Electrostatic-field-induced enhancement of gas mixture separation in metal-organic frameworks: A computational study

ChemPhysChem

Volumn 7, Issue 7, 2006, Pages 1417-1421

  Yang, Qingyuan ^a   Zhong, Chongli ^a  

^a BEIJING UNIVERSITY OF CHEMICAL TECHNOLOGY   (China)

Author keywords

Adsorption; Gas mixtures; Metal organic frameworks; Microporous materials; Molecular modeling

Indexed keywords

ADSORPTION; ELECTROSTATICS; GAS MIXTURES; MICROPOROUS MATERIALS; MOLECULAR MODELING; ORGANOMETALLICS; SEPARATION;

ADSORPTION SEPARATION; COMPUTATIONAL STUDIES; ELECTROSTATIC FIELD STRENGTH; METAL ORGANIC FRAMEWORK; MICRO-DOMAINS; MIXTURE SEPARATION;

GASES;

EID: 33745955182     PISSN: 14394235     EISSN: 14397641     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/cphc.200600191     Document Type: Article

References (36)

1. a) L. Pan, K. M. Adams, H. E. Hernandez, X. Wang, C. Zheng, Y. Hattori, K. Kaneko, J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 3062;
2. b) R. Q. Snurr, J. T. Hupp, S. T. Nguyen, AIChE J. 2004, 50, 1090;
3. c) O. Ohmori, M. Kawano, M. Fujita, Angew. Chem. 2005, 117, 1998;
4. Angew. Chem. Int. Ed. 2005, 44, 1962;
5. d) A. J. Fletcher, E. J. Cussen, D. Bradshaw, M. J. Rosseinsky, K. M. Thomas, J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 9750;
6. e) D. N. Dybtsev, H. C. Chun, S. H. Yoon, D. Kim, K. Kim, J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 32;
7. f) K. Schlichte, T. Kratzke, S. Kaskel, Micropor. Mesopor. Mater. 2004, 73, 81;
8. g) J. L. C. Rowsell, O. M. Yaghi, Angew. Chem. 2005, 117, 4748;
9. Angew. Chem. Int. Ed. 2005, 44, 4670.
10. a) N. L. Rosi, J. Eckert, M. Eddaoudi, D. T. Vodak, J. Kim, M. O'Keeffe, O. M. Yaghi, Science 2003, 300, 1127;
11. b) Y. Kubota, M. Takata, R. Matsuda, R. Kitaura, S. Kitagawa, K. Kato, M. Sakata, T. C. Kobayashi, Angew. Chem. 2005, 117, 942;
12. Angew. Chem. Int. Ed. 2005, 44, 920;
13. c) B. Kesanli, Y. Cui, M. R. Smith, E. W. Bittner, B. C. Bockrath, W. Lin, Angew. Chem. 2005, 117, 74;
14. Angew. Chem. Int. Ed. 2005, 44, 72;
15. d) M. Dincǎ, J. R. Long, J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 9376;
16. e) Y. Li, R. J. Yang, Am. Chem. Soc., 2006, 128, 726.
17. a) T. Sagara, J. Klassen, J. Ortony, E. Ganz, J. Chem. Phys. 2005, 123, 014 701;
18. b) T. Yildirim, M. R. Hartman, Phys. Rev. Lett. 2005, 95, 215 504;
19. c) T. Mueller, G. Ceder, J. Phys. Chem. B 2005, 109, 17 974;
20. d) G. Garberoglio, A. I. Skoulidas, J. K. Johnson, J. Phys. Chem. B 2005, 109, 13 094;
21. e) S. Bordiga, J. G. Vitillo, G. Ricchiardi, L. Regli, D. Cocina, A. Zecchina, B. Arstad, M. Bjørgen, J. Hafizovic, K. P. Lillerud, J. Phys. Chem. B. 2005, 109, 18 237;
22. f) Q. Yang, C. Zhong, J. Phys. Chem. B 2005, 109, 11 862;
23. g) Q. Yang, C. Zhong, J. Phys. Chem. B 2006, 110, 655.
24. T. Düren, R. Q. Snurr, J. Phys. Chem. B 2004, 108, 15 703.
25. B. Chen, C. Liang, J. Yang, D. S. Contreras, Y. L. Clancy, E. B. Lobkovsky, O. M. Yaghi, S. Dai, Angew. Chem. 2006, 118, 1418;
26. Angew. Chem. Int. Ed. 2006, 45, 1390.
27. a) C. A. Koh, T. Montanari, R. I. Nooney, S. F. Tahir, R. E. Westacott, Langmuir 1999, 15, 6043;
28. b) Y. He, N. A. Seaton, Langmuir 2006, 22, 1150.
29. S. S.-Y. Chui, S. M.-F. Lo, J. P. H. Charmant, A. G. Orpen, I. D. Williams, Science 1999, 283, 1148.
30. a) A. Vishnyakov, P. I. Ravikovitch, A. V. Neimark, M. Bülow, Q. M. Wang, Nano. Letters 2003, 3, 713;
31. b) A. I. Skoulidas, J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 1356;
32. c) A. I. Skoulidas, D. S. Sholl, J. Phys. Chem. B 2005, 109, 15 760.
33. D. Frenkel, B. Smit, Understanding Molecular Simulation: From Algorithms to Applications; Academic Press: San Diego, 2002.
34. W. L. Jorgensen, D. S. Maxwell, J. Tirado-Rives, J. Am. Chem. Soc. 1996, 118, 11 225.
35. Q. Wang, D. Shen, M. Bülow, M. Lau, S. Deng, F. R. Fitch, N. O. Lemcoff, J. Semanscin, Micropor. Mesopor. Mater. 2002, 55, 217.
36. Z. Du, G. Manos, T. J. H. Vlugt, B. Smit, AIChE J. 1998, 44, 1756.