Effect of the magnetocrystalline anisotropy on the magnetic behavior of ring elements

Journal of Applied Physics

Volumn 95, Issue 11 II, 2004, Pages 6732-6734

  Vaz, C A F ^a   Klaui M ^a,c   Bland, J A C ^a   Heyderman, L J ^b   Nolting, F ^b  

^a UNIVERSITY OF CAMBRIDGE   (United Kingdom)

^b PAUL SCHERRER INSTITUTE   (Switzerland)

^c UNIVERSITY OF KONSTANZ   (Germany)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

COBALT; ELECTRON MICROSCOPY; IMAGE PROCESSING; INTERFACES (MATERIALS); KERR MAGNETOOPTICAL EFFECT; MAGNETIC MATERIALS; MAGNETIZATION; MAGNETOSTATICS; OXIDATION; PHOTOEMISSION; POLYCRYSTALLINE MATERIALS; REMANENCE; SILICON; SWITCHING;

MAGNETOCRYSTALLINE ANISOTROPY (MCA); METAL LAYERS; PHOTOEMISSION ELECTRON MICROSCOPY (PEEM); SWITCHING FIELDS;

MAGNETIC ANISOTROPY;

EID: 2942635877     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1667449     Document Type: Conference Paper

References (24)

1. J.-G. Zhu, Y. Zheng, and G. A. Prinz, J. Appl. Phys. 87, 6668 (2000).
2. R. P. Cowburn, D. K. Koltsov, A. O. Adeyeye, M. E. Weiland, and D. M. Tricker, Phys. Rev. Lett. 83, 1042 (1999).
3. G. Gubbiotti, L. Albani, G. Carlotti, M. D. Crescenzi, E. D. Fabrizio, A. Gerardino, O. Donzelli, F. Nizzoli, H. Koo, and R. D. Gomez, J. Appl. Phys. 87, 5633 (2000).
4. Y. G. Yoo, M. Kläui, C. A. F. Vaz, L. Heyderman, and J. A. C. Bland, Appl. Phys. Lett. 82, 2470 (2003).
5. C. A. F. Vaz, L. Lopez-Diaz, M. Kläui, J. A. C. Bland, T. L. Monchesky, J. Unguris, and Z. Cui, Phys. Rev. B 67, 140405(R) (2003).
6. M. Kläui, C. A. F. Vaz, J. A. C. Bland, T. L. Monchesky, J. Unguris, E. Bauer, S. Cherifi, S. Heun, A. Locatelli, and L. J. Heyderman, Phys. Rev. B 68, 134426 (2003).
7. F. J. Castaño, C. A. Ross, C. Frandsen, A. Eilez, D. Gil, H. I. Smith, M. Redjdal, and F. B. Humphrey, Phys. Rev. B 67, 184425 (2003).
8. X. Zhu, P. Grütter, V. Metlushko, Y. Hao, F. J. Castaño, C. A. Ross, B. Ilic, and H. I. Smith, J. Appl. Phys. 93, 8540 (2003).
9. T. Taniyama, I. Nakatani, H. Yanagihara, and E. Kita, J. Magn. Magn. Mater. 196, 197, 77 (1999).
10. U. Ebels, A. Radulescu, Y. Henry, L. Piraux, and K. Ounadjela, Phys. Rev. Lett. 84, 983 (2000).
11. M. Kläui, C. A. F. Vaz, J. A. C. Bland, W. Wernsdorfer, G. Faini, E. Cambril, and L. J. Heyderman, Appl. Phys. Lett. 83, 105 (2003).
12. M. Kläui, C. A. F. Vaz, J. Rothman, J. A. C. Bland, W. Wernsdorfer, G. Faini, and E. Cambril, Phys. Rev. Lett. 90, 097202 (2003).
13. C. A. F. Vaz, E. Blackburn, M. Kläui, J. A. C. Bland, L. Gan, J. W. F. Egelhoff, G. Faini, E. Cambril, and W. Wernsdorfer, J. Appl. Phys. 93, 8104 (2003).
14. J. Rothman, M. Kläui, L. Lopez-Diaz, C. A. F. Vaz, A. Bleloch, J. A. C. Bland, Z. Cui, and R. Speaks, Phys. Rev. Lett. 86, 1098 (2001).
15. R. D. McMichael, J. Eicke, M. J. Donahue, and D. G. Porter, J. Appl. Phys. 87, 7058 (2000).
16. M. M. Miller, G. A. Prinz, S.-F. Cheng, and S. Bounnak, Appl. Phys. Lett. 81, 2211 (2002).
17. N. Dao and S. L. Whittenburg, IEEE Trans. Magn. 39, 2525 (2003).
18. L. J. Heyderman, M. Kläui, J. Rothman, C. A. F. Vaz, and J. A. C. Bland, J. Appl. Phys. 93, 7349 (2003).
19. L. J. Heyderman, C. David, M. Kläui, C. A. F. Vaz, and J. A. C. Bland, J. Appl. Phys. 93, 10011 (2003).
20. A. O. Adeyeye, J. A. C. Bland, C. Daboo, and D. G. Hasko, Phys. Rev. B 56, 3265 (1997).
21. M. Kläui, C. A. F. Vaz, L. Lopez-Diaz, and J. A. C. Bland, J. Phys.: Condens. Matter 15, R985 (2003).
22. A. Locatelli, K. S. Cherifi, S. Heun, M. Marsi, K. Ono, A. Pavlovska, and E. Bauer, Surf. Rev. Lett. 9, 171 (2002).
23. A. Scholl, H. Ohldag, F. Nolting, J. Stöhr, and H. A. Padmore, Rev. Sci. Instrum. 73, 1362 (2002).
24. L. Lopez-Diaz, J. Rothman, M. Kläui, and J. A. C. Bland, J. Appl. Phys. 89, 7579 (2001).