Formation of highly ordered organic monolayers by dative bonding: Pyridine on Ge(100)

Journal of the American Chemical Society

Volumn 125, Issue 25, 2003, Pages 7514-7515

  Cho, Young Eun ^a   Maeng, Jae Yeol ^a   Kim, Sehun ^a   Hong, Suklyun ^b  

^a Korea Advanced Institute of Science and Technology (KAIST)   (South Korea)

^b Sejong University   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ALKENE; AMINE; AROMATIC COMPOUND; BASE; CARBON; DIMER; GERMANIUM; LEWIS ACID; PYRIDINE; SILICON;

ADSORPTION; ARTICLE; CHEMICAL BINDING; CHEMICAL REACTION; CYCLOADDITION; FILM; SCANNING TUNNELING MICROSCOPY; SEMICONDUCTOR;

EID: 0038546922     PISSN: 00027863     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/ja0344617     Document Type: Article

References (25)

1. Wolkow, R. A. Annu. Rev. Phys. Chem. 1999, 50, 413-441.
2. Hamers, R. J.; Coulter, S. K.; Ellison, M. D.; Hovis, J. S.; Padowitz, D. F.; Schwartz, M. P.; Greenlief, C. M.; Russell, J. N., Jr. Acc. Chem. Res. 2000, 33, 617-624.
3. Buriak, J. M. Chem. Rev. 2002, 102, 1271-1308.
4. Bent, S. F. Surf. Sci. 2002, 500, 879-903.
5. Yoshinobu, J.; Onchi, M.; Nishijima, M. J. Chem. Phys. 1987, 87, 7332-7340.
6. Konecny, R.; Doren, D. J. J. Am. Chem. Soc. 1997, 119, 11098-11099.
7. Hamers, R. J.; Hovis, J. S.; Lee, S.; Liu, H.; Shan, J. J. Phys. Chem. B 1997, 101, 1489-1492.
8. Widdra, W.; Fink, A.; Gokhale, S.; Trishberger, P.; Menzel, D., Birkenheuer. U.; Gutdeutsch, U.; Roesch, N. Phys. Rev. Lett. 1998, 80, 4269-4272.
9. Mezhenny, S.; Lyubinetsky, I.; Choyke, W. J.; Wolkow, R. A.; Yates, J. T., Jr. Chem. Phys. Lett. 2001, 344, 7-12.
10. Kim, A.; Maeng, J. Y.; Lee, J. Y.; Kim, S. J. Chem. Phys. 2002, 117, 10215-10222.
11. Hovis, J. S.; Coulter, S. K.; Hamers, R. J.; D'Evelyn, M. P.; Russell, J. N., Jr.; Butler, J. E. J. Am. Chem. Soc. 2000, 122, 732-733.
12. Hovis, J. S.; Liu, H.; Hamers, R. J. J. Phys. Chem. B 1998, 102, 6873-6879.
13. Hovis, J. S.; Hamers, R. J. J. Phys. Chem. B 1998, 102, 687-692.
14. Qiao, M. H.; Cao, Y.; Deng, J. F.; Xu. G. Q. Chem. Phys. Lett. 2000, 325, 508-512.
15. Seino, K.; Schmidt, W. G.; Furthmüller, J.; Bechstedt, F. Phys. Rev. B 2002, 66, 235323-235328.
16. Cao, X.; Coulter, S. K.; Ellison, M. D.; Liu, H.; Liu, J.; Hamers, R. J. J. Phys. Chem. B 2001, 105, 3759-3768.
17. Rummel, R.-M.; Ziegler, C. Surf. Sci. 1998, 418, 303-313.
18. Wang, G. T.; Mui, C.; Musgrave, C. B.; Bent, S. F. J. Phys. Chem. B 2001, 105, 3295-3299.
19. Lu, X.; Xu, X.; Wu, J.; Wang, N.; Zhang, Q. New J. Chem. 2002, 26, 160-164.
20. Maeng, J. Y. Ph.D. thesis, KAIST, 2002.
21. Lopinski, G. P.; Fortier, T. M.; Moffatt, D. J.; Wolkow, R. A. J. Vac. Sci. Technol. A 1998, 16, 1037-1042.
22. Maeng, J. Y.; Lee, J. Y.; Cho, Y. E.; Kim, S.; Jo, S. K. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 3555-3557.
23. Lee, J. Y.; Maeng, J. Y.; Kim, A.; Cho, Y. E.; Kim, S. J. Chem. Phys. 2003, 118, 1929-1936.
24. Mui, C.; Han, J. H.; Wang, G. T.; Musgrave, C. B.; Bent, S. F. J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 4027-4038.
25. Lee, J.-G.; Ahner, J.; Yates, J. T., Jr. J. Chem. Phys. 2001, 114, 1414-1419.