Difference in Conversions between Dimethyl Sulfide and Methanethiol in a Cold Plasma Environment

Plasma Chemistry and Plasma Processing

Volumn 23, Issue 1, 2003, Pages 141-157

  Tsai, Cheng Hsien ^a   Lee, Wen Jhy ^b   Chen, Chuh Yung ^b   Tsai, Perng Jy ^b   Fang, Guor Cheng ^c   Shih, Minliang ^b  

^a NATIONAL KAOHSIUNG UNIVERSITY OF APPLIED SCIENCES   (Taiwan)

^b NATIONAL CHENG KUNG UNIVERSITY   (Taiwan)

^c HUNGKUANG UNIVERSITY   (Taiwan)

Author keywords

CH3SH; Conversion; Decomposition; DMS; RF plasma

Indexed keywords

ALCOHOLS; ARGON; CARBON MONOXIDE; CHEMICAL REACTORS; CONTAMINATION; DECOMPOSITION; ELECTRODES; MICROWAVES; OXYGEN; REACTION KINETICS; SULFUR; THERMAL EFFECTS;

COLD PLASMAS; ORGANOSULFUR;

PLASMAS;

EID: 0037282577     PISSN: 02724324     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1023/A:1022425020949     Document Type: Article

References (50)

1. S. Nourbakhsh, K. Norwood, H. M. Yin, C. L. Liao, and C. Y. Ng, J. Chem. Phys. 95, 5014 (1991).
2. R. E. Kenson, Chem. Eng. 94 (1981).
3. G. P. Van Durme, B. F. McNamara, and C. M. McGihley, Water Environ. Res. 64, 19 (1992).
4. T. S. Bates, B. K. Lamb, A. Guenther, J. Dignon, and R. E. Stoiber, J. Atmos. Chem. 14, 315 (1992).
5. J. E. Yocom and R. A. Duffee, Chem. Eng. 15 (1970).
6. H. Chu and K. Horng, Sci. Total Environ. 209, 149 (1998).
7. A. Turk, E. Sakalis, J. Lessuek, H. Karamitsos, and O. Rago, Environ. Sci. Technol. 23, 1242 (1989).
8. H. Chu, W. T. Lee, K. H. Horng, and T. K. Tseng, J. Hazard. Mater. B82, 43 (2001).
9. M. B. Chang, J. H. Balbach, M. J. Rood, and M. J. Kushner, J. Appl. Phys. 69, 4409 (1991).
10. T. Yamamoto, K. Ramanathan, P. A. Lawless, D. S. Ensor, J. R. Newsome, N. Plaks, and G. H. Ramsey, IEEE Trans. Ind. Appl. 28, 528 (1992).
11. J. W. Bozzelli and R. B. Barat, Plasma Chem. Plasma Process. 8, 293 (1988).
12. G. P. Miller and J. K. Baird, J. Phys. Chem. 97, 10984 (1993).
13. W. T. Liao, W. J. Lee, C. Y. Chen, L. T. Hsieh, C. C. Lai, J. Chem. Technol. Biotchnol. 75, 817 (2000).
14. Y. F. Wang, W. J. Lee, C. Y. Chen, and L. T. Hsieh, Environ. Sci. Technol. 33, 2234 (1999).
15. Y. F. Wang, W. J. Lee, C. Y. Chen, and L. T. Hsieh, Ind. Eng. Chem. Res. 38, 3199 (1999).
16. L. T. Hsieh, W. J. Lee, C. Y. Chen, P. G. Wu, S. J. Chen, and Y. F. Wang, J. Hazard. Mater. 63, 69 (1998).
17. W. J. Lee, C. Y. Chen, W. C. Lin, Y. T. Wang, and C. J. Chin, J. Hazard. Mater. 48, 51 (1996).
18. B. Eliasson, and U. Kogelschatz, IEEE Trans. Plasma Sci. 19, 1063 (1991).
19. C. H. Tsai, W. J. Lee, C. Y. Chen, and W. T. Liao, Ind. Eng. Chem. Res. 40, 2384, 2001.
20. S. W. Chiu, W. K. Li, W. B. Tzeng, and C. Y. Ng, J. Chem. Phys. 97, 6557 (1992).
