Dynamics of hydrides on hydrogen-terminated silicon (111)-(1×1) surface

Journal of Physical Chemistry B

Volumn 103, Issue 28, 1999, Pages 5820-5825

  Ye, J H ^a   Bok, T H ^a   Pan, J S ^a   Li, Sam F Y ^a   Lin, J Y ^a  

^a NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE   (Singapore)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0342954358     PISSN: 15206106     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp984341z     Document Type: Article

References (29)

1. Handbook of Semiconductor Wafer Cleaning Technology: Science, Technology and Applications, Kern W. Ed.; Noyes Publications: Park Ridge, New Jersey, 1993.
2. Kern, W.; Pauotein, D. A. RCA Rev. 1970, 31, 187.
3. Miyashita, M.; Tsuga, T.; Makihara, K.; Ohmi, T. J. Electrochem. Soc. 1992, 139, 526.
4. Ohmi, T.; et al. IEICE Trans. Electron. 1992, 7, 800.
5. Ohmi, T. Proc.-Electrochem. Soc. Meeting 1993, 184, p 495.
6. Meyer, M. M.; et al. Mat. Res. Soc., Symp. Proc. 1993, 315, 35.
7. Kern, W. J. Electrochem. Soc. 1990, 137, 1887.
8. Hessel, H. E.; Feltz, A.; Reiter, M.; Memmert, U.; Behm, R. J. Chem. Phys. Lett. 1991, 186, 275.
9. Higashi, G. S.; Becker, R. S.; Chabal, Y. J.; Becker, A. J. Appl. Phys. Lett. 1991, 58, 1656.
10. Houbertz, R.; Memmert, U.; Behm R. J. Appl. Phys. Lett. 1993, 62, 2516.
11. Houbertz, R.; Memmert, U.; Behm R. J. J. Vac. Sci. Technol. 1994, B12, 3145.
12. Houbertz R.; Memmert, U.; Behm R. J. Surf. Sci. 1998, 396, 198.
13. Wade, C. P.; Chidsey, C. E. D. Appl. Phys. Lett. 1997, 71, 1679.
14. Neuwald, U.; Hessel, H. E.; Feltz, A.; M.; Memmert, U.; Behm, R. J. Surf. Sci. 1993, 296, L8.
15. Morita, Y.; Tokumoto, H. Appl. Phys. Lett. 1995, 67, 2654.
16. Morita, Y.; Tokumoto, H. J. Vac. Sci. Technol. 1996, A14, 854.
17. Endo, K.; Arima, K.; Kataoka, T.; Oshikane, Y.; Inoue, H.; Mori, Y. Appl. Phys. Lett. 1998, 73, 1853.
18. Itaya, K.; Sugawara, R.; Morita, Y.; Tokumoto, T. Appl. Phys. Lett. 1990, 60, 2534.
19. Ye, J. H.; Kaji, K.; Itaya, K. J. Electrochem. Soc. 1996, 143, 4013.
20. Kaji, K.; Yau, S. L.; Itaya, K. J. Appl. Phys. 1995, 78, 5727.
21. Yau, S. L.; Kaji, K.; Itaya, K. Appl. Phys. Lett. 1995, 66, 766
22. Allonque, P.; Keiling, V.; Gerischer, H. Electrochim. Acta 1995, 40, 1353.
23. Allonque, P.; Keiling, V.; Gerischer, H. J. Electrochem. Soc. 1993, 140, 1009, and 1018.
24. Allonque, P.; Keiling, V.; Gerischer, H. J. Phys. Chem. 1995, 199, 9472.
25. Allonque, P.; Brune, H.; Gerischer, H. Surf. Sci. 1992, 275, 414.
26. Higashi, G. S.; Decker, R. S.; Chabal, Y. J.; Becker, A. J. Appl. Phys. Lett. 1991, 58, 1656.
27. Higashi, G. S.; Chabal, Y. J.; Trucks, G. W., Raghavachari, K. Appl. Phys. Lett. 1990, 56, 656.
28. Allongue, P. Phys. Rev. Lett. 1996, 77, 1986.
29. Olshanetzky, B. Z.; Repinsky, S. M.; Shklayae, A. A. Surf. Sci. 1977, 69, 205.