-
1
-
-
8444229713
-
-
Kelley, T. W.; Baude, P. F.; Gerlach, C.; Ender, D. E.; Muyres, D. Haase, M. A.; Vogel, D. E.; Theiss, S. D. Chem. Mater. 2004, 16, 4413.
-
(2004)
Chem. Mater.
, vol.16
, pp. 4413
-
-
Kelley, T.W.1
Baude, P.F.2
Gerlach, C.3
Ender, D.E.4
Muyres, D.5
Haase, M.A.6
Vogel, D.E.7
Theiss, S.D.8
-
5
-
-
9344220522
-
-
Janzen, D. E.; Burand, M. W.; Ewbank, P. C.; Pappenfus, T. M.; Higuchi, H.; da Silva Filho, D. A.; Young, V. G.; Brédas, J.-L.; Mann, K. R. J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 15295.
-
(2004)
J. Am. Chem. Soc.
, vol.126
, pp. 15295
-
-
Janzen, D.E.1
Burand, M.W.2
Ewbank, P.C.3
Pappenfus, T.M.4
Higuchi, H.5
Da Silva Filho, D.A.6
Young, V.G.7
Brédas, J.-L.8
Mann, K.R.9
-
6
-
-
0037451555
-
-
(a) van de Craats, A. M.; Stutzmann, N.; Bunk, O.; Nielsen, M. M.; Watson, M.; Müllen, K.; Chanzy, H. D.; Sirringhaus, H.; Friend, R. H. Adv. Mater. 2003, 15, 495.
-
(2003)
Adv. Mater.
, vol.15
, pp. 495
-
-
Van De Craats, A.M.1
Stutzmann, N.2
Bunk, O.3
Nielsen, M.M.4
Watson, M.5
Müllen, K.6
Chanzy, H.D.7
Sirringhaus, H.8
Friend, R.H.9
-
7
-
-
0347368156
-
-
(b) Rochefort, A.; Martel, R.; Avouris, P. Nano Lett. 2002, 2, 877.
-
(2002)
Nano Lett.
, vol.2
, pp. 877
-
-
Rochefort, A.1
Martel, R.2
Avouris, P.3
-
8
-
-
79956051443
-
-
(a) Shtein, M.; Mapel, J.; Benziger, J. B.; Forrest, S. R. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 268.
-
(2002)
Appl. Phys. Lett.
, vol.81
, pp. 268
-
-
Shtein, M.1
Mapel, J.2
Benziger, J.B.3
Forrest, S.R.4
-
9
-
-
0001298383
-
-
(b) Dimitrakopoulos, C. D.; Brown, A. R.; Pomp, A. J. Appl. Phys. 1996, 80, 2501.
-
(1996)
J. Appl. Phys.
, vol.80
, pp. 2501
-
-
Dimitrakopoulos, C.D.1
Brown, A.R.2
Pomp, A.3
-
10
-
-
33845448696
-
-
(a) Schroeder, P. G.; France, C. B.; Park, J. B.; Prkinson, B. A. J. Appl. Phys. 2002, 91, 3010.
-
(2002)
J. Appl. Phys.
, vol.91
, pp. 3010
-
-
Schroeder, P.G.1
France, C.B.2
Park, J.B.3
Prkinson, B.A.4
-
14
-
-
15844405851
-
-
(e) Hu, W. S.; Tao, Y. T.; Hsu, Y. J.; Wei, D. H.; Wu, Y. S. Langmuir 2005, 21, 2260.
-
(2005)
Langmuir
, vol.21
, pp. 2260
-
-
Hu, W.S.1
Tao, Y.T.2
Hsu, Y.J.3
Wei, D.H.4
Wu, Y.S.5
-
16
-
-
11144332108
-
-
(a) Loi, M. A.; Como, E. D.; Dinelli, F.; Murgia, M.; Zamboni, R.; Biscarini, F. and Muccini, M. Nat. Mater. 2005, 4, 81.
-
(2005)
Nat. Mater.
, vol.4
, pp. 81
-
-
Loi, M.A.1
Como, E.D.2
Dinelli, F.3
Murgia, M.4
Zamboni, R.5
Biscarini, F.6
Muccini, M.7
-
17
-
-
0344430070
-
-
(b) Ivanco, J.; Winter, B.; Netzer, F. P.; Ramsey, M. G. Adv. Mater. 2003, 15, 1812.
-
(2003)
Adv. Mater.
, vol.15
, pp. 1812
-
-
Ivanco, J.1
Winter, B.2
Netzer, F.P.3
Ramsey, M.G.4
-
20
-
-
0002158725
-
-
(b) Zhu, Y. M.; Wang, L.; Lu, Z. H.; Wei, Y.; Chen, X. X.; Tang, J. H. Appl. Phys. Lett. 1994, 65, 49.
