The thickness dependence of ferroelectric and magnetic properties in epitaxial BiFeO3 thin films

Journal of Applied Physics

Volumn 99, Issue 10, 2006, Pages

  Jiang, Q ^a   Qiu, J H ^a  

^a SOOCHOW UNIVERSITY   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

BISMUTH COMPOUNDS; EPITAXIAL GROWTH; FERROELECTRICITY; FREE ENERGY; LATTICE CONSTANTS; MAGNETIC PROPERTIES; MAGNETIZATION;

DISLOCATIONS; EPITAXIAL THIN FILMS; FILM DEPOSITION; LANDAU FREE ENERGY;

THIN FILMS;

EID: 33744907255     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2196238     Document Type: Article

References (43)

1. G. A. Smolenskii and I. Chupis, Sov. Phys. Usp. 25, 475 (1982).
2. H. Schmid, Ferroelectrics 162, 317 (1994).
3. P. Fischer, M. Polomskya, I. Sosnowska, and M. Szymanksi, J. Phys. C 13, 1931 (1980).
4. S. Kiselev, R. Ozerov, and G. Zhdanov, Sov. Phys. Dokl. 7, 742 (1963).
5. C. Michel, J.-M. Moreau, G. D. Achenbach, R. Gerson, and W. J. James, Solid State Commun. 7, 701 (1969).
6. J. D. Bucci, B. K. Robertson, and W. J. James, J. Appl. Crystallogr. 5, 187 (1972).
7. J. R. Teague, R. Gerson, and W. J. James, Solid State Commun. 8, 1073 (1970).
8. Yu. E. Roginskaya, Yu. Ya. Tomashpol'skii, Yu. N. Venevtsev, V. M. Petrov, and G. S. Zhdanov, Sov. Phys. JETP 23, 47 (1966).
9. F. Kubel and H. Schmid, Acta Crystallogr., Sect. B: Struct. Sci. 46, 698 (1990).
10. I. Sosnowska and A. K. Zvezdin, J. Magn. Magn. Mater. 140-144, 167 (1995).
11. I. Sosnowska, M. Loewenhaupt, W. I. F. David, and R. M. Ibberson, Physica B 180-181, 117 (1992).
12. I. Sosnowska, T. Peterlin-Neumaier, and E. Steichele, J. Phys. C 15, 4835 (1982).
13. B. Ruette, S. Zvyagin, A. P. Pyatakov, A. Bush, J. F. Li, V. I. Belotelov, A. K. Zvezdin, and D. Viehland, Phys. Rev. B 69, 064114 (2004).
14. Yu. F. Popov, A. M. Kadomtseva, S. S. Krotov, D. V. Belov, G. P. Vorob'ev, P. N. Makhov, and A. K. Zvezdin, Low Temp. Phys. 27, 478 (2001).
15. Yu. F. Popov, A. Zvezdin, G. Vorob'ev, A. Kadomtseva, V. Murashev, and D. Rakov, JETP Lett. 57, 69 (1993).
16. J. F. Li et al., Appl. Phys. Lett. 84, 5261 (2004).
17. J. Wang et al., Appl. Phys. Lett. 85, 2574 (2004).
18. J. Wang et al., Science 299, 1719 (2003).
19. F. Bai et al., Appl. Phys. Lett. 86, 032511 (2005).
20. W. Eerenstein, F. D. Morrison, J. Dho, M. G. Blamire, J. F. Scott, and N. D. Mathur, Science 307, 1203a (2005).
21. J. Wang et al., Science 307, 1203b (2005).
22. K. J. Choi et al., Science 306, 1005 (2004).
23. J. H. Haeni et al., Nature (London) 30, 758 (2004).
24. F. Tsui, M. C. Smoak, T. K. Nath, and C. B. Eom, Appl. Phys. Lett. 76, 2421 (2000).
25. Q. Gan, R. A. Rao, C. B. Eom, J. L. Garrett, and M. Lee, Appl. Phys. Lett. 72, 978 (1998).
26. N. A. Hill, Annu. Rev. Mater. Res. 32, 1 (2002).
27. R. Seshadri and N. A. Hill, Chem. Mater. 13, 2892 (2001).
28. B. B. Van Aken, T. T. M. Palstra, A. Filippetti, and N. A. Spaldin, Nat. Mater. 3, 164 (2004).
29. T. Kimura, T. Goto, H. Shintani, K. Ishizaka, T. Arima, and Y. Tokura, Nature (London) 426, 55 (2003).
30. S. P. Alpay, I. B. Misirlioglu, A. Sharma, and Z.-G. Ban, J. Appl. Phys. 95, 8118 (2004).
31. C. Ederer and N. A. Spaldin, Phys. Rev. B 71, 060401 (R) (2005).
32. Y. Yano, K. Lijima, Y. Daitotoh, T. Terashim, and Y. Bando, J. Appl. Phys. 76, 7833 (1994).
33. N. A. Pertsev, A. G. Zembilgotov, and A. K. Tagantsev, Phys. Rev. Lett. 80, 1988 (1998).
34. Z. G. Ban and S. P. Alpay, J. Appl. Phys. 91, 9288 (2002).
35. Z. G. Ban and S. P. Alpay, J. Appl. Phys. 93, 504 (2003).
36. T. Kimura, S. Kawamoto, I. Yamada, M. Azuma, M. Takano, and Y. Tokura, Phys. Rev. B 67, 180401 (R) (2003).
37. L. Chen, V. Nagarajan, R. Ramesh, and A. L. Roytburd, J. Appl. Phys. 94, 5147 (2003).
38. W. D. Nix, Metall. Trans. A 20A, 2217 (1989).
39. M. Matthews and A. E. Blakeslee, J. Cryst. Growth 27, 118 (1974).
40. J. S. Speck and W. Pompe, J. Appl. Phys. 76, 466 (1994).
41. S. P. Alpay and A. L. Roytburd, J. Appl. Phys. 83, 4714 (1998).
42. S. P. Alpay, V. Nagarajan, A. Bendersky, M. D. Vaudin, S. Aggarwal, R. Ramesh, and A. L. Roytburd, J. Appl. Phys. 85, 3271 (1998).
43. X. D. Qi, M. Wei, Y. Lin, Q. X. Jia, D. Zhi, J. Dho, Mark G. Blamire, and J. L. MacManus-Driscoll, Appl. Phys. Lett. 86, 071913 (2005).