Seeded-growth approach to fabrication of silver nanoparticle films on silicon for electrochemical ATR surface-enhanced IR absorption spectroscopy

Journal of Physical Chemistry B

Volumn 110, Issue 51, 2006, Pages 25721-25728

  Huo, Sheng Juan ^a   Xue, Xiao Kang ^a   Li, Qiao Xia ^a   Xu, Su Fan ^a   Cai, Wen Bin ^a  

^a FUDAN UNIVERSITY   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

COLLOIDS; DEPOSITION; FILM GROWTH; NANOSTRUCTURED MATERIALS; SELF ASSEMBLY; SILVER;

IR ABSORPTION SPECTROSCOPY; NANOFILM ELECTRODES; NANOFILMS; REFLECTING PLANE;

METALLIC FILMS;

EID: 33846346201     PISSN: 15206106     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp064036a     Document Type: Article

References (69)

1. Freeman, R. G.; Grabar, K. C.; Allison, K. J.; Bright, R. M.; Davis, J. A.; Guthrie, A. P.; Hommer, M. B.; Jackson, M. A.; Smith, P. C.; Walter, D. G.; Natan, M. J. Science 1995, 267, 1629.
2. Lu, L. H.; Randjelovic, I.; Capek, R.; Gaponik, N.; Yang, J. H.; Zhang, H. J.; Eychmuller, A. Chem. Mater. 2005, 17, 5731.
3. Tian, Z. Q.; Ren, B.; Wu, D. Y. J. Phys. Chem. B 2002, 106, 9463.
4. Osawa, M. In Handbook of Vibrational Spectroscopy; Chalmers J. M., Griffiths, P. R., Eds.; John Wiley & Sons: Chichester, U.K., 2002; Vol. 1, pp 785-799.
5. Maxwell, D. J.; Emory, S. R.; Nie, S. M. Chem. Mater. 2001, 13, 1082.
6. Roy, D.; Pendler, J. Adv. Mater. 2004, 16, 479.
7. Aroca, R. F.; Alvarez-Puebla, R. A.; Pieczonka, N.; Sanchez-Cortez, S.; Garcia-Ramos, J. V. Adv. Colloid Interface Sci. 2005, 116, 45.
8. Hartstein, A.; Kirtley, J. R.; Tsang, J. C. Phys. Rev. Lett. 1980, 45, 201.
9. Aroca, R. F.; Ross, D. J.; Domingo, C. Appl. Spectrosc. 2004, 58, 324A
10. Huo, S. J.; Li, Q. X.; Yan, Y. G.; Chen, Y.; Cai, W. B.; Xu, Q. J.; Osawa, M. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 15985.
11. Huo, S. J.; Xue, X. K.; Yan, Y. G.; Li, Q. X.; Ma, M.; Cai, W. B.; Xu, Q. J.; Osawa, M. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 4162.
12. Bjerke, A. E.; Griffiths, P. R.; Theiss, W. Anal. Chem. 1999, 71, 1967.
13. Bjerke, A. E.; Griffiths, P. R. Appl. Spectrosc. 2002, 56, 1275.
14. Jensen, T. R.; Van, Duyne, R. P.; Johnson, S. A.; Maroni, V. A. Appl. Spectrosc. 2000, 54, 371.
15. Yajima, T.; Uchida, H.; Watanabe, M. J. Phys. Chem. B 2004, 108, 2654.
16. Luo, L. Q.; Futamata, M. Elctrochem. Commun. 2006, 8, 231.
17. Shao, M. H.; Adzic, R. R. Electrochim. Acta 2005, 50, 2415.
18. Shao, M. H.; Adzic, R. R. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 16563.
19. Futamata, M.; Luo, L. Q.; Nishihara, C. Surf. Sci. 2005, 590, 196.
20. Shiroishi, H.; Ayato, Y.; Kunimatsu, K.; Okada, T. J. Electroanal. Chem. 2005, 581, 132.
21. Pronkin, S.; Wandlowski, T. Surf. Sci. 2004, 573, 109.
22. Ataka, K.; Yotsuyanagi, T.; Osawa, M. J. Phys. Chem. 1996, 100, 10664.
23. Miyake, H.; Ye, S.; Osawa, M. Elctrochem. Commun. 2002, 4, 973.
24. Miki, A.; Ye, S.; Osawa, M. Chem. Commun. 2002, 1500.
25. Yan, Y. G.; Li, Q. X.; Huo, S. J.; Ma, M.; Cai, W. B.; Osawa, M. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 7900.
26. Rodes, A.; Orts, J. M.; Perez, J. M.; Feliu, J. M.; Aldaz, A. Elctrochem. Commun. 2003, 5, 56.
27. Delgado, J. M.; Orts, J. M.; Rodes, A. Langmuir 2005, 21, 8809.
28. Miyake, H.; Osawa, M. Chem. Lett. 2004, 33, 278.
29. Diao, Y. X.; Han, M. J.; Wan, L. J.; Itaya, K.; Uchida, T.; Miyake, H.; Yamakata, A.; Osawa, M. Langmuir 2006, 22, 3640.
30. Magagnin, L.; Maboudian, R.; Carraro, C. J. Phys. Chem. B 2002, 106, 401.
