Characterization of graded refractive index silicon oxynitride thin films by spectroscopic ellipsometry

Thin Solid Films

Volumn 313-314, Issue , 1998, Pages 384-388

  Callard, S ^a   Gagnaire, A ^a   Joseph, J ^a  

^a ECOLE CENTRALE DE LYON   (France)

Author keywords

Ellipsometry; Index gradients; Silicon oxynitrides

Indexed keywords

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; ELECTRON CYCLOTRON RESONANCE; ELLIPSOMETRY; ETCHING; FLOW CONTROL; PLASMA APPLICATIONS; PLASMA FLOW; POLYNOMIALS; REFRACTIVE INDEX; SILANES; SILICON NITRIDE; THIN FILMS;

PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; SPECTROSCOPIC ELLIPSOMETRY;

OPTICAL FILMS;

EID: 17144442484     PISSN: 00406090     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/S0040-6090(97)00851-1     Document Type: Article

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