Enhanced field emission from multiwall carbon nanotube films by secondary growth

Journal of Physical Chemistry B

Volumn 109, Issue 46, 2005, Pages 21677-21680

  Klinke, Christian ^a,b   Delvigne, Erik ^a   Barth, Johannes V ^a,c   Kern, Klaus ^a,d  

^a EPFL   (Switzerland)

^b IBM T J WATSON RESEARCH CENTER   (United States)

^c UNIVERSITY OF BRITISH COLUMBIA   (Canada)

^d MAX PLANCK INSTITUT FÜR FESTKÖRPERFORSCHUNG   (Germany)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

FERRITIN COATINGS; FIELD EMISSION PROPERTIES; MASS TRANSPORT;

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; GOLD; NICKEL; PHASE TRANSITIONS; SPUTTERING; THIN FILMS;

CARBON NANOTUBES;

EID: 28944451640     PISSN: 15206106     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp054110+     Document Type: Article

References (27)

1. Tans, S. J.; Verschueren, R. M.; Dekker, C. Nature 1998, 393, 49.
2. Martel, R.; Schmidt, T.; Shea, H. R.; Hertel, T.; Avouris, P. Appl. Phys. Lett. 1998, 73, 2447.
3. Kreupl, F.; Graham, A. P.; Duesberg, G. S.; Steinhögl, W.; Liebau, M.; Unger, E.; Hoenlein, W. Microelectron. Eng. 2002, 64, 399.
4. Kong, J.; Franklin, N. R.; Zhou, C. W.; Chapline, M. G.; Peng, S.; Cho, K. J.; Dai, H. J. Science 2000, 287, 622.
5. Saito, Y.; Uemura, S.; Hamaguchi, K. Jpn. J. Appl. Phys. 1998, 37, 346.
6. Bonard, J. M.; Croci, M.; Klinke, C.; Kurt, R.; Noury, O.; Weiss, N. Carbon 2002, 40, 1715.
7. de Jonge, N.; Lamy, Y.; Schools, K.; Oosterkamp, T. H. Nature 2002, 420, 393.
8. Wang, Q. H.; Setlur, A. A.; Lauerhaas, J. M.; Dai, J. Y.; Seeling, E. W.; Chang, R. P. H. Appl. Phys. Lett. 1998, 72, 2912.
9. Burghard, M.; Krstic, V.; Duesberg, G. S.; Philipp, G.; Muster, J.; Roth, S.; Journet, C.; Bernier, P. Synth. Met. 1999, 103, 2540.
10. Banerjee, S.; Wong, S. S. Nano Lett. 2002, 2, 195.
11. Vigolo, B.; Poulin, P.; Lucas, M.; Launois, P.; Bernier, P. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 1210.
12. Bonard, J. M.; Chauvin, P.; Klinke, C. Nano Lett. 2002, 2, 665.
13. Klinke, C.; Bonard, J. M.; Kern, K. Surf. Sci. 2001, 492, 195.
14. Zhang, Y.; Franklin, N. W.; Chen, R. J.; Dai, H. Chem. Phys. Lett. 2000, 331, 35.
15. Menon, M.; Andriotis, A. N.; Froudakis, G. E. Chem. Phys. Lett. 2000, 320, 425.
16. Gao, X. P.; Zhang, Y.; Chen, X.; Pan, G. L.; Yan, J.; Wu, F.; Yuan, H. T.; Song, D. Y. Carbon 2004, 42, 47.
17. Rojas, T. C.; Sayague, M. J.; Caballero, A.; Koltypin, Y.; Gedanken, A.; Ponsonnet, L.; Vacher, B.; Martin, J. M.; Fernandez, A. J. Mater. Chem. 2000, 10, 715.
18. Zhang, P.; Zuo, F.; Urban, F. K.; Khabari, A.; Griffiths, P.; Hosseini-Tehrani, A. J. Magn. Magn. Mater. 2001, 225, 337.
19. McFadden, S. X.; Zhilyaev, A. P.; Mishra, R. S.; Mukherjee, A. K. Mater. Lett. 2000, 45, 345.
20. Strzeciwilk, D.; Wokulski, Z.; Tkacz, P. Cryst. Res. Technol. 2003, 38, 283.
21. Fan, Y.; Burghard, M.; Kern, K. Adv. Mater. 2002, 14, 130.
22. Barfotti, L.; Jensen, P.; Hoareau, A.; Treilleux, M.; Cabaud, B.; Perez, A.; Aires, F. Surf. Sci. 1996, 367, 276.
23. Klinke, C.; Bonard, J. M.; Kern, K. J. Phys. Chem. B 2004, 108, 11357.
24. Ostwald, W. Z. Phys. Chem. 1900, 34, 495.
25. American Institute of Physics Handbook, 3rd ed; Gray, D. E., Ed.; McGraw-Hill: New York, 1972.
26. Klinke, C.; Kurt, R.; Bonard, J. M. J. Phys. Chem. B 2002, 106, 11191.
27. Bonard, J. M.; Weiss, N.; Kind, H.; Stöckli, T.; Forro, L.; Kern, K.; Chatelain, A. Adv. Mater. 2001, 13, 184.