31. Bright, R. M.; Walter, D. G.; Musick, M. D.; Jackson, M. A.; Allison, K. J.; Natan, M. J. Langmuir 1996, 12, 810.
32. Brown, K. R.; Walter, D. G.; Natan, M. J. Chem. Mater. 2000, 12, 306.
33. Zhu, Z. H.; Zhu, T.; Liu, Z. F. Nanotechnology 2004, 75, 357.
34. Tong, H.; Zhu, L.; Li, M. N.; Wang, C. M. Electrochim. Acta 2003, 48, 2473.
35. Frederix, F.; Friedt, J. M.; Choi, K. H.; Laureyn, W.; Campitelli, A.; Mondelaers, D.; Maes, G.; Borghs, G. Anal. Chem. 2003, 75, 6894.
36. Liu, Z. C.; He, Q. G.; Xiao, P. F.; Liang, B.; He, N. Y.; Lu, Z. H. Acta Chim. Sin. 2002, 60, 627.
37. Jin, Y. D.; Kang, X. F.; Song, Y. H.; Zhang, B. L.; Cheng, G. J.; Dong, S. J. Anal. Chem. 2001, 73, 2843.
38. Abd El Rehim, S. S.; Hassan, H. H.; Ibrahim, M. A. M.; Amin, M. A. Monatsh. Chem. 1998, 129, 1103.
39. Jovićević, J. N.; Jovic, V. D.; Despic, A. R. Electrochim. Acta 1984, 29, 1625.
40. Weaver, M. J.; Barz, F.; Gordon, J. G., II; Philpott, M. R. Surf. Sci. 1983, 125, 409.
41. Hatta, A.; Sasaki, Y.; Suëtaka, W. J. Electmanal. Chem. 1986, 275, 93.
42. Corrigan, D. S.; Gao, P.; Leung, L. H.; Weaver, M. J. Langmuir 1986, 2, 744.
43. Larkin, D.; Guyer, K. L.; Hupp, J. T.; Weaver, M. J. J. Electroanal. Chem. 1982, 758, 401.
44. Suzuki, Y.; Osawa, M.; Hatta, A.; Suëtaka, W. Appl. Surf. Sci. 1988, 33/34, 875.
45. Fleischmann, M.; Hendra, P. J.; Mcquilan, A. J. Chem. Phys. Lett. 1974, 26, 163.
46. Otto, A.; Mrozek, I.; Brabhorn, H.; Akemann, W. J. Phys.: Condens. Matter. 1992, 4, 1143.
47. Jeanmaire, D. L.; Van, Duyne, R. P. J. Electroanal. Chem. 1977, 84, 1.
48. Pettinger, B. In Adsorption of Molecules at Metal Electrodes', Lipkowski, J., Ross, P. N., Eds.; VCH: New York, 1992; p 285.
49. Pemberton, J. E. In Electrochemical Interfaces: Modem Techniques for ln-situ Interface Characterization of Molecules at Metal Electrodes; Abruňa, H. D., Ed.; VCH: New York, 1991; pp 193.
50. Moskovits, M. Rev. Mod. Phys. 1985, 57, 783.
51. Campion, A.; Kambhampati, P. Chem. Soc. Rev. 1998, 27, 241.
52. Dick, L. A.; McFarland, A. D.; Haynes, C. L.; Van Duyne, R. P. J. Phys. Chem. B 2002, 106, 853.
53. Fleischmann, M.; Robinson, J.; Waser, R. J. Electroanal. Chem. 1981, 117, 257.
54. Valette, G.; Hamelin, A. J. Electroanal. Chem. 1973, 45, 301.
55. Valette, G. J. Electroanal. Chem. 1981, 122, 285.
56. Relative intensity: vs, very strong; s, strong; m, medium; w, weak; vw, very weak.
57. Corrsin, L.; Fax, B. J.; Lord, R. C. J. Chem. Phys. 1953, 27, 1170.
58. Arihara, K.; Kitamura, F.; Ohsaka, T.; Tokuda, K. J. Electroanal. Chem. 2001, 510, 128.
59. Iwasita, T.; Rodes, A.; Pastor, E. J. J. Electroanal. Chem. 1995, 383, 181.
60. Surface Enhanced Roman Scattering; Chang, R. K., Furtak, T. E., Eds.; Plenum: New York, 1982.
61. Metiu, H. Prog. Surf. Sci. 1984, 77, 153.
62. Li, Q. X.; Yan, Y. G.; Xu, Q. J; Cai, W. B. Chem. J. Chin. Univ. In press (in Chinese).
63. Cai, W. B.; Wan, L. J.; Noda, H.; Hibino, Y.; Ataka, K.; Osawa, M. Langmiur 1998, 14, 6992.
64. Lipkowski, J.; Stolberg, L. In Adsorption of Molecules at Metal Electrodes; Lipkowski, J., Ross, P. N., Eds.; VCH: New York, 1992; p 171.
65. Li, N.; Zamlynny, V.; Lipkowski, J.; Henglein, F.; Pettinger, B. J. Electroanal. Chem. 2002, 43, 524.
66. Yan, Y. G.; Xu, Q. J.; Cai, W. B. Acta Chim. Sin. 2006, 64, 458.
67. Zuo, C.; Jagodzinski, P. W. J Phys. Chem. B 2005, 109, 1788.
68. Wu, D. Y.; Duan, S.; Ren, B.; Tian, Z. Q. J. Roman Spectrosc. 2005, 36, 533.
69. Alberto, V.; Ronald, L. B.; Richard, F.; John, R. L. J Phys. Chem. B 2003, 107, 5547.