 97, 084308 (2005).
25. K. L. Chopra, Thin Film Phenomenon, Mc Graw-Hill, New York (1969).
26. J. I. Pankove, Optical Processes in Semiconductors, p. 34, Prentice-Hall, Inc., Englewood Cliffs, NJ (1971).
27. R. S. Yu, S. C. Liang, C. J. Lu, D. C. Tasi, and F. S. Shieu, Appl. Phys. Lett., 90, 191117 (2007).
28. T. Maruyama, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, 37, 4099 (1998).
29. I. Costina and R. Franchy, Appl. Phys. Lett., 78, 4139 (2001).
30. M. S. Lee, T. Y. Kim, and D. Kim, Appl. Phys. Lett., 79, 2028 (2001).
31. M. L. Liu, F. Q. Huang, L. D. Chen, Y. M. Wang, Y. H. Wang, G. F. Li, and Q. Zhang, Appl. Phys. Lett., 90, 072109 (2007).
32. A. N. Banerjee, C. K. Ghosh, and K. K. Chattopadhyay, Sol. Energy Mater. Sol. Cells, 89, 75 (2005).