Controlling steps during early stages of the aligned growth of carbon nanotubes using microwave plasma enhanced chemical vapor deposition

Advanced Functional Materials

Volumn 12, Issue 10, 2002, Pages 687-692

  Chen, L C ^a   Wen, C Y ^a   Liang, C H ^a   Hong, W K ^b   Chen, K J ^b   Cheng, H C ^b   Shen, C S ^c   Wu, C T ^c   Chen, K H ^c  

^a NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY   (Taiwan)

^b NATIONAL CHIAO TUNG UNIVERSITY   (Taiwan)

^c INSTITUTE OF ATOMIC AND MOLECULAR SCIENCES   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

COMPOSITION; CRYSTAL GROWTH; CRYSTAL MICROSTRUCTURE; MICROSCOPIC EXAMINATION; MICROWAVES; NITROGEN; NUCLEATION; PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY;

ALIGNED GROWTH; FIELD EMISSION SCANNING ELECTRON MICROSCOPY; MICROSTRUCTURE EVOLUTION;

CARBON NANOTUBES;

EID: 0036810417     PISSN: 1616301X     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/1616-3028(20021016)12:10<687::AID-ADFM687>3.0.CO;2-3     Document Type: Article

References (30)

1. W. A. de Heer, A. Chatelain, D. Ugarte, Science 1995, 270, 1179.
2. P. G. Collins, A. Zettl, Appl. Phys. Lett. 1996, 69, 1969.
3. Y. Saito, K. Hamaguchi, T. Nishimo, K. Uchida, Y. Tasaka, F. Ikazaki, M. Yumura, A. Kasuya, Y. Nishina, Nature 1997, 389, 554.
4. Q. H. Wang, T. D. Corrigan, J. Y. Dai, R. P. H. Chang, A. R. Krauss, Appl. Phys. Lett. 1997, 70, 3308.
5. Z. F. Zen, Z. P. Huang, J. W. Xu, J. H. Wang, P. Bush, M. P. Siegal, P. N. Provencio, Science 1998, 282, 1105.
6. J.-M. Bonard, J. Salvetat, T. Stockli, W. A. de Heer, L. Forro, A. Chatelain, Appl. Phys. Lett. 1998, 73, 918.
7. S. Fan, M. G. Chapline, N. R. Franklin, T. W. Tombler, A. M. Cassell, H. Dai, Science 1999, 283, 512.
8. W. Zhu, C. Bower, O. Zhou, G. Kochanski, S. Jin, Appl. Phys. Lett. 1999, 75, 873.
9. F. G. Tarntair, L. C. Chen, S. L. Wei, W. K. Hong, K. H. Chen, H. C. Cheng. J. Vac. Sci. Technol. B 2000, 18, 1207.
10. Y. Saito, S. Uemura, K. Hamaguchi, Jpn. J. Appl. Phys. 1998, 37, L346.
11. W. B. Choi, D. S. Chung, J. H. Kang, H. Y. Kim, Y. W. Jin, I. T. Han, Y. H. Lee, J. E. Jung, N. S. Lee, G. S. Park, J. M. Kim, Appl. Phys. Lett. 1999, 75, 3129.
12. H. C. Cheng, W. K. Hong, F. G. Tarntair, K. J. Chen, J. B. Lin, K. H. Chen, L. C. Chen, Electrochem. Solid-State Lett. 2001, 4(4), H5.
13. H. C. Cheng, K. J. Chen, W. K. Hong, F. G. Tarntair, J. B. Lin, K. H. Chen, L. C. Chen, Electrochem. Solid-State Lett. 2001, 4(8), H15.
14. W. K. Hong, K. H. Chen, L. C. Chen, F. G. Tarntair, K. J. Chen, J. B. Lin, H. C. Cheng, Jpn. J. Appl. Phys. 2001, 40, 3468.
15. L. C. Chen, W. K. Hong, F. G. Tarntair, K. J. Chen, J. B. Lin, P. D. Kichambare, H. C. Cheng, K. H. Chen, New Diamond Front. Carbon Technol. 2001, 11, 249.
16. L. Nilsson, O. Groening, C. Emmenegger, O. Kuettel, E. Schaller, L Schlapbach, H. Kind, J.-M. Bonard, K. Kern, Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 2071.
17. M. Chlowalla, C. Ducati, N. L. Rupesinghe, K. B. K. Teo, G. A. J. Amaratunga, Appl. Phys. Lett. 2001, 79, 2079.
18. W. Z. Li, S. S. Xie, L. X. Qian, B. H. Chang, B. S. Zhou, R. A. Zhao, G. Wang, Science 1996, 274, 1701.
19. Y. Chen, Z. L. Wang, J. S. Yin, D. J. Johnson, R. H. Prince, Chem. Phys. Lett. 1997, 272, 178.
20. S. H. Tsai, C. W. Chao, C. L. Lee, H. C. Shih, Appl. Phys. Lett. 1999, 74, 3462.
21. Y. C. Choi, Y. M. Shin, S. C. Lim, D. J. Bae, Y. H. Lee, B. S. Lee, Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 2367.
22. Y. Chen, D. T. Shaw, Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 2469.
23. V. I. Merkulov, D. H. Lowndes, Y. Y. Wei, G. Eres, E. Voelkl, Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 3555.
24. C. Bower, W. Zhu, S. Jin, O. Zhou, Appl. Phys. Lett. 2000, 77, 830.
25. C. J. Lee, D. W. Kim, T. J. Lee, Y. C. Choi, Y. S. Park, W. S. Kim Y. H. Lee, W. B. Choi, N. S. Lee, J. M. Kim, Y. G. Choi, S. C. Yu, Appl. Phys. Lett. 1999, 75, 1721.
26. H. Cui, O. Zhou, B. R. Stoner, J. Appl. Phys. 2000, 88, 6072.
27. R. Andrews, D. Jacques, A. M. Rao, F. Derbyshire, D. Qian, X. Fan, E. C. Dickry, Chem. Phys. Lett. 1999, 303, 467.
28. R. T. K. Barker, M. A. Braber, P. S. Harries, F. S. Feates, R. J. Waite, J. Catal. 1972, 26, 51.
29. T. Baird, J. R. Fryer, Carbon 1974, 12, 591.
30. A. Oberlin, M. Endo, T. Koyama, J. Cryst. Growth 1976, 32, 335.