21. L. A. Curtiss, R. H. Nobes, J. A. Pople, and L. Radim, J. Chem. Phys. 97, 6766 (1992).
22. K. K. Baldridge, M. S. Gordon, and D. E. Johnson, J. Phys. Chem. 91, 4145 (1987).
23. S. Rauf and M. J. Kushner, J. Appl. Phys. 82, 2805 (1997).
24. C. Y. Ng, Advances in Photochemistry, Vol. 22 (C. N. Douglas, H. V. David, and Von B. Gunther, eds.), John Wiley & Sons, Inc., 1997, p. 1.
25. G. S. Shum and S. W. Benson, Int. J. Chem. Kinet. 17, 749 (1985).
26. R. J. Cvetanovic, D. L. Singleton, and R. S. Irwin, J. Am. Chem. Soc. 103, 3530 (1981).
27. E. R. Banchereau, S. Lacombe, J. Ollivier, J. C. Micheau, and D. Lavabre, Int. J. Chem. Kinet. 29, 825 (1997).
28. Y. T. Chang and G. H. Loew, Chem. Phys. Lett. 205, 543 (1993).
29. A. Oumghar, J. C. Legrand, A. M. Diamy, and N. Turillon, Plasma Chem. Plasma Process. 15, 87 (1995).
30. C. F. Cullis and M. F. R. Mulcahy, Combust. Flame 18, 225 (1972).
31. R. Atkinson, D. L. Bauich, R. A. Cox, Jr., R. F. Hampson, J. A. Kerr, M. J. Rossi, and J. Troe, J. Phys. Chem. Ref. Data 26, 1329 (1997).
32. D. Woiki and P. Roth, Int. J. Chem. Kinet. 27, 547 (1995).
33. S. Yao, A. Nalayama, and E. Suzuki, AICh.E J. 47, 413 (2001).
34. K. Karan, A. K. Mehrotra, and L. A. Behie, Ind. Eng. Chem. Res. 37, 4609 (1998).
35. D. L. Singleton and R. J. Cvetanovic, J. Phys. Chem. Ref. Data 17, 1377 (1988).
36. P. Glarborg, D. Kubel, and K. Dam-Johnson, Int. J. Chem. Kinet. 28, 773-790 (1996).
37. P. Dagaut, D. Voisin, and M. Cathonnet, Combust. Flame 106, 62 (1996).
38. D. G. Storch and M. J. Kushner, J. Appl. Phys. 73, 51 (1993).
39. H. Oser, N. D. Stothard, R. Humpfer, and H. H. Grotheer, J. Phys. Chem. 96, 5359 (1992).
40. D. L. Bauich, C. J. Cobos, R. A. Cox, P. Frank, G. Hayman, T. H. Just, J. A. Kerr, T. Murrells, M. J. Pilling, J. Troe, R. W. Walker, and J. Warnatz, Combust. Flame 98, 59 (1994).
41. K. Saito, Y. Ueda, R. Ito, T. Kakumoto, and A. Imamura, Int. J. Chem. Kinet. 18, 871 (1986).
42. E. R. Lovejoy, T. P. Murrells, A. R. Ravishankara, and C. J. Howard, J. Phys. Chem. 94, 2386 (1990).
43. F. Yin, D. Grosjean, and J. H. Seinfeld, J. Atmos. Chem. 11, 309 (1990).
44. R. P. Stee, B. L. Kalr, and A. R. Knigh, J. Phys. Chem. 71, 783 (1967).
45. D. Martin, J. L. Jourdain, and G. Lebras, Int. J. Chem. Kinet. 20, 897 (1988).
46. R. A. Ross and S. P. Sood, Ind. Eng. Chem. Prod. Res. Dev. 16, 147 (1977).
47. W. S. Nip, D. L. Singleton, and R. J. Cvetanovic, J. Am. Chem. Soc. 103, 3526 (1981).
48. L. C. Brown and A. T. Bell, Ind. Eng. Chem. Fundam. 13, 210 (1974).
49. A. Lifshitz, M. Frenklach, P. Schechner, and H. F. Carroll, Int. J. Chem. Kinet. 7, 753 (1975).
50. A. A. Turnipseed, S. B. Barone, and A. R. Ravishankara, J. Phys. Chem. 100, 14703 (1996).