-
1
-
-
0034617249
-
-
Ruecks, T.; Kim, K.; Joselevich, E.; Tseng, G. Y.; Cheung, C.; Lieber, C. M. Science 2000, 289, 94.
-
(2000)
Science
, vol.289
, pp. 94
-
-
Ruecks, T.1
Kim, K.2
Joselevich, E.3
Tseng, G.Y.4
Cheung, C.5
Lieber, C.M.6
-
2
-
-
0035827304
-
-
Huang, M. H.; Mao, S.; Feick, H.; Yan, H.; Wu, Y.; Kind, H.; Weber, E.; Russo, R.; Yang, P. Science 2001, 292, 1897.
-
(2001)
Science
, vol.292
, pp. 1897
-
-
Huang, M.H.1
Mao, S.2
Feick, H.3
Yan, H.4
Wu, Y.5
Kind, H.6
Weber, E.7
Russo, R.8
Yang, P.9
-
3
-
-
0035831290
-
-
Pan, Z. W.; Dai, Z. R.; Wang, Z. L. Science 2001, 291, 1947.
-
(2001)
Science
, vol.291
, pp. 1947
-
-
Pan, Z.W.1
Dai, Z.R.2
Wang, Z.L.3
-
4
-
-
0037418379
-
-
Xia, Y.; Yang, P,; Sun, Y.; Wu, Y.; Mayers, B.; Gates, B.; Yin, Y.; Kim, F.; Yan, H. Adv. Mater. 2003, 15, 353.
-
(2003)
Adv. Mater.
, vol.15
, pp. 353
-
-
Xia, Y.1
Yang, P.2
Sun, Y.3
Wu, Y.4
Mayers, B.5
Gates, B.6
Yin, Y.7
Kim, F.8
Yan, H.9
-
5
-
-
0032375160
-
-
Hiramatsu, M.; Imaeda, K.; Horio, N.; Nawata, M. J. Vac. Sci. Technol. 1998, A16, 669.
-
(1998)
J. Vac. Sci. Technol.
, vol.16
, pp. 669
-
-
Hiramatsu, M.1
Imaeda, K.2
Horio, N.3
Nawata, M.4
-
7
-
-
0000647428
-
-
Yaghi, O. M.; Li, H.; Davis, C.; Richardson, D. T.; Groy, L. Acc. Chem. Res. 1998, 31, 474.
-
(1998)
Acc. Chem. Res.
, vol.31
, pp. 474
-
-
Yaghi, O.M.1
Li, H.2
Davis, C.3
Richardson, D.T.4
Groy, L.5
-
8
-
-
1642273967
-
-
Yu, J.; Yu, J. C.; Ho, W.; Wu, L.; Wang, X. J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 3422.
-
(2004)
J. Am. Chem. Soc.
, vol.126
, pp. 3422
-
-
Yu, J.1
Yu, J.C.2
Ho, W.3
Wu, L.4
Wang, X.5
-
12
-
-
0033738750
-
-
Li, Y. D.; Sui, M.; Ding, Y.; Zhang, G. H.; Zhuang, J.; Wang, C. Adv. Mater. 2000, 12, 818.
-
(2000)
Adv. Mater.
, vol.12
, pp. 818
-
-
Li, Y.D.1
Sui, M.2
Ding, Y.3
Zhang, G.H.4
Zhuang, J.5
Wang, C.6
-
13
-
-
2542502582
-
-
Wan, Q.; Li, Q. H.; Chen, Y. J.; Wang, T. H.; He, X. L.; Li, J. P.; Lin, C. L. Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 3654.
-
(2004)
Appl. Phys. Lett.
, vol.84
, pp. 3654
-
-
Wan, Q.1
Li, Q.H.2
Chen, Y.J.3
Wang, T.H.4
He, X.L.5
Li, J.P.6
Lin, C.L.7
-
14
-
-
0036915911
-
-
Gui, Z.; Fan, R.; Mo, W.; Chen, X.; Yang, L.; Zhang, S.; Hu, Y.; Wang, Z.; Fan, W. Chem. Mater. 2002, 14, 5053.
-
(2002)
Chem. Mater.
, vol.14
, pp. 5053
-
-
Gui, Z.1
Fan, R.2
Mo, W.3
Chen, X.4
Yang, L.5
Zhang, S.6
Hu, Y.7
Wang, Z.8
Fan, W.9
-
15
-
-
13444261746
-
-
Lahav, M.; Sehayek, T.; Vaskevich, A.; Rubinstein, I. Angew. Chem., Int. Ed. 2003, 42, 5575.
-
(2003)
Angew. Chem., Int. Ed.
, vol.42
, pp. 5575
-
-
Lahav, M.1
Sehayek, T.2
Vaskevich, A.3
Rubinstein, I.4
-
16
-
-
0141856348
-
-
Leontidis, E.; Orphanou, M.; Leodidou, T.; Krumeich, F.; Caseri, W. Nano Lett. 2003, 3, 569.
-
(2003)
Nano Lett.
, vol.3
, pp. 569
-
-
Leontidis, E.1
Orphanou, M.2
Leodidou, T.3
Krumeich, F.4
Caseri, W.5
-
17
-
-
0035126240
-
-
Huang, M. H.; Wu, Y. Y.; Feick, H. N.; Tran, N.; Weber, E.; Yang, P. D. Adv. Mater. 2001, 13, 113.
-
(2001)
Adv. Mater.
, vol.13
, pp. 113
-
-
Huang, M.H.1
Wu, Y.Y.2
Feick, H.N.3
Tran, N.4
Weber, E.5
Yang, P.D.6
-
18
-
-
1642569233
-
-
Wang, X.; Summers, C. J.; Wang, Z. L. Nano Lett. 2004, 4, 423.
-
(2004)
Nano Lett.
, vol.4
, pp. 423
-
-
Wang, X.1
Summers, C.J.2
Wang, Z.L.3
|