Structural and magnetic properties of V-doped AlN thin films

Journal of Applied Physics

Volumn 100, Issue 8, 2006, Pages

  Ko, K Y ^a   Barber, Z H ^a   Blamire, M G ^a  

^a UNIVERSITY OF CAMBRIDGE   (United Kingdom)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ALUMINUM COMPOUNDS; DOPING (ADDITIVES); FERROMAGNETISM; LATTICE CONSTANTS; MAGNETIC PROPERTIES; SPUTTERING;

REACTIVE COSPUTTERING; RESISTIVE INSULATORS; ROOM TEMPERATURE; TEMPERATURE DEPENDENCE;

THIN FILMS;

EID: 33750521211     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2362812     Document Type: Article

References (18)

1. H. Ohno, A. Shen, F. Matsukura, A. Oiwa, A. Endo, S. Katsumoto, and Y. Iye, Appl. Phys. Lett. 69, 363 (1996).
2. H. J. Lee, S. Y. Jeong, C. R. Cho, and C. H. Park, Appl. Phys. Lett. 81, 4020 (2002).
3. S. B. Ogale, Phys. Rev. Lett. 91, 077205 (2003).
4. W. K. Park, R. J. Ortega-Hertogs, J. S. Moodera, A. Punnoose, and M. S. Seehra, J. Appl. Phys. 91, 8093 (2002).
5. T. Dietl, H. Ohno, F. Matsukura, J. Cibert, and D. Ferrand, Science 287, 1019 (2000).
6. S. Y. Wu, H. X. Liu, L. Gu, R. K. Singh, L. Budd, M. van Schilfgaarde, M. R. McCartney, D. J. Smith, and N. Newman, Appl. Phys. Lett. 82, 3047 (2003).
7. S. G. Yang, A. B. Pakhomov, S. T. Hung, and C. Y. Wong, Appl. Phys. Lett. 81, 2418 (2002).
8. R. M. Frazier, G. T. Thaler, J. Y. Leifer, J. K. Hite, B. P. Gila, C. R. Abernathy, and S. J. Pearton, Appl. Phys. Lett. 86, 052101 (2005).
9. A. Y. Polyakov, N. B. Smirnov, A. V. Govorkov, R. M. Frazier, J. Y. Leifer, G. T. Thaler, C. R. Abernathy, S. J. Pearton, and J. M. Zavada, Appl. Phys. Lett. 85, 4067 (2004).
10. R. Frazier, G. Thaler, M. Overberg, B. Gila, C. R. Abernathy, and S. J. Pearton, Appl. Phys. Lett. 83, 1758 (2003).
11. D. Kumar, J. Antifakos, M. G. Blamire, and Z. H. Barber, Appl. Phys. Lett. 84, 5004 (2004).
12. S. J. Pearton, C. R. Abernathy, D. P. Norton, A. F. Hebard, Y. D. Park, L. A. Boatner, and J. D. Budai, Mater. Sci. Eng., R. 40, 137 (2003).
13. N. H. Hong, J. Sakai, W. Prellier, and A. Ruyter, Physica B 355, 295 (2005).
14. D. C. Douglass, J. P. Bucher, and L. A. Bloomfield, Phys. Rev. B 45, 6341 (1992).
15. K. Lee and J. Callaway, Phys. Rev. B 48, 15358 (1993).
16. C. L. Fu, A. J. Freeman, and T. Oguchi, Phys. Rev. Lett. 54, 2700 (1985).
17. M. H. Ham, S. Yoon, Y. Park, and J. M. Myoung, J. Cryst. Growth 271, 420 (2004).
18. V. I. Litvinov and V. K. Dugaev, Phys. Rev. Lett. 86, 5593 (2001).