First example of ZnO-TiO2 nanocomposites by chemical vapor deposition: Structure, morphology, composition, and gas sensing performances

Chemistry of Materials

Volumn 19, Issue 23, 2007, Pages 5642-5649

  Barreca, Davide ^a   Comini, Elisabetta ^b   Ferrucci, Angelo P ^a   Gasparotto, Alberto ^a   Maccato, Chiara ^a   Maragno, Cinzia ^a   Sberveglieri, Giorgio ^b   Tondello, Eugenio ^a  

^a UNIVERSITY OF PADOVA   (Italy)

^b UNIVERSITY OF BRESCIA   (Italy)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CHEMICAL SENSORS; CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; CRYSTAL GROWTH; HEAT TREATMENT; VOLATILE ORGANIC COMPOUNDS; ZINC OXIDE;

CHEMICO-PHYSICAL PROPERTIES; FOOD CONTROL MONITORING; HOST MATRIX POROSITY;

NANOCOMPOSITES;

EID: 36348946365     PISSN: 08974756     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cm701990f     Document Type: Article

References (58)

1. Wang, Z-S.; Huang, C.-H.; Huang, Y.-Y.; Hou, Y.-J.; Xie, P.-H.; Zhang, B.-W.; Chen, H.-M. Chem. Mater. 2001, 13, 678.
2. Abrams, B. L.; Wilcoxon, J. P. Crit. Rev. Solid State Mater. Sci. 2005, 30, 153.
3. Marcì, G.; Augugliaro, V.; López-Muñoz, M. J.; Martín, C.; Palmisano, L.; Rives, V.; Schiavello, M.; Tilley, R. J. D.; Venezia, A. M. J. Phys. Chem. B 2001, 105, 1026.
4. Kandavelu, V.; Kastien, H.; Thampi, K. R. Appl. Catal., B 2004, 48, 101.
5. Kwon, T.-H.; Park, S.-H.; Ryu, J.-Y.; Choi, H.-H. Sens. Actuators, B 1998, 46, 75.
6. Keis, K.; Roos, A. Opt. Mater. 2002, 20, 35.
7. Yang, S. G.; Quan, X.; Li, X. Y.; Liu, Y. Z.; Chen, S.; Chen, G. H. Phys. Chem. Chem. Phys. 2004, 6, 659.
8. Wu, W.; Cai, Y.-W.; Chen, J.-F.; Shen, S.-L.; Martin, A.; Wen, L.-W. J. Mater. Sci. 2006, 41, 5845.
9. Wang, X.; Summers, C. J.; Wang, Z. L. Nano Lett. 2004, 4, 423.
10. Kim, S. W.; Fujita, S.; Park, H. K.; Yang, B.; Kim, H. K.; Yoon, D. H. J. Cryst. Growth 2006, 292, 306.
11. Marcì, G.; Augugliaro, V.; López-Muñoz, M. J.; Martín, C.; Palmisano, L.; Rives, V.; Schiavello, M.; Tilley, R. J. D.; Venezia, A. M. J. Phys. Chem. B 2001, 105, 1033.
12. Wang, X.-T.; Zhong, S.-H.; Xiao, X.-F. J. Mol. Catal. A: Chem. 2005, 229, 87.
13. Zhu, B. L.; Xie, C. S.; Wang, W. Y.; Huang, K. J.; Hu, J. H. Mater. Lett. 2004, 58, 624.
14. Kwon, T. H.; Ryu, J. Y.; Choi, W. C.; Kim, S. W.; Park, S. H.; Choi, H. H.; Lee, M. K. Sens. Mater. 1999, 11, 257.
15. Eranna, G.; Joshi, B. C.; Runthala, D. P.; Gupta, R. P. Crit. Rev. Solid State Mater. Sci. 2004, 29, 111.
16. Comini, E. Anal. Chim. Acta 2006, 568, 28.
17. Baratto, C.; Sberveglieri, G.; Onischuk, A.; Caruso, B.; di Stasio, S. Sens. Actuators, B 2004, 100, 261.
18. Xu, H.; Liu, X.; Cui, D.; Li, M.; Jiang, M. Sens. Actuators, B 2006, 114, 301.
19. de Lacy Costello, B. P. J.; Ewen, R. J.; Ratcliffe, N. M.; Sivanand, P. S. Sens. Actuators, B 2003, 92, 159.
20. Ryu, H.-W; Park, B. S.; Akbar, S. A.; Lee, W.-S.; Hong, K.-J.; Seo, Y.-J.; Shin, D.-C.; Park, J.-S.; Choi, G.-P. Sens. Actuators, B 2003, 96, 717.
21. Epifani, M.; Diaz, R.; Arbiol, J.; Comini, E.; Sergent, N.; Pagnier, T.; Siciliano, P.; Faglia, G.; Morante, J. R. Adv. Funct. Mater. 2006, 16, 1488.
22. Tai, W.-P.; Kim, J.-G.; Oh, J.-H. Sens. Actuators, B 2003, 96, 477.
23. Ocaña, M.; Hsu, W. P.; Matijevic, E. Langmuir 1991, 7, 2911.
24. Lin, S.-S; Huang, J.-L.; Lii, D.-F. Surf. Coat. Technol. 2005, 190, 372.
25. Lu, Y.-M.; Chang, C.-M.; Tsai, S.-I.; Wey, T.-S. Thin Solid Films 2004, 447-448, 56.
26. Dakhel, A. A. Appl. Phys. A 2003, 77, 677.
