Structural and optical properties of erbium-doped Ba0.7Sr 0.3TiO3 thin films

Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films

Volumn 23, Issue 4, 2005, Pages 768-772

  Kuo, Shou Yi ^a   Hsieh, Wen Feng ^b  

^a NATIONAL APPLIED RESEARCH LABORATORIES   (Taiwan)

^b NATIONAL CHIAO TUNG UNIVERSITY   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ANNEALING; DOPING (ADDITIVES); ERBIUM; OPTOELECTRONIC DEVICES; PHOTOLUMINESCENCE; REFRACTIVE INDEX; SPECTROSCOPIC ANALYSIS; THIN FILMS; X RAY DIFFRACTION ANALYSIS;

ANNEALING TEMPERATURE; GREEN EMISSION PEAKS; SPECTROSCOPIC ELLIPSOMETRY;

BARIUM COMPOUNDS;

EID: 31044455196     PISSN: 07342101     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.1938979     Document Type: Conference Paper

References (33)

1. U. Hömmerich, E. E. Nyein, D. S. Lee, J. Heikenfeld, A. J. Steckl, and J. M. Zavada, Mater. Sci. Eng., B 105, 91 (2003).
2. D. M. Gill, G. M. Ford, B. A. Block, S. S. Kim, B. W. Wessels, and S. T. Ho, Thin Solid Films 365, 126 (2000).
3. H. X. Zhang, C. H. Kam, Y. Zhou, X. Q. Han, S. Buddhudu, and Y. L. Lam, Opt. Mater. (Amsterdam, Neth.) 15, 47 (2000).
4. P. A. Tanner, P. T. Law, and L. Fu, Phys. Status Solidi A 199, 403 (2003).
5. J. Heikenfeld, M. Garter, D. S. Lee, R. Birkhahn, and A. J. Steckl, Appl. Phys. Lett. 75, 1189 (1999).
6. H. X. Zhang, C. H. Kam, Y. Zhou, X. Q. Han, S. Buddhudu, Q. Xiang, Y. L. Lam, and Y. C. Chan, Appl. Phys. Lett. 77, 609 (2000).
7. S. M. Takahashi, M. Kanno, and R. Kawamoto, Appl. Phys. Lett. 65, 1874 (1994).
8. J. Heikenfeld, D. S. Lee, M. Garter, R. Birkhahn, and A. J. Steckl, Appl. Phys. Lett. 76, 1365 (2000).
9. D. Kumar, J. Sankar, K. G. Cho, V. Cracium, and R. K. Singh, Appl. Phys. Lett. 77, 2518 (2000).
10. W. Chen, R. Sammynaiken, and Y. Huang, J. Appl. Phys. 88, 1424 (2000).
11. G. S. Pomerenke, P. B. Klein, D. W. Langer, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 301, XXX (1993).
12. P. L. Thee, Y. K. Yeo, R. L. Hengehold, and G. S. Pomrenke, J. Appl. Phys. 78, 4651 (1995).
13. B. A. Block and B. W. Wessels, Integr. Ferroelectr. 7, 25 (1995).
14. D. M. Gill, C. W. Conrad, G. Ford, B. W. Wessels, and S. T. Ho, Appl. Phys. Lett. 71, 1783 (1997).
15. B. S. Kwak, K. Zhang, E. P. Boyd, A. Erbil, and B. J. Wilkens, J. Appl. Phys. 69, 767 (1991).
16. S. Kim, S. Hishita, Y. M. Kang, and S. Baik, J. Appl. Phys. 78, 5604 (1995).
17. K. Iijima, T. Terashima, K. Yamamoto, K. Hirata, and Y. Bando, Appl. Phys. Lett. 56, 527 (1990).
18. R. A. McKee, F. J. Walker, J. R. Conner, E. D. Specht, and D. E. Zelmon, Appl. Phys. Lett. 59, 782 (1991).
19. B. Lee and J. Zhang, Thin Solid Films 388, 107 (2001).
20. K. Nashimoto, D. K. Fork, F. A. Ponce, and J. C. Tramontana, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 32, 4099 (1993).
21. T.-J. Zhang, H. Ni, and W. Wang, J. Mater. Synth. Process. 10, 17 (2002).
22. C. L. Jia, K. Urban, S. Hoffmann, and R. Waser, J. Mater. Res. 13, 2206 (1998).
23. S. Hoffmann and R. Waser, J. Eur. Ceram. Soc. 19, 1339 (1999).
24. K. Hafidi, Y. Ijdiyaou, M. Azizan, E. L. Ameziane, A. Outzourhit, T. A. Nguyen Tan, M. Brunel, Appl. Surf. Sci. 108, 251 (1997).
25. J. H. Hwang, S. K. Choi, and Y. H. Han, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 40, 4952 (2001).
26. J. H. Hwang and Y. H. Han, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 40, 676 (2001).
27. C. B. Samantaray, A. Dhar, D. Bhattacharya, M. L. Mukherjee, and S. K. Ray, J. Mater. Sci.: Mater. Electron. 12, 365 (2001).
28. R. Naik et al., Phys. Rev. B 61, 11367 (2000).
29. C. L. Li, Z. H. Chen, Y. L. Zhou, H. B. Lu, C. Dong, F. Wu, and H. Chen, J. Appl. Phys. 86, 4555 (1999).
30. R. M. A. Azzam and N. M. Bashara, Ellipsometry and Polarized Light (North-Holland, Amsterdam, 1977).
31. K. Y. Chan, W. S. Tsang, C. L. Mak, K. H. Wong, and P. M. Hui, Phys. Rev. B 68, 144111 (2002).
32. W. J. Miniscalco, J. Lightwave Technol. 9, 234 (1991).
33. C. Y. Chen, R. R. Petrin, D. C. Yeh, W. A. Sibley, and J. L. Adam, Opt. Lett. 14, 432 (1989).