Ge/Si interdiffusion in the GeSi dots and wetting layers

Journal of Applied Physics

Volumn 90, Issue 8, 2001, Pages 4290-4292

  Wan, J ^a   Luo, Y H ^a   Jiang, Z M ^a   Jin, G ^a   Liu, J L ^a   Wang, Kang L ^a   Liao, X Z ^b   Zou, J ^b  

^a UNIVERSITY OF CALIFORNIA   (United States)

^b UNIVERSITY OF SYDNEY   (Australia)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0035886182     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1403667     Document Type: Article

References (19)

1. G. Jin, J. L. Liu, and K. L. Wang, Appl. Phys. Lett. 76, 3591 (2000).
2. J. Wan, G. L. Jin, Z. M. Jiang, Y. H. Luo, J. L. Liu, and K. L. Wang, Appl. Phys. Lett. 78, 1763 (2000).
3. Y. H. Luo, J. Wan, J. Yeh, and K. L. Wang, J. Electron. Mater. 30, 459 (2001).
4. K. Eberl, O. G. Schmidt, R. Duschl, O. Kienzle, E. Ernst, and Y. Rau, Thin Solid Films 369, 33 (2000).
5. C. Miesner, O. Rothig, K. Brunner, and G. Abstreiter, Appl. Phys. Lett. 76, 1027 (2000).
6. R. Leon, Y. Kim, C. Jagadish, M. Gal, J. Zou, and D. J. H. Cockayne, Appl. Phys. Lett. 69, 1888 (1996).
7. X. Liu, D. Huang, Z. Jiang, and X. Wan, Phys. Rev. B 53, 4699 (1996).
8. G. F. A. van de Walle, L. J. van Ijzendoorn, A. A. van Gorkum, R. A. van den Heuvel, A. M. L. Theunissen, and D. J. Gravesteijn, Thin Solid Films 183, 183 (1989).
9. P. Boucaud, L. Wu, C. Guedj, F. H. Julien, I. Sajnes, Y. Campidelli, and L. Garchery, J. Appl. Phys. 80, 1414 (1996).
10. H. Sunamura, S. Fukatsu, N. Usami, and Y. Shiraki, Appl. Phys. Lett. 63, 1651 (1993).
11. B. Hollander, R. Butz, and S. Mantl, Phys. Rev. B 46, 6975 (1992).
12. R. Schorer, E. Friess, K. Eberl, and G. Abstreiter, Phys. Rev. B 44, 1772 (1991).
13. S. Schieker, O. G. Schmidt, K. Eberl, N. Y. Jin-Phillipp, and F. Phillipp, Appl. Phys. Lett. 72, 3344 (1998).
14. M. I. Alonso and K. Winer, Phys. Rev. B 39, 10 056 (1989).
15. J. C. Tsang, P. M. Mooney, F. Dacol, and J. O. Chu, J. Appl. Phys. 75, 8098 (1994).
16. M. M. Rieger and P. Vogl, Phys. Rev. B 48, 14 276 (1993).
17. X. Xiao, C. W. Liu, J. C. Sturm, L. C. Lenchyshyn, M. L. W. Thewalt, R. B. Gregory, and P. Fejes, Appl. Phys. Lett. 60, 2135 (1992).
18. J. Tersoff, Phys. Rev. Lett. 81, 3183 (1999).
19. O. G. Schmidt and K. Eberl, Phys. Rev. B 61, 13 721 (2000).