The development of dioptric projection lenses for DUV lithography

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering

Volumn 4832, Issue , 2002, Pages 158-169

  Ulrich, Willi ^a   Rostalski, Hans Jürgen ^a   Hudyma, Russ ^b  

^a CZ SMT AG   (Germany)

^b Paragon Optics Inc   (United States)

Author keywords

Aspheres; Dioptric lenses; Immersion lithography; Lens design; Microlithography; Microscopy; Monochromat; Ultraviolet

Indexed keywords

ABERRATIONS; APPLICATION SPECIFIC INTEGRATED CIRCUITS; ASPHERICS; LITHOGRAPHY; MICROSCOPIC EXAMINATION; MONOCHROMATORS; OPTICAL DESIGN; PROJECTION SYSTEMS; ULTRAVIOLET RADIATION;

ABERRATION CONTROL; ADVANCED DEEP ULTRAVIOLET PROJECTION LITHOGRAPHY SYSTEMS; ASPHERES; DIOPTRIC LENSES; IMMERSION LITHOGRAPHY; MONOCHROMAT;

OPTICAL INSTRUMENT LENSES;

EID: 0038011598     PISSN: 0277786X     EISSN: None     Source Type: Conference Proceeding    
DOI: 10.1117/12.486477     Document Type: Conference Paper

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