Development of dioptric projection lenses for deep ultraviolet lithography at Carl Zeiss

Journal of Microlithography, Microfabrication and Microsystems

Volumn 3, Issue 1, 2004, Pages 87-96

  Ulrich, Willi ^a   Rostalski, Hans Jürgen ^a   Hudyma, Russ ^b  

^a CARL ZEISS SMT AG   (Germany)

^b Paragon Optics Inc   (United States)

Author keywords

Aspheres; Dioptric lenses; Immersion lithography; Lens design; Microlithography; Microscopy; Monochromat; Ultraviolet

Indexed keywords

ASPHERES; DIOPTRIC LENSES; IMMERSION LITHOGRAPHY; LENS DESIGN;

ABERRATIONS; BIREFRINGENCE; LENSES; LIGHT SOURCES; MICROSCOPIC EXAMINATION; MONOCHROMATORS; OPTICAL PROJECTORS; OPTICAL RESOLVING POWER; PRISMS; ULTRAVIOLET RADIATION;

LITHOGRAPHY;

EID: 2542495021     PISSN: 15371646     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1117/1.1637592     Document Type: Article

References (33)

1. E. Abbe, "Gesammelte Abhandlungen," Vol. I "Abhandlungen über die Theorie des Mikroskops," Chapter VI "Die optischen Hilfsmittel der Mikroskopie," report from international exhibition in London in 1876, Gustav Fischer Verlag, Jena (1904).
2. M. Herschkowitsch, "Über die Umwandlung des Bergkristalls in den amorphen Zustand," Zeitschrift für physikalische Chemie, Vol. XLVI (1903).
3. A. Köhler and M. von Rohr, "Eine mikrophotographische Einrichtung für ultraviolettes Licht," Zeitschrift für Instrumentenkunde, Vol. XXIV, Issue 12 (1904).
4. A. Köhler, "Mikrophotographische Untersuchungen mit ultraviolettem Licht," Zeitschrift für wissenschaftliche Mikroskopie, Vol. XXI, Issues 2 and 3 (1904).
5. M. von Rohr, "Die Bilderzeugung in optischen Instrumenten vom Standpunkte der geometrischen Optik: Die Theorie der sphärischen Aberrationen," Vol. XXII, pp. 208-338, J. Springer Verlag, Berlin (1904).
6. K. Michel, "Die Grundzüge der Theorie des Mikroskops," pp. 201-202, Wissenschaftliche Verlags GmbH, Stuttgart (1981).
7. K. Mütze, "ABC der Optik," Werner Dausien Verlag, Hanau (1961).
8. A. Köhler, "Einige Neuerungen auf dem Gebiet der Mikrophotographie mit ultravioletten Licht," Die Naturwissenschaften, 21(8), (1933).
9. H. Beyer and H. Riesenberg, "Handbuch der Mikroskopie," 3rd ed., VEB Verlag Technik, Berlin (1988).
10. W. Ulrich and F. Muchel, "UV-taugliches Trockenobjektiv für Mikroskope," German Patent Application DE 3915868 C2.
11. J. H. Bruning, "Optical lithography - thirty years and three orders of magnitude," Proc. SPIE 3049, 14-27 (1997).
12. E. Glatzel, "Neuartige Objektivkonstruktionen - neue Korrektionsmittel (II)," Zeiss-Informationen, Vol. 85, pp. 45-51 (1976).
13. E. Glatzel, "New lenses for microlithography," Proc. SPIE 237, (1980).
14. H. Slevogt, "Technische optik," p. 233, Walter de Gruyter & Co., Berlin (1974).
15. G. Ittner, "Future possibilities of dioptric lenses in microelectronics," Proc. SPIE 100, 115-119 (1977).
16. A. R. Phillips and M. J. Buzawa, "High resolution lens system for submicron photolithography," Proc. SPIE 237, 329-336 (1980).
17. J. Braat, "Quality of microlithographic projection lenses," Proc. SPIE 811, 22-30 (1987).
18. W. Emmerich and C. Hofmann, "Optik-Hochtechnologie - eine Voraussetzung für die Mikroelektronik-Hochtechnologie," Jenaer Rundschau 4, 193-196 (1986).
19. K. Merkel and C. Hofmann, "The development of microlithographic high-performance optics," Int. J. Optoelectronics 4(6), 545-562 (1989).
20. W. Ulrich, S. Beiersdörfer, and H.-J. Mann, "Trends in optical design of projection lenses for UV- and EUV-lithography," Proc. SPIE 4146, 13-24 (2000).
21. K.-H. Schuster, "Projektionsobjektiv," German Patent Application DE 19922209.
22. K.-H. Schuster et al., "Mikrolithographisches Reduktionsobjektiv, " German Patent Application DE 19855108.
23. H.-J. Rostalski, W. Ulrich, and R. Hudyma, "New 0.9NA lenses," US Patent pending.
24. D. R. Shafer and W. Ulrich, "Optical projection lens system," US Patent Application 60/160799.
25. K.-H. Schuster, "Reduktions-Projektionsobjektiv der Mikrolithographie," German Patent Application DE 19905203.
26. K.-H. Schuster, "Objektiv mit Kristall-Linsen," German Patent Application DE 19929701.
27. H. Boegehold, "Die Verbesserung des Bildfeldes der Mikroskopobjektive," Zeitschrift für wissenschaftliche Mikroskopie, No. 55, pp. 17-25 (1938).
28. H. C. Claussen, "Mikroskop-Objektive mit geebnetem Feld," Leitz-Mitteilungen für Wissenschaft u. Technik, IV(3), 65-73 (1967).
29. W. Klein, "Aufbau und Korrektion der Mikroskopobjektive," Jahrbuch für Optik und Feinmechanik, pp. 47-86 (1976).
30. M. Switkes and M. Rothschild, "Immersion lithography at 157 nm," J. Vac. Sci. Technol. B 19(6), 2353-2356 (2001).
31. D. R. Shafer, "Lens usable in the ultraviolet," US Patent 4,770,477.
32. H.-J. Rostalski and W. Ulrich, "Refraktives Projektionsobjektiv für Immersions-Lithographie," German Patent Application DE 10210899.
33. B. J. Lin, "The k3 coefficient in nonparaxial λ/NA scaling equations for resolution, depth of focus, and immersion lithography," J. Microlithogr., Microfabr., Microsyst. 1(1), 7-12 (April 2002).