Individual free-standing carbon nanofibers addressable on the 50 nm scale

Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures

Volumn 21, Issue 3, 2003, Pages 1004-1007

  Moser, J ^a,b   Panepucci, R ^c   Huang, Z P ^a   Li, W Z ^a   Ren, Z F ^a   Usheva, A ^b   Naughton, M J ^a  

^a BOSTON COLLEGE   (United States)

^b HARVARD UNIVERSITY   (United States)

^c Department of Theoretical and Applied Mechanics and the Cornell Nanofabrication Facility   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CATALYSTS; ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY; NANOSTRUCTURED MATERIALS; PHOTOLITHOGRAPHY; PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; REACTIVE ION ETCHING; TUNGSTEN;

CARBON NANOFIBERS (CNF);

CARBON NANOTUBES;

EID: 0038794732     PISSN: 10711023     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.1572164     Document Type: Article

References (18)

1. Z. F. Ren, Z. P. Huang, J. W. Xu, J. H. Wang, P. Bush, M. P. Siegal, and P. N. Provencio, Science 282, 1105 (1998).
2. S. S. Fan, M. G. Chapline, N. R. Franklin, T. W. Tombler, A. M. Cassel, and H. J. Dai, Science 283, 512 (1999).
3. Z. F. Ren, Z. P. Huang, D. Z. Wang, J. G. Wen, J. W. Xu, J. H. Wang, L. E. Calvet, J. Chen, J. F. Klemic, and M. A. Reed, Appl. Phys. Lett. 75, 1086 (1999).
4. C. Bower, W. Zhu, S. Jin, and O. Zhou, Appl. Phys. Lett. 77, 830 (2000).
5. M. A. Guillorn, M. L. Simpson, G. J. Bordonaro, V. I. Merkulov, L. R. Baylor, and D. H. Lowndes, J. Vac. Sci. Technol. B 19, 573 (2001); M. A. Guillorn, A. V. Melechko, V. I. Merkulov, E. D. Ellis, C. L. Britton, M. L. Simpson, D. H. Lowndes, and L. R. Baylor, Appl. Phys. Lett. 79, 3506 (2001); M. A. Guillorn, A. V. Melechko, V. I. Merkulov, E. D. Ellis, M. L. Simpson, D. H. Lowndes, L. R. Baylor, and G. J. Bordonaro, J. Vac. Sci. Technol. B 19, 2598 (2001).
6. M. A. Guillorn, M. L. Simpson, G. J. Bordonaro, V. I. Merkulov, L. R. Baylor, and D. H. Lowndes, J. Vac. Sci. Technol. B 19, 573 (2001); M. A. Guillorn, A. V. Melechko, V. I. Merkulov, E. D. Ellis, C. L. Britton, M. L. Simpson, D. H. Lowndes, and L. R. Baylor, Appl. Phys. Lett. 79, 3506 (2001); M. A. Guillorn, A. V. Melechko, V. I. Merkulov, E. D. Ellis, M. L. Simpson, D. H. Lowndes, L. R. Baylor, and G. J. Bordonaro, J. Vac. Sci. Technol. B 19, 2598 (2001).
7. M. A. Guillorn, M. L. Simpson, G. J. Bordonaro, V. I. Merkulov, L. R. Baylor, and D. H. Lowndes, J. Vac. Sci. Technol. B 19, 573 (2001); M. A. Guillorn, A. V. Melechko, V. I. Merkulov, E. D. Ellis, C. L. Britton, M. L. Simpson, D. H. Lowndes, and L. R. Baylor, Appl. Phys. Lett. 79, 3506 (2001); M. A. Guillorn, A. V. Melechko, V. I. Merkulov, E. D. Ellis, M. L. Simpson, D. H. Lowndes, L. R. Baylor, and G. J. Bordonaro, J. Vac. Sci. Technol. B 19, 2598 (2001).
8. M. A. Guillorn, T. E. McKnight, A. Melechko, V. I. Merkulov, P. F. Britt, D. W. Austin, D. H. Lowndes, and M. L. Simpson, J. Appl. Phys. 91, 3824 (2002).
9. J. Liu et al., Science 280, 1253 (1998). Z. F. Liu, Z. Shen, T. Zhu, S. Hou, L. Ying, Z. Shi, and Z. Gu, Langmuir 16, 3569 (2000).
10. J. Liu et al., Science 280, 1253 (1998). Z. F. Liu, Z. Shen, T. Zhu, S. Hou, L. Ying, Z. Shi, and Z. Gu, Langmuir 16, 3569 (2000).
11. V. I. Merkulov, D. H. Lowndes, Y. Y. Wei, G. Eres, and E. Voelkl, Appl. Phys. Lett. 76, 3555 (2000).
12. Y. Y. Wei, G. Eres, V. I. Merkulov, and D. H. Lowndes, Appl. Phys. Lett. 78, 1394 (2001).
13. V. I. Merkulov, M. A. Guillorn, D. H. Lowndes, and M. L. Simpson, Appl. Phys. Lett. 79, 1178 (2001).
14. M. Chhowalla, K. B. K. Teo, C. Ducati, N. L. Rupesinghe, G. A. J. Amaratunga, A. C. Ferrari, D. Roy, J. Robertson, and W. I. Milne, J. Appl. Phys. 90, 5308 (2001).
15. V. I. Merkulov, A. V. Melechko, M. A. Guillorn, D. H. Lowndes, and M. L. Simpson, Appl. Phys. Lett. 80, 476 (2002).
16. J. G. Wen, Z. P. Huang, and Z. F. Ren (unpublished).
17. E. Dujardin, T. W. Ebbesen, H. Hiura, and K. Tanigaki, Science 265, 1850 (1994).
18. S. F. McKay, J. Appl. Phys. 35, 1992 (1964).