A Co-Al layered double hydroxides nanosheets thin-film electrode

Electrochemical and Solid-State Letters

Volumn 10, Issue 10, 2007, Pages

  Wang, Yi ^a   Yang, Wensheng ^a,b   Yang, Junjiao ^a  

^a BEIJING UNIVERSITY OF CHEMICAL TECHNOLOGY   (China)

^b ELECTROCHEMICAL SOCIETY

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ALUMINUM; CAPACITANCE; COBALT; COLLOIDS; MICROSTRUCTURE; THIN FILMS;

ELECTROCHEMICAL STABILITY; INDIUM TIN OXIDE (ITO); LAYERED DOUBLE HYDROXIDES (LDH); SUPERCAPACITORS; THIN-FILM ELECTRODES;

NANOSHEETS;

EID: 34547849612     PISSN: 10990062     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1149/1.2768166     Document Type: Article

References (41)

1. K. S. Han, S. W. Song, and M. Yoshimura, Chem. Mater., 10, 2183 (1998).
2. Y. J. Kim, H. Kim, B. Kim, D. Ahn, J. G. Lee, T. J. Kim, D. Son, J. Cho, Y. W. Kim, and B. Park, Chem. Mater., 15, 1505 (2003).
3. M. V. Reddy, B. Pecquenard, P. Vinatier, and A. Levasseur, J. Phys. Chem. B, 110, 4301 (2006).
4. Y. L. Zhang, Y. Liu, and M. L. Liu, Chem. Mater., 18, 4643 (2006).
5. H. K. Kim, T. Y. Seong, J. H. Lim, W. I. Cho, and Y. S. Yoon, J. Power Sources, 102, 167 (2001).
6. J. H. Lim, D. J. Choi, H. K. Kim, W. I. Cho, and Y. S. Yoon, J. Electrochem. Soc., 148, A275 (2001).
7. I. H. Kim and K. B. Kim, Electrochem. Solid-State Lett., 4, A62 (2001).
8. H. K. Kim, S. H. Choi, Y. S. Yoon, S. Y. Chang, Y. W. Ok, and T. Y. Seong, Thin Solid Films, 475, 54 (2005).
9. J. W. Long, B. Dunn, D. R. Rolison, and H. S. White, Chem. Rev. (Washington, D.C.), 104, 4463 (2004).
10. A. Burke, J. Power Sources, 91, 37 (2000).
11. M. Winter and R. J. Brodd, Chem. Rev. (Washington, D.C.), 104, 4245 (2004).
12. T. R. Jow and J. P. Zheng, J. Electrochem. Soc., 145, 49 (1998).
13. C. C. Hu and C. Y. Cheng, Electrochem. Solid-State Lett., 5, A43 (2002).
14. K. R. Prasad and N. Miura, Electrochem. Commun., 6, 1004 (2004).
15. V. Srinivasan and J. W. Weidner, J. Electrochem. Soc., 147, 880 (2000).
16. S. Y. Wang, K. C. Ho, S. L. Kuo, and N. L. Wu, J. Electrochem. Soc., 153, A75 (2006).
17. M. Mohamedi, D. Takahashi, T. Itoh, M. Umeda, and I. Uchida, J. Electrochem. Soc., 149, A19 (2002).
18. T. Sasaki and M. Watanabe, J. Am. Chem. Soc., 120, 4682 (1998).
19. A. Takagaki, M. Sugisawa, D. L. Lu, J. N. Kondo, M. Hara, K. Domen, and S. Hayashi, J. Am. Chem. Soc., 125, 5479 (2003).
20. Z. H. Liu, K. Ooi, H. Kanoh, W. P. Tang, and T. Tomida, Langmuir, 16, 4154 (2000).
21. W. Sugimoto, H. Iwata, Y. Yasunaga, Y. Murakami, and Y. Takasu, Angew. Chem., Int. Ed., 42, 4092 (2003).
22. Z. P. Liu, R. Z. Ma, M. Osada, N. Iyi, Y. Ebina, K. Takada, and T. Sasaki, J. Am. Chem. Soc., 128, 4872 (2006).
23. R. Z. Ma, Z. P. Liu, L. Li, N. Iyi, and T. Sasaki, J. Mater. Chem., 16, 3809 (2006).
24. Y. Zhou, R. Z. Ma, Y. Ebina, K. Takada, and T. Sasaki, Chem. Mater., 18, 1235 (2006).
25. L. Z. Wang, Y. Omomo, N. Sakai, K. Fukuda, I. Nakai, Y. Ebina, K. Takada, M. Watanabe, and T. Sasaki, Chem. Mater., 15, 2873 (2003).
26. R. Abe, K. Shinohara, A. Tanaka, M. Hara, J. N. Kondo, and K. Domen, Chem. Mater., 10, 329 (1998).
27. R. Abe, S. Ikeda, J. N. Kondo, M. Hara, and K. Domen, Thin Solid Films, 343-344, 156 (1999).
28. N. Miyamoto, K. Kuroda, and M. Ogawa, J. Mater. Chem., 14, 165 (2004).
29. E. Gardner, K. M. Huntoon, and T. J. Pinnavaia, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.), 13, 1263 (2001).
30. K. Okamoto, T. Sasaki, T. Fujita, and N. Iyi, J. Mater. Chem., 16, 1608 (2006).
31. J. J. Bravo-Suárez, E. A. Páez-Mozo, and S. T. Oyama, Microporous Mesoporous Mater., 67, 1 (2004).
32. T. Hibino and W. Jones, J. Mater. Chem., 11, 1321 (2001).
33. M. Wei, Q. Yuan, D. G. Evans, Z. Q. Wang, and X. Duan, J. Mater. Chem., 15, 1197 (2005).
34. J. A. Gursky, S. D. Blough, C. Luna, C. Gomez, A. N. Luevano, and E. A. Gardner, J. Am. Chem. Soc., 128, 8376 (2006).
35. Y. Wang, W. Yang, S. Zhang, D. G. Evans, and X. Duan, J. Electrochem. Soc., 152, A2130 (2005).
36. F. Švegl, B. Orel, M. G. Hutchins, and K. Kakher, J. Electrochem. Soc., 143, 1532 (1996).
37. L. Cao, F. Xu, Y. Y. Liang, and H. L. Li, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.), 16, 1853 (2004).
38. C. Lin, J. A. Ritter, and B. N. Popov, J. Electrochem. Soc., 145, 4097 (1998).
39. D. H. Buss, J. Bauer, W. Diembeck, and O. Glemser, J. Chem. Soc., Chem. Commun., 1985, 81.
40. N. Ohta, K. Takada, L. Q. Zhang, R. Z. Ma, M. Osada, and T. Sasaki, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.), 18, 2226 (2006).
41. M. Q. Wu, J. H. Gao, S. R. Zhang, and A. Chen, J. Power Sources, 159, 365 (2006).