27. Saeki, I.; Setaka, J.; Furuichi, R.; Konno, H. J. Electroanal. Chem. 1999, 464, 238.
28. Wang, C.; Xu, B.-Q.; Wang, X.; Zhao, J. J. Solid State Chem. 2005, 178, 3500.
29. Chang, Y.-S.; Chang, Y.-H.; Chen, I.-C.; Chen, G.-J.; Chai, Y.-L. J. Cryst. Growth 2002, 243, 319.
30. Yang, H. G.; Zeng, H. C. J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 270.
31. Mane, R. S.; Lee, W. J.; Pathan, H. M.; Han, S. H. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 24254.
32. Kim, S.-S.; Yum, J.-H.; Sung, Y.-E. J. Photochem. Photobiol., A 2005, 171, 69.
33. Chen, Z.-X; van der Eyden, J.; Koot, W.; van den Berg, R.; van Mechelen, J.; Derking, A. J. Am. Ceram. Soc. 1995, 78, 2993.
34. Armelao, L.; Barreca, D.; Bottaro, G.; Gasparotto, A.; Tondello, E.; Ferroni, M.; Polizzi, S. Chem. Vap. Deposition 2004, 10, 257.
35. Armelao, L.; Barreca, D.; Bottaro, G.; Gasparotto, A.; Maragno, C.; Tondello, E. Chem. Mater. 2005, 17, 427.
36. Armelao, L.; Barreca, D.; Bottaro, G.; Gasparotto, A.; Maragno, C.; Tondello, E.; Sada, C. J. Nanosci. Nanotechnol. 2005, 5, 781.
37. Armelao, L.; Barreca, D.; Bottaro, G.; Gasparotto, A.; Maragno, C. Chem. Vap. Deposition 2007, 13, 112.
38. Barreca, D.; Ferrucci, A. P.; Gasparotto, A.; Maccato, C.; Maragno, C.; Tondello, E. Chem. Vap. Deposition 2007, in press.
39. Ryu, H.-K; Heo, J. S.; Cho, S.-I.; Moon, S. H. J. Electrochem. Soc. 1999, 146, 1117.
40. Turgambaeva, A. E.; Krisyuk, V. V.; Sysoev, S. V.; Igumenov, I. K. Chem. Vap. Deposition 2001, 7, 121.
41. Lo Nigro, R.; Toro, R. G.; Malandrino, G.; Fragalà, I. L.; Losurdo, M.; Giangregorio, M. M.; Bruno, G.; Raineri, V.; Fiorenza, P. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 17460.
42. Baunemann, A.; Hellwig, M.; Varade, A.; Bhakta, R. K.; Winter, M.; Shivashankar, S. A.; Fischer, R. A.; Devi, A. Dalton Trans. 2006, 3485.
43. Ni, J.; Yan, H.; Wang, A.; Yang, Y.; Stern, C. L.; Metz, A. W.; Jin, S.; Wang, L.; Marks, T. J.; Ireland, J. R.; Kannewurf, C. R. J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 5613.
44. Gong, H.; Hu, J. Q.; Wang, J. H.; Ong, C. H.; Zhu, F. R. Sens. Actuators, B 2006, 115, 247.
45. Barreca, D.; Gasparotto, A.; Maccato, C.; Maragno, C.; Tondello, E.; Comini, E.; Sberveglieri, G. Nanotechnology 2007, 18, 125502.
46. Park, S. H.; Choi, H. H.; Kwon, T. H. Sens. Mater. 1996, 8, 485.
47. Mineiro, S. L.; Nono, M. C. A.; Kuranaga, C.; Silva, M. D. Mater. Sci. Forum 2005, 498-499, 293.
48. Barreca, D.; Gasparotto, A.; Maragno, C.; Tondello, E.; Bontempi, E.; Depero, L. E.; Sada, C. Chem. Vap. Deposition 2005, 11, 426.
49. Briggs, D.; Seah, M. P. Practical Surface Analysis, 2nd ed.; John Wiley and Sons: New York, 1990.
50. Tougaard, S. Surf. Interface Anal. 1998, 26, 249.
51. Pattern No. 36-1451, JCPDS, 2000.
52. Pattern No. 21-1272, JCPDS, 2000.
53. Barreca, D.; Buchberger, A.; Daolio, S.; Depero, L. E.; Fabrizio, M.; Morandini, F.; Rizzi, G. A., Sangaletti, L.; Tondello, E. Langmuir 1999, 15, 4537.
54. Moulder, J. F.; Stickle, W. F.; Sobol, P. W.; Bomben, K. D. Handbook of X-ray Photoelectron Spectroscopy; PerkinElmer: Eden Prairie, MN, 1992.
55. Comini, E.; Faglia, G.; Ferroni, M.; Sberveglieri, G. Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 2007, 88, 45.
56. Madou, M. J.; Morrison, S. R. Chemical Physics of Surfaces; Academic Press Inc.: New York, 1988.
57. Rao, B. B. Mater. Chem. Phys. 2000, 64, 62.
58. Anno, Y.; Maekawa, T.; Tamaki, J.; Asano, Y.; Hayashi, K.; Miura, N.; Yamazoe, N. Sens. Actuators, B 1995, 24-25, 623.