Negative ion formation in the scattering of CF+3 from graphite

Applied Physics Letters

Volumn 77, Issue 8, 2000, Pages 1096-1098

  Gleeson, M A ^a   Kropholler, M ^b   Kleyn, A W ^a,c  

^a CHALMERS UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (Sweden)

^b FOM INSTITUTE AMOLF   (Netherlands)

^c LEIDEN UNIVERSITY   (Netherlands)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0347467608     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1289808     Document Type: Article

References (24)

1. J. L. Jauberteau, G. J. Meeusen, M. Haverlag, G. M. W. Kroesen, and F. J. de Hoog, Appl. Phys. Lett. 55, 2597 (1989).
2. G. S. Selwyn, J. Singh, and R. S. Bennett, J. Vac. Sci. Technol. A 7, 2758 (1989).
3. J. T. Verdeyen, J. Beberman, and L. Overzet, J. Vac. Sci. Technol. A 8, 1851 (1990).
4. M. Haverlag, A. Kono, D. Passchier, G. M. W. Kroesen, W. J. Goedheer, and F. J. de Hoog, J. Appl. Phys. 70, 3472 (1991).
5. Y. Lin and L. J. Overzet, Appl. Phys. Lett. 62, 675 (1993).
6. G. A. Hebner, M. G. Blain, T. W. Hamilton, C. A. Nichols, and R. L. Jarecki, J. Vac. Sci. Technol. A 17, 3172 (1999).
7. H. Ohtake and S. Samukawa, Appl. Phys. Lett. 68, 2416 (1996).
8. S. Samukawa, H. Ohtake, and T. Mieno, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 3049 (1996).
9. T. Shibayama, H. Shindo, and Y. Horiike, Plasma Sources Sci. Technol. 5, 254 (1996).
10. T. Maruyama, N. Fujiwara, S. Ogino, and M. Yoneda, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 36, 2526 (1997).
11. C. J. Choi, O. S. Kwon, and Y. S. Seol, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 37, 6894 (1998).
12. H. Shindo, Y. Sawa, and Y. Horiike, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 34, L925 (1995).
13. T. M. Mayer and R. A. Barker, J. Vac. Sci. Technol. 21, 757 (1982).
14. J. Los and J. J. C. Geerlings, Phys. Rep. 190, 133 (1990).
15. H. Niehus, W. Heiland, and E. Taglauer, Surf. Sci. Rep. 17, 213 (1993).
16. W. R. Koppers, J. H. M. Beijersbergen, K. Tsumori, T. L. Weeding, P. G. Kistemaker, and A. W. Kleyn, Int. J. Mass Spectrum. Ion Processes 174, 11 (1998).
17. Y. Mitsuoka, H. Toyoda, and H. Sugai, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 34, L1486 (1995).
18. H. Sugai, Y. Mitsuoka, and H. Toyoda, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 290 (1998).
19. A. Kavanagh and R. Schlogl, Carbon 26, 23 (1988).
20. R. Ahuja, S. Auluck, J. Trygg, J. M. Willis, O. Eriksson, and B. Johansson, Phys. Rev. B 51, 4813 (1995).
21. W. R. Koppers, J. H. M. Beijersbergen, T. L. Weeding, P. G. Kistemaker, and A. W. Kleyn, J. Chem. Phys. 107, 10736 (1997).
22. M. A. Gleeson and A. W. Kleyn, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. 157, 48 (1999).
23. M. A. Gleeson, T. T. Nuver, J. Lourenço, A. M. C. Moutinho, J. Los, and A. W. Kleyn, PhysChemComm, 1999, 15.
24. R. G. Cooks, T. Ast, and M. A. Mabud, Int. J. Mass Spectrom. Ion Processes 100, 209 (1990).