Metal-oxide interaction for metal clusters on a metal-supported thin alumina film

Surface Science

Volumn 442, Issue 1, 1999, Pages

  Andersson, S ^a   Bruhwiler P A ^a   Sandell, A ^b   Frank, M ^c   Libuda, J ^c   Giertz, A ^a   Brena, B ^a   Maxwell, A J ^a   Baumer M ^c   Freund, H J ^c   Martensson N ^a  

^a UPPSALA UNIVERSITY   (Sweden)

^b LUND UNIVERSITY   (Sweden)

^c FRITZ HABER INSTITUT DER MAX PLANCK GESELLSCHAFT   (Germany)

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ALUMINA; DEPOSITION; ELECTRON ENERGY LEVELS; ENERGY GAP; FILM GROWTH; INTERFACES (MATERIALS); NICKEL COMPOUNDS; SURFACE STRUCTURE; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY; X RAY SPECTROSCOPY;

PRISTINE FILM; VALENCE PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY; X RAY ABSORPTION SPECTROSCOPY;

THIN FILMS;

EID: 0342810007     PISSN: 00396028     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/S0039-6028(99)00915-2     Document Type: Article

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