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Volumn 74, Issue 23, 1999, Pages 3501-3503

Ion-channeling study of the SiC/Si/SiO2/Si interface

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EID: 0043264483     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.124143     Document Type: Article
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References (15)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.