-
(1994)
Appl. Phys. Lett.
, vol.65
, pp. 49
-
-
Zhu, Y.M.1
Wang, L.2
Lu, Z.H.3
Wei, Y.4
Chen, X.X.5
Tang, J.H.6
-
22
-
-
36549093374
-
-
(d) Geary, J. M.; Goodby, J. W.; Kmetz, A. R.; Patel, J. S. J. Appl. Phys. 1987, 62, 4100.
-
(1987)
J. Appl. Phys.
, vol.62
, pp. 4100
-
-
Geary, J.M.1
Goodby, J.W.2
Kmetz, A.R.3
Patel, J.S.4
-
24
-
-
0031140489
-
-
Yase, K.; Han, Y. M.; Yamamoto, K.; Yoshida, Y.; Takada, N.; Tanigaki, N. Jpn. J. Appl. Phys. 1997, 36, 2843.
-
(1997)
Jpn. J. Appl. Phys.
, vol.36
, pp. 2843
-
-
Yase, K.1
Han, Y.M.2
Yamamoto, K.3
Yoshida, Y.4
Takada, N.5
Tanigaki, N.6
-
25
-
-
0037176297
-
-
Damman, P.; Coppée, S.; Geskin, V. M.; Lazzaroni, R. J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 15166.
-
(2002)
J. Am. Chem. Soc.
, vol.124
, pp. 15166
-
-
Damman, P.1
Coppée, S.2
Geskin, V.M.3
Lazzaroni, R.4
-
26
-
-
0030234401
-
-
Oelkrug, D.; Egelhaaf, H. J.; Haiber, J. Thin Solid Films 1996, 284-285, 267.
-
(1996)
Thin Solid Films
, vol.284-285
, pp. 267
-
-
Oelkrug, D.1
Egelhaaf, H.J.2
Haiber, J.3
-
27
-
-
0029387108
-
-
(a) Era, M.; Tsutsui, T.; Saito, S. Appl. Phys. Lett. 1995, 67, 2436.
-
(1995)
Appl. Phys. Lett.
, vol.67
, pp. 2436
-
-
Era, M.1
Tsutsui, T.2
Saito, S.3
-
28
-
-
0033207690
-
-
(b) Erlacher, K.; Resel, R.; Keckes, J.; Meghdadi, F.; Leising, G. J. Cryst. Growth, 1999, 206, 135.
-
(1999)
J. Cryst. Growth
, vol.206
, pp. 135
-
-
Erlacher, K.1
Resel, R.2
Keckes, J.3
Meghdadi, F.4
Leising, G.5
-
29
-
-
0034844298
-
-
(c) Chen, X. L.; Lovinger, A. J.; Bao, Z.; Sapjeta, J. Chem. Mater. 2001, 13, 1341.
-
(2001)
Chem. Mater.
, vol.13
, pp. 1341
-
-
Chen, X.L.1
Lovinger, A.J.2
Bao, Z.3
Sapjeta, J.4
-
30
-
-
0030984988
-
-
Seshadri, K.; Atre, S. V.; Tao, Y. T.; Lee, M. T.; Allara, D. J. Am. Chem. Soc. 1997, 119, 4698.
-
(1997)
J. Am. Chem. Soc.
, vol.119
, pp. 4698
-
-
Seshadri, K.1
Atre, S.V.2
Tao, Y.T.3
Lee, M.T.4
Allara, D.5
-
33
-
-
0342666234
-
-
The reflection IR probes the whole thickness of the film, yet the NEXAFS is known to probe only the top tens of nanometers. Stöhr, J.; Anders S. IBM J. Res. Dev. 2000, 44, 535.
-
(2000)
IBM J. Res. Dev.
, vol.44
, pp. 535
-
-
Stöhr, J.1
Anders, S.2
-
34
-
-
0029291170
-
-
Toney, M. F.; Russell, T. P.; Logan, J. A.; Kikuchi, H.; Sands, J. M.; Kumar, S. K. Nature, 1995, 374, 709.
-
(1995)
Nature
, vol.374
, pp. 709
-
-
Toney, M.F.1
Russell, T.P.2
Logan, J.A.3
Kikuchi, H.4
Sands, J.M.5
Kumar, S.K.6
-
37
-
-
0000442272
-
-
(a) Baker, K. N. Fratini, A. V.; Resch, T.; Knachel, H. C.; Adams, W. W.; Socci, E. P.; Farmer, B. L. Polymer, 1993, 34, 1571.
-
(1993)
Polymer
, vol.34
, pp. 1571
-
-
Baker, K.N.1
Fratini, A.V.2
Resch, T.3
Knachel, H.C.4
Adams, W.W.5
Socci, E.P.6
Farmer, B.L.7
|