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Volumn 48, Issue SUPPL. 2, 1998, Pages 59-69

Modelling of radio frequency sheaths for plasma processing

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EID: 0040120830     PISSN: 00114626     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1007/s10582-998-0022-z     Document Type: Article
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References (27)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.