Influence of surfactants on atomic diffusion

Surface Science

Volumn 459, Issue 1, 2000, Pages 135-148

  Ferron J ^a   Gomez L ^b   Gallego, J M ^c   Camarero, J ^d   Prieto, J E ^d   Cros, V ^d   Vazquez De Parga A L ^d   De Miguel, J J ^d   Miranda, R ^d  

^a UNIVERSIDAD NACIONAL DEL LITORAL   (Argentina)

^b INSTITUTO DE FÍSICA ROSARIO   (Argentina)

^c INSTITUTO DE CIENCIA DE MATERIALES DE MADRID   (Spain)

^d UNIVERSIDAD AUTÓNOMA DE MADRID   (Spain)

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COMPUTER SIMULATION; COPPER; DIFFUSION IN SOLIDS; EPITAXIAL GROWTH; HELIUM; INTERFACES (MATERIALS); LEAD; MONTE CARLO METHODS; SCANNING TUNNELING MICROSCOPY;

ATOMISTIC DYNAMICS;

SURFACE ACTIVE AGENTS;

EID: 17144460548     PISSN: 00396028     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/S0039-6028(00)00459-3     Document Type: Article

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