Deposition of an Al cathode for an OLED by using low-damage sputtering method

Journal of the Korean Physical Society

Volumn 51, Issue 3, 2007, Pages 1023-1026

  Kim, Sang Mo ^a   Kim, Kyung Hwan ^a   Keum, Min Jong ^b  

^a Gachon University   (South Korea)

^b Sungkyunkwan University   (South Korea)

Author keywords

Al; Facing targets sputtering; OLED; Thin film

Indexed keywords

EID: 34948856430     PISSN: 03744884     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.3938/jkps.51.1023     Document Type: Article

References (14)

1. M. Pope, H. P. Kallmann and P. Magnate, J. Chem. Phys. 38, 2042 (1963).
2. Y. Yang and A. J. Heeger, Synth. Metals 87, 171 (1997).
3. S. A. Carter, M. Angelopoulos, S. Karg, P. J. Brock and J. C. Scott, Appl. Phys. Lett. 70, 2067 (1997).
4. F. L. Wong, M. K. Fung, S. W. Tong, C. S. Lee and S. T. Lee, Thin Solid Films 466, 225 (2004).
5. B. L. Low, F. R. Zhu, K. R. Zhang and S. J. Chua, Thin solid Films 417, 116 (2002).
6. D. Mergel, M. Schnekel, M. Ghebre and M. Sulkowski, Thin Solid Films 392, 91 (2004).
7. C.-H. Chung, Y.-W. Ko, Y.-H. Kim, C.-Y. Sohn, H. Y. Chum, S.-H. Ko Park and J. H. Lee, Thin Solid Films 491, 294 (2005).
8. K. Junji, Y. Akira and K. Sadao, US Patent 6, 278 (2004).
9. S. Nakagawa and M. Naoe, Vacuum 51, 595 (1998).
10. J. S. Yang, H. Y. Seong, M. J. Keum, I. H. Son and K. H. Kim, Surf. & Coat. Tech. 169-170, 575 (2003).
11. K. H. Kim, S. H. Kong, M. J. Keum, I. H. Son, M. Naoe and S. Nakagawa, Appl. Surf. Sci. 169, 409 (2001).
12. S. W. Hwang, H. S. Oh and S. J. Kang, J. Korean Phys. Soc. 47, 34 (2005).
13. A. I. Ali, C. H. Kim, J. H. Cho and B. G. Kim, J. Korean Phys. Soc. 49, S652 (2006).
14. S. H. Lee, D. H. Kim, H. D. Yang, G. S. Lee and J. G. Park, J. Korean Phys. Soc. 50, 1327 (2007).