Direct electrodeposition of copper ladder structures on a silicon substrate

Crystal Growth and Design

Volumn 8, Issue 2, 2008, Pages 442-445

  Wang, Ke ^a   Niu, Lianping ^a   Zong, Zhaocun ^a   Zhang, Mingzhe ^a   Wang, Chen ^a   Shi, Xinjing ^a   Men, Yongfan ^a   Zou, Guangtian ^a  

^a JILIN UNIVERSITY   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 39749110079     PISSN: 15287483     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cg070200n     Document Type: Article

References (28)

1. Winkleman, A.; Gates, B. D.; McCarty, L. S.; Whitesides, G. M. Adv. Matter. 2005, 17, 1507.
2. Wang, D. Y.; Mohwald, H. J. Mater. Chem. 2004, 14, 459.
3. Parviz, B. A.; Ryan, D.; Whitessides, G. M. IEEE Trans. Adv. Packag. 2003, 26, 233.
4. Paunovic M.; Schlesinger M. Fundamentals of Electrochemical Deposition; John Wiley & Sons, Inc: New York, 1998.
5. Endres, F.; Bukowski, M.; Hempelmann, R.; Natter, H. Angew. Chem., Int. Ed. 2003, 42, 3428;
6. Angew. Chem. 2003, 115, 3550.
7. Zhang, M. Z.; Zhuo, G. H.; Zong, Z. C.; Cheng, H. Y.; He, Z.; Yang, C. M.; Li, D. M.; Zuo, G. T. Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 203106.
8. Zhang, M. Z.; Zhuo, G. H.; Zong, Z. C.; Cheng, H. Y.; He, Z.; Yang, C. M.; Zuo, G. T. Small 2006, 2, 727.
9. Zhang, M. Z.; Lenhert, S.; Wang, M.; Liu, N.; Chi, L. F.; Fuchs, H.; Ming, N. B. Adv. Mater. 2004, 16, 409.
10. Leger, C.; Elezgaray, J.; Argoul, F. Phys. Rev. E 2000, 61, 5452.
11. Kuhn, A.; Argoul, F.; Muzy, J. F.; Arneodo, A. Phys. Rev. Lett. 1994, 73, 2998.
12. Fleury, V.; Chazalviel, J. N.; Rosso, M. Phys. Rev. Lett. 1992, 68, 2492
13. Chazalviel, J. N.; Rosso, M.; Chassaing, E.; Fleury, V. J. Electroanal. Chem. 1996, 407, 61.
14. Witten, T. A.; Sander, L. M. Phys. Rev. Lett. 1981, 47, 1400.
15. Grier, D. G.; Ben-Jacob, E.; Clarke, R.; Sander, L. M. Phys. Rev. Lett. 1986, 56, 1264.
16. Fleury, V. J. Mater. Res. 1991, 6, 1169.
17. Wang, M.; Zhong, S.; Yin, X. B.; Zhu, J. M.; Peng, R. W.; Min, N. B. Phys. Rev. Lett. 2001, 86, 3827.
18. Zhang, M. Z.; Wang, M.; Zhang, Z.; Zhu, J. M.; Peng, R. W.; Ming, N. B. Electrochim. Acta 2004, 49, 2379.
19. Sagues, F.; Lopez-Salvans, M. Q.; Claret, J. Phys. Rep. 2000, 337, 97.
20. Bruyn, R. Phys. Rev. E 1997, 56, 3326.
21. Fleury, V. Nature 1997, 390, 145.
22. Fleury, V.; Watters, W. A.; Allam, L.; Devers, T. Nature 2002, 416, 716.
23. Vicsek, T. Phys. Rev. Lett. 1984, 53, 2281.
24. Lopez-Salvans, M. Q.; Trigueros, P. P.; Vallmitjana, S.; Claret, J.; Sagues, F. Phys. Rev. Lett. 1996, 76, 4062.
25. Leger, C.; Servant, L.; Bruneel, J. L.; Argoul, F. Phys. A 1999, 263, 305.
26. Wang, M.; Van Enckevort, W. J. P.; Ming, N. B.; Bennema, P. Nature 1994, 367, 438.
27. Barkey, D.; Oberholtzer, F.; Wu, Q. Phys. Rev. Lett. 1995, 75, 2980.
28. Zhang, M. Z.; Wang, Y.; Wang, S.; Yu, G. W.; Wang, M.; Peng, R. W.; Ming, N. B. J. Phys.: Condens. Matter 2004, 16, 695.