Improved hole-injection and power efficiency of organic light-emitting diodes using an ultrathin Li-doped ZnO buffer layer

Journal of the Electrochemical Society

Volumn 154, Issue 3, 2007, Pages

  Huang, Hsin Hsuan ^a   Chu, Sheng Yuan ^a   Kao, Po Ching ^a   Chen, Yung Chen ^a   Chang, Ren Chuan ^a  

^a NATIONAL CHENG KUNG UNIVERSITY   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

DOPING (ADDITIVES); ELECTROOPTICAL EFFECTS; LITHIUM; OZONE; ULTRAVIOLET SPECTROSCOPY; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY; ZINC OXIDE;

ENERGY BARRIER; HOLE-TRANSPORTING LAYERS; INDIUM-TIN OXIDE (ITO); POWER EFFICIENCY; WORK FUNCTION;

LIGHT EMITTING DIODES;

EID: 33846971273     PISSN: 00134651     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1149/1.2432075     Document Type: Article

References (30)

1. S. R. Forrest, Chem. Rev. (Washington, D.C.), 97, 1793 (1997).
2. F. Li, H. Tang, J. Shinar, O. Resto, and S. Z. Weisz, Appl. Phys. Lett., 70, 2741 (1997).
3. H. Y. Yu, X. D. Feng, D. Grozea, Z. H. Lu, R. N. S. Sodhi, A.-M. Hor, and H. Aziz, Appl. Phys. Lett., 78, 2595 (2001).
4. S. T. Lee, Z. Q. Gao, and L. S. Hung, Appl. Phys. Lett., 75, 1404 (1999).
5. A. R. Schlatmann, D. Wilms Floet, A. Hilberer, F. Garten, P. J. M. Smulders, T. M. Klapwijk, and G. Hadziioannou, Appl. Phys. Lett., 69, 1764 (1996).
6. S. A. VanSlyke, C. H. Chen, and C. W. Tang, Appl. Phys. Lett., 69, 2160 (1996).
7. Y. Kurosaka, N. Tada, Y. Ohmori, and K. Yoshino, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, 37, L872 (1998).
8. W. Hu, K. Manabe, T. Furukawa, and M. Matsumura, Appl. Phys. Lett., 80, 2640 (2002).
9. C. F. Qiu, H. Y. Chen, Z. L. Xie, M. Wong, and H. S. Kwok, Appl. Phys. Lett., 80, 3485 (2002).
10. S. Y. Kim, J. -L. Lee, K. -B. Kim, and Y. -H. Tak, Appl. Phys. Lett., 86, 133504 (2005).
11. C. M. Hsu and W. T. Wu, Appl. Phys. Lett., 85, 840 (2004).
12. K. K. Kim, H. S. Kim, D. K. Hwang, J. H. Lim, and S. J. Park, Appl. Phys. Lett., 83, 63 (2003).
13. H. Kim, A. Piqú, J. S. Horwitz, H. Murata, Z. H. Kafafi, C. M. Gilmore, and D. B. Chrisey, Thin Solid Films, 377-378, 798 (2000).
14. H. Kim, J. S. Horwitz, W. H. Kim, A. J. Mäkinen, Z. H. Kafafi, and D. B. Chrisey, Thin Solid Films, 420-421, 539 (2002).
15. H. Kim, C. M. Gilmore, J. S. Horwitz, A. Piqú, H. Murata, G. P. Kushto, R. Schlaf, Z. H. Kafafi, and D. B. Chrisey, Appl. Phys. Lett., 76, 259 (2000).
16. X. Jiang, F. L. Wong, M. K. Fung, and S. T. Lee, Appl. Phys. Lett., 83, 1875 (2003).
17. H. Kim, J. S. Horwitz, W. H. Kim, S. B. Qadri, and Z. H. Kafafi, Appl. Phys. Lett., 83, 3809 (2003).
18. W. Water, S. Y. Chu, Y. D. Juang, and S. J. Wu, Mater. Lett., 57, 998 (2002).
19. P. C. Kao, S. Y. Chu, S. J. Liu, Z. X. You, and C. A. Chuang, J. Electrochem. Soc., 153, H122 (2006).
20. S. T. Zhang, Z. J. Wang, J. M. Zhao, Y. Q. Zhan, Y. Wu, Y. C. Zhou, X. M. Ding, and X. Y. Hou, Appl. Phys. Lett., 84, 2916 (2004).
21. S. Shi and D. Ma, Appl. Surf. Sci., 252, 6337 (2006).
22. K. Okumoto, H. Kanno, Y. Hamada, H. Takahashi, and K. Shibata, Appl. Phys. Lett., 89, 013502 (2006).
23. L. Chkoda, C. Heske, M. Sokolowski, E. Umbach, F. Steuber, J. Staudigel, M. Stößel, and J. Simmerer, Synth. Met., 111, 315 (2000).
24. H. -K. Kim, K. -S. Lee, and H. -A. Kang, J. Electrochem. Soc., 153, H29 (2006).
25. D. L. Raimondi and E. Kay, J. Vinyl Technol., 7, 96 (1969).
26. M. Sano, T. Adaniya, T. Fujitani, and J. Nakamura, Surf. Sci., 514, 261 (2002).
27. H. M. Wang, M. C. Simmonds, and J. M. Rodenburg, Mater. Chem. Phys., 77, 802 (2002).
28. J. C. C. Fan and J. B. Goodenough, J. Appl. Phys., 48, 3524 (1977).
29. S. Y. Kim, J. -L. Lee, K. -B. Kim, and Y. -H. Tak, J. Appl. Phys., 95, 2560 (2004).
30. P. C. Kao, S. Y. Chu, Z. X. You, S. J. Liou, and C. A. Chuang, Thin Solid Films, 498, 249 (2006).