Metal deposition with femtosecond light pulses at atmospheric pressure

Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films

Volumn 21, Issue 3, 2003, Pages 649-652

  Haight, R ^a   Longo, P ^a   Wagner, A ^a  

^a IBM T J WATSON RESEARCH CENTER   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ABSORPTION; ADSORPTION; ATMOSPHERIC PRESSURE; CHROMIUM COMPOUNDS; DEPOSITION; DISSOCIATION; FUSED SILICA; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY;

FEMTOSECOND LIGHT PULSES; HEXACARBONYL; METAL DEPOSITION; MULTIPHOTON DISSOCIATION;

LASER PULSES;

EID: 0038613441     PISSN: 07342101     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.1564026     Document Type: Article

References (24)

1. I. P. Herman, Chem. Phys. Lett. 89, 1323 (1989), and references therein.
2. F. A. Houle and K. A. Singmaster, J. Phys. Chem. 96, 10425 (1992).
3. F. A. Houle and L. I. Yeh, J. Phys. Chem. 96, 2691 (1992).
4. D. K. Flynn and J. Steinfeld, J. Appl. Phys. 59, 3914 (1986).
5. R. L. Jackson, G. W. Tyndall, and S. D. Sather, Appl. Surf. Sci. 36, 119 (1989).
6. K. A. Singmanster, F. A. Houle, and R. J. Wilson, J. Phys. Chem. 94, 6864 (1990).
7. H. H. Gilgen, T. Cacouris, P. S. Shaw, R. R. Krchnavek, and R. M. Osgood, Appl. Phys. B: Photophys. Laser Chem. 42, 55 (1987).
8. P. P. Pronko, S. K. Dutta, D. Du, and S. K. Singh J. Appl. Phys. 78, 6233 (1995).
9. X. Liu, D. Du, and G. Mourou, IEEE J. Quantum Electron. 33, 1706 (1997).
10. B. N. Chichkov, C. Momma, S. Nolte, F. von Alvensleben, and A. Tunnermann, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 63, 109 (1996).
11. R. Haight, D. Hayden, P. Longo, T. Neary, and A. Wagner, Proc. SPIE 3546, 477 (1998).
12. R. Haight, D. Hayden, P. Longo, T. Neary, and A. Wagner, J. Vac. Sci. Technol. A 17, 3137 (1999).
13. S. K. Kim, S. Pedersen, and A. H. Zewail, Chem. Phys. Lett. 233, 500 (1995).
14. S. A. Trushin, W. Fuss, W. E. Schmid, and K. L. Kompa, J. Phys. Chem. A 102, 4129 (1998).
15. M. Lax, J. Appl. Phys. 48, 3919 (1977).
16. H. E. Elsayed-Ali, T. B. Norris, M. S. Pessot, and G. A. Mourou, Phys. Rev. Lett. 58, 1212 (1987).
17. T. Q. Qui and C. L. Tien, Int. J. Heat Mass Transf. 37, 2789 (1994).
18. D. Y. Tzou and K. S. Chiu, Int. J. Heat Mass Transf. 44, 1725 (2001).
19. J. F. Muth, J. D. Brown, M. A. L. Johnson, Z. Yu, R. M. Kolbas, J. W. Cook, and J. F. Schetzina, J. Nitride Semicond. Res. 4S1 G5.2 (1999).
20. J. A. Misewich, T. F. Heinz, and D. M. Mewns, Phys. Rev. Lett. 68, 3737 (1992).
21. J. G. Fujimoto, J. M. Liu, E. P. Ippen, and N. Bloembergen, Phys. Rev. Lett. 53, 1837 (1984).
22. A. Damascelli, G. Gabetta, A. Lumachi, L. Fini, and F. Parmigiani, Phys. Rev. B 54, 6031 (1996).
23. C. P. A Mulcahy, J. Eggeling, and T. S. Jones, Chem. Phys. Lett. 288, 203 (1998).
24. A. Nitzzen and L. E. Brus, J. Chem. Phys. 75, 2205 (1981).