Interfaces between metal and arylamine molecular films as probed with the anode interfacial engineering approach in single-layer organic diodes

Journal of Physical Chemistry B

Volumn 110, Issue 35, 2006, Pages 17493-17497

  Li, J C ^a,b   Blackstock, S C ^a   Szulczewski, G J ^a  

^a University of Alabama   (United States)

^b UNIVERSITY OF MELBOURNE   (Australia)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ANODES; CURRENT VOLTAGE CHARACTERISTICS; ELECTRIC PROPERTIES; METALLIC FILMS; ORGANIC COMPOUNDS; THERMIONIC EMISSION;

ARYLAMINE MOLECULAR FILMS; RICHARDSON-SCHOTTKY THERMIONIC EMISSION MODEL; SINGLE-LAYER ORGANIC DIODES;

SURFACE CHEMISTRY;

EID: 33748798707     PISSN: 15206106     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp060407b     Document Type: Article

References (24)

1. Brütting, W.; Berleb, S.; Mückl, A. G. Org. Electron. 2001, 2, 1-36.
2. Forrest, S. R. Org. Electron. 2003, 4, 45-48.
3. Dimitrakopoulos, C. D.; Purushothaman, S.; Kymissis, J.; Callegari, A.; Shaw, J. M. Science 1999, 283, 822-824.
4. Peumans, P.; Uchida, S.; Forrest, S. R. Nature 2003, 425, 158-162.
5. Grätzel. M. Chem. Lett. 2005, 34, 8-13.
6. Kahn, A.; Koch, N.; Gao, W. Y. J. Polym. Sci. B 2003, 41, 2529-2548.
7. Zhu, X.-Y. J. Phvs. Chem. B 2004, 108, 8778-8793.
8. Scott, J. C. J. Vac. Sci. Technol. A 2003, 21, 521-531.
9. Crispin, X.; Geskin, V.; Crispin, A.; Cornil, J.; Lazzaroni, R.; Salaneck, W. R.; Brédas, J.-L. J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 8131-8141.
10. Yan, L.; Gao, Y. L. Thin Solid Films 2002, 417, 101-106.
11. Renzi, V. D.; Rousseau, R.; Marchetto, D.; Biagi, R.; Scandolo, S.; Pennino, U. Phys. Rev. Lett. 2005, 95, 046804.
12. Parker, I. D. J. Appl. Phys. 1994, 75, 1656-1666.
13. Cui, J.; Huang, Q.; Veinot, J. C. G.; Yan, H.; Wang, Q.; Hutchison, G. R.; Richter, A. G.; Evmenenko, G.; Dutta, P.; Marks, T. J. Langmuir 2002, 18, 9958-9970.
14. Tang, J. X.; Li, Y. Q.; Zheng, L. R.; Hung, L. S. J. Appl. Phys. 2004, 95, 4397-4403.
15. Adachi, C.; Nagai, K.; Tamoto, N. Appl. Phys. Lett. 1995, 66, 2679-2681.
16. Pacsial, E. J.; Alexander, D.; Alvarado, R. J.; Tomasulo, M.; Raymo, F. M. J. Phys. Chem. B 2004, 108, 19307-19313.
17. Li, J. C.; Kim, K.-Y.; Blackstock, S. C.; Szulczewski, G. J. Chem. Mater. 2004, 16, 4711-4714.
18. Roth, K. M.; Dontha, N.; Dabke, R. B.; Gryko, D. T.; Clausen, C.; Lindsey, J. S.; Bocian, D. F.; Kuhr, W. G. J. Vac. Sci. Technol. B 2000, 18, 2359-2364.
19. Selby, T. D.; Kim, K.-Y.; Blackstock, S. C. Chem. Mater. 2002, 14, 1685-1690.
20. Kim, K.-Y.; Hassenzahl, J. D.; Selby, T. D.; Szulczewski, G. J.; Blackstock, S. C. Chem. Mater. 2002, 14, 1691-1694.
21. Campbell, I. H.; Rubin, S.; Zawodzinski, T. A.; Kress, J. D.; Martin, R. L.; Smith, D. L.; Barashkov, N. N.; Ferraris, J. P. Phys. Rev. B 1996, 54, 14321-14324.
22. Zehner, R. W.; Parsons, B. F.; Hsung, R. P.; Sita, L. R. Langmuir 1999, 15, 1121-1127.
23. Alloway, D. M.; Hofmann, M.; Smith, D. L.; Gruhn, N. E.; Graham, A. L.; Colorado, R.; Wysocki, V. H.; Lee, T. R.; Lee, P. A.; Armstrong, N. R. J. Phys. Chem. B 2003, 107, 11690-11699.
24. Yamaguchi, S.; Viands, C. A.; Potember, R. S. J. Vac. Sci. Technol. B 1991, 9, 1129-1133.