Room temperature aging behavior of thermally imprinted Pt/SrBi2Ta2O9/Pt ferroelectric thin film capacitors

Journal of Applied Physics

Volumn 90, Issue 8, 2001, Pages 4130-4133

  Wu, Di ^a   Li, Aidong ^a   Ling, Huiqin ^a   Yu, Tao ^a   Liu, Zhiguo ^a   Ming, Naiben ^a  

^a NANJING UNIVERSITY   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0040927868     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1402663     Document Type: Article

References (22)

1. J. F. Scott and C. A. Paz de Araujo, Science 246, 1400 (1989).
2. C. A. Paz de Araujo, J. D. Cuchiaro, L. D. McMillan, M. C. Scott, and J. F. Scott, Nature (London) 374, 12 (1995).
3. W. L. Warren, D. Dimos, B. A. Tuttle, R. D. Nasby, and G. E. Pike, Appl. Phys. Lett. 65, 1018 (1994).
4. H. A. Al-Shareef, D. Dimos, T. J. Boyle, W. L. Warren, and B. A. Tuttle, Appl. Phys. Lett. 68, 690 (1996).
5. D. Wu, A. D. Li, H. Q. Ling, T. Yu, Z. G. Liu, and N. B. Ming, Appl. Phys. Lett. 76, 2208 (2000).
6. I. Stolichnov, A. Tagantsev, N. Setter, J. S. Cross, and M. Tsukada, Appl. Phys. Lett. 74, 3552 (1999).
7. E. L. Colla, D. V. Taylor, A. K. Tangantsev, and N. Setter, Appl. Phys. Lett. 72, 2478 (1998).
8. M. Dawber and J. F. Scott, Appl. Phys. Lett. 76, 1060 (2000); 76, 3655 (2000).
9. M. Dawber and J. F. Scott, Appl. Phys. Lett. 76, 1060 (2000); 76, 3655 (2000).
10. J. F. Scott and M. Dawber, Appl. Phys. Lett. 76, 3801 (2000).
11. J. J. Lee, C. L. Thio, and S. B. Desu, Phys. Status Solidi A 151, 171 (1995).
12. J. M. Benedetto, R. A. Moore, F. B. Mchean, and P. S. Brody, IEEE Trans. Nucl. Sci, 37, 1713 (1990).
13. J. M. Benedetto, R. A. Moore, and F. B. Mclean, J. Appl. Phys. 75, 460 (1994).
14. W. L. Warren, H. N. Al-Shareef, D. Dimos, B. A. Tuttle, and G. E. Pike, Appl. Phys. Lett. 68, 1681 (1996).
15. Y. Shimada, K. Nakao, A. Inoue, M. Azuma, E. Fuji, and T. Otsuki, Appl. Phys. Lett. 71, 2538 (1997).
16. T. Mihara, H. Watanabe, and C. A. Paz de Araujo, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 32, 4168 (1993).
17. D. Wu, A. D. Li, H. Q. Ling, T. Yu, Z. O. Liu, and N. B. Ming, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 71, 597 (2000).
18. Y. M. Coïc, O. Musseau, and J. L. Leray, IEEE Trans. Nucl. Sci. 41, 495 (1994).
19. D. J. Taylor, R. E. Jones, P. Zurcher, P. Chu, Y. T. Lu, B. Jiang, and S. J. Gillespie, Appl. Phys. Lett. 68, 2300 (1996).
20. Y. H. Xu, Ferroelectric Materials and Their Applications (Elsevier Science, Amsterdam, 1991), p. 147.
21. N. H. Chan, R. K. Sharma, and D. M. Smyth, J. Am. Ceram. Soc. 64, 556 (1981).
22. D. M. Smyth, Ferroelectrics 116, 117 